CN103277645A - 承载机架 - Google Patents

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周天毫
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Abstract

本发明公开了一种承载机架，其包括长方体结构的机架，所述机架下设置有四个滚轮支架，每个所述滚轮支架上均设置有滚轮，其特征在于：所述滚轮支架上设置一水平的撑脚平台，所述撑脚平台上垂直设置一高度可调节的支撑脚。本发明的承载机架通过改进设计，将调节高度的结构设置在滚轮支架上，从而可以同时实现调节高度和移动的功能。本发明具有结构简单、使用方便等优点。

Description

承载机架
 
技术领域
本发明涉及一种承载机架，尤其是用于放置机器设备的机架。
背景技术
机架是一种用于放置机器设备的支撑结构。对于大多数机器设备，在使用时需要其所在机架的四个角高度可以调节，从而可以确保机器设备的绝对水平。对于一部分的机器设备，还希望可以移动。目前，可以移动的机架通常不可以调节四个角的高度；可以调节四个角高度的机架通常不可移动。如何设计一种结合上述两种功能的机架是本发明所要解决的技术问题。
 
发明内容
为了克服上述问题，本发明提供一种结构简单、使用方便的承载机架。
本发明的技术方案是提供一种承载机架，其包括长方体结构的机架，所述机架下设置有四个滚轮支架，每个所述滚轮支架上均设置有滚轮，其特征在于：所述滚轮支架上设置一水平的撑脚平台，所述撑脚平台上垂直设置一高度可调节的支撑脚。
优选的，所述支撑脚包括一连接在所述撑脚平台上的柱形的底座，所述底座靠下一端的外周壁上设置有外螺纹，一设置有内螺纹的套筒螺纹连接在所述底座上。
优选的，所述套筒的底部同轴设置有直径大于所述套筒直径的脚座。
优选的，所述脚座的下方设置有橡胶软垫。
优选的，所述底座穿过所述撑脚平台，所述底座靠上一端的外周壁上设置有外螺纹，其上螺纹连接紧固螺母。
优选的，所述底座焊接在所述撑脚平台上。
本发明的承载机架通过改进设计，将调节高度的结构设置在滚轮支架上，从而可以同时实现调节高度和移动的功能。本发明具有结构简单、使用方便等优点。
附图说明
图1是本发明最佳实施例的一种承载机架的结构示意图；
图2是图1中A处的放大图。
具体实施方式
下面对本发明的具体实施方式作进一步详细的描述。
如图1和图2所示，本发明的一种承载机架包括长方体框架式结构的机架10。机架10的上方用于放置机器设备，机架10下的四个角设置有四个滚轮支架12，每个滚轮支架12上均设置有滚轮14。滚轮支架12上设置一水平的撑脚平台16，撑脚平台16上垂直设置一高度可调节的支撑脚18。
高度可调节的支撑脚18的结构，有很多本领域常规的选择，例如，油缸，带销钉的滑管结构等。
本实施例中提供一种可以精细调节高度，且成本较低的支撑脚18结构。该支撑脚18包括一柱形的底座20，底座20中部是一个直径较大的台阶部22，两端直径较小，且均设置有外螺纹（未图示）。底座20上部穿过设置在撑脚平台16上的圆孔（未图示），通过螺母24固定在撑脚平台16上。底座20下部螺纹套接一套筒26，套筒26的底部同轴设置有直径大于套筒26直径的脚座28，脚座28的下方设置有橡胶软垫30。
当然，也可以直接将底座20焊接在撑脚平台16上。
这样，可以通过滚轮14来移动机架10，当移动到位后，旋转套筒26即可调节该滚轮所在角的底座20高度，从而使得底座20保持水平。
以上实施例仅为本发明其中的一种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。 

Claims (6)

1.一种承载机架，其包括长方体结构的机架，所述机架下设置有四个滚轮支架，每个所述滚轮支架上均设置有滚轮，其特征在于：所述滚轮支架上设置一水平的撑脚平台，所述撑脚平台上垂直设置一高度可调节的支撑脚。
2.根据权利要求1所述的承载机架，其特征在于：所述支撑脚包括一连接在所述撑脚平台上的柱形的底座，所述底座靠下一端的外周壁上设置有外螺纹，一设置有内螺纹的套筒螺纹连接在所述底座上。
3.根据权利要求2所述的承载机架，其特征在于：所述套筒的底部同轴设置有直径大于所述套筒直径的脚座。
4.根据权利要求3所述的承载机架，其特征在于：所述脚座的下方设置有橡胶软垫。
5.根据权利要求2-4其中之一所述的承载机架，其特征在于：所述底座穿过所述撑脚平台，所述底座靠上一端的外周壁上设置有外螺纹，其上螺纹连接紧固螺母。
6.根据权利要求2-4其中之一所述的承载机架，其特征在于：所述底座焊接在所述撑脚平台上。
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PB01 Publication
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SE01 Entry into force of request for substantive examination
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RJ01 Rejection of invention patent application after publication

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