CN103268059A - 用于浸没式光刻机的多级负压回收密封和气密封装置 - Google Patents

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CN103268059A CN2013102057349A CN201310205734A CN103268059A CN 103268059 A CN103268059 A CN 103268059A CN 2013102057349 A CN2013102057349 A CN 2013102057349A CN 201310205734 A CN201310205734 A CN 201310205734A CN 103268059 A CN103268059 A CN 103268059A
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Abstract

本发明公开了用于浸没式光刻机的多级负压回收密封和气密封装置。在浸没式光刻机中的投影物镜组和硅片之间装有由浸没单元上端盖和浸没单元下端盖组成的多级负压回收密封和气密封装置。本发明利用负压回收液体的同时,还能对液体实现密封。多级负压回收适应硅片较高的扫描速度,提高密封的效果;在浸没单元外侧采用气密封结构,在气体压力均布腔的作用下,密封气体能够很好的约束浸没液体,允许光刻系统具有更高的扫描和步进速度;负压回收密封和气密封结合使用能更好地约束浸没液体,防止浸没单元的内部液体在高速扫描时发生泄漏。

Description

用于浸没式光刻机的多级负压回收密封和气密封装置
技术领域
本发明涉及一种流场密封与注液回收装置,特别是涉及一种用于浸没式光刻机的多级负压回收密封和气密封装置。
背景技术
光刻机是制造超大规模集成电路的核心装备之一,现代光刻机以光学光刻为主,它利用光学系统把掩膜版上的图形精确地投影并曝光在涂过光刻胶的硅片上。它包括一个激光光源、一个光学系统、一块由芯片图形组成的投影掩膜版、一个对准系统和一个涂有光敏光刻胶的硅片。
浸没式光刻(Immersion Lithography)设备通过在最后一片投影物镜与硅片之间填充某种高折射率的液体,相对于中间介质为气体的干式光刻机,提高了投影物镜的数值孔径(NA),从而提高了光刻设备的分辨率和焦深。在已提出的下一代光刻机中,浸没式光刻对现有设备改动最小,对现在的干式光刻机具有良好的继承性。目前常采用的方案是局部浸没法,即将液体限制在硅片上方和最后一片投影物镜的下表面之间的局部区域内,并保持稳定连续的液体流动。在步进-扫描式光刻设备中,硅片在曝光过程中进行高速的扫描运动,这种运动会将曝光区域内的液体带离流场,从而引起泄漏,泄漏的液体会在光刻胶上形成水迹,影响曝光质量。因此,浸没式光刻技术中必须重点解决缝隙流场的密封问题。目前已有的解决方案中,有气密封和液密封两种。气密封技术是在环绕填充流场的圆周周边上,通过施加高压气体形成环形气幕,将填充液体限定在一定的圆形区域内。液密封技术是利用与填充液体不相容的第三方液体(通常是磁流体或水银等),环绕填充流场进行密封。负压回收密封则是通过回收口的负压。但是在这些密封方案中,存在以下不足:
 (1)液密封方式对密封液体有十分苛刻的要求,在确保密封性能要求的同时,还必须保证密封液体与填充液体不相互溶解、与光刻胶(或Topcoat)及填充液体不相互扩散。在衬底高速运动过程中,外界空气或密封液体一旦被卷入或溶解或扩散到填充液体中,都会对曝光质量产生负面的影响。
(2)现有的气密封方式采用气幕施加在填充流体周围,造成流场边缘的不稳定,在硅片高速步进和扫描过程中,可能导致液体泄漏及密封气体卷吸到流场中;同时,填充液体及密封气体一起回收时将形成气液两相流,由此引发振动,影响曝光系统的稳定工作。
发明内容
为了解决局部浸没式光刻技术中的缝隙流场密封问题,本发明的目的在于提供一种用于浸没式光刻机的多级负压回收密封和气密封装置,同时采用多级负压回收结构和气密封结构约束缝隙流场中的浸没液体。
本发明采用的技术方案如下:
本发明在浸没式光刻机中的投影物镜组和硅片之间设置有多级负压回收密封和气密封装置;所述多级负压回收密封和气密封装置包括浸没单元下端盖和浸没单元上端盖;其中:
1) 浸没单元下端盖:
在浸没单元下端盖中心开有下小上大的90°锥形通孔,沿浸没单元下端盖的90°锥形通孔向外,在浸没单元下端盖的上端面上开有一个环状的下端盖液体主回收腔,下端盖液体主回收腔内开有沿圆周方向均匀分布的下端盖液体主回收孔阵列,下端盖液体主回收腔向外在浸没单元下端盖的上端面上开有下端盖液体二级回收腔,在下端盖液体二级回收腔内部开有沿圆周方向均匀分布的下端盖液体二级回收孔阵列,下端盖液体二级回收腔向外开有下端盖液体三级回收腔,在下端盖液体三级回收腔内部开有沿圆周方向均匀分布的下端盖液体三级回收孔阵列,下端盖液体三级回收腔向外开有下端盖注气腔,在下端盖注气腔内部开有沿圆周方向均匀分布的下端盖注气孔阵列,向下在浸没单元下端盖的下端面上开有气体压力均布腔,气体压力均布腔向上与下端盖注气孔阵列相连通;
2) 浸没单元上端盖:
在浸没单元上端盖中心开有下小上大的90°锥形通孔,沿浸没单元上端盖90°锥形通孔向外,在浸没单元上端盖的下端面上开有一个环状的上端盖注液腔,上端盖注液腔向外在浸没单元上端盖的下端面上开有两个对称的上端盖注液槽,并与上端盖注液腔连通,上端盖注液槽向外在浸没单元上端盖的下端面上开有上端盖第一密封沟槽,上端盖第一密封沟槽向外在浸没单元上端盖的下端面上开有两个上端盖主回收槽,上端盖主回收槽向外在浸没单元上端盖的下端面上开有上端盖第二密封沟槽,上端盖第二密封沟槽向外在浸没单元上端盖的下端面上开有两个上端盖二级回收槽,上端盖二级回收槽向外在浸没单元上端盖的下端面上开有上端盖第三密封沟槽,上端盖第三密封沟槽向外在浸没单元上端盖的下端面上开有两个上端盖三级回收槽,上端盖三级回收槽向外在浸没单元上端盖的下端面上开有上端盖第四密封沟槽,上端盖第四密封沟槽向外在浸没单元上端盖的下端面上开有两个上端盖注气槽;上端盖第一密封沟槽、上端盖第二密封沟槽、上端盖第三密封沟槽和上端盖第四密封沟槽内分别放置密封圈;
在浸没单元上端盖的一外侧开有第一上端盖注液管道、第一上端盖主回收管道、第一上端盖二级回收管道、第一上端盖三级回收管道、第一上端盖注气管道,在浸没单元上端盖的另一外侧开有第二上端盖注液管道、第二上端盖主回收管道、第二上端盖二级回收管道、第二上端盖三级回收管道、第二上端盖注气管道;两个上端盖主回收槽分别与第一上端盖注液管道和第二上端盖注液管道连通;两个上端盖主回收槽分别与第一上端盖主回收管道和第二上端盖主回收管道连通;两个上端盖二级回收槽分别与第一上端盖二级回收管道和第二上端盖二级回收管道连通;两个上端盖三级回收槽分别与第一上端盖三级回收管道和第二上端盖三级回收管道连通;两个上端盖注气槽分别与第一上端盖注气管道和第二上端盖注气管道连通;第一上端盖注液管道、第一上端盖主回收管道、第一上端盖二级回收管道、第一上端盖三级回收管道、第一上端盖注气管道和第二上端盖注液管道、第二上端盖主回收管道、第二上端盖二级回收管道、第二上端盖三级回收管道、第二上端盖注气管道用于连接外部管道,将浸没流体从浸没单元内部引入和引出;
所述的浸没单元下端盖和浸没单元上端盖的接触面均为环形平面,并通过螺钉紧固连接。
所述的上端盖注液腔与浸没单元下端盖的90°锥形通孔相连通,下端盖液体主回收腔向上与两个上端盖主回收槽相连通,下端盖液体二级回收腔向上与两个上端盖二级回收槽相连通,下端盖液体三级回收腔向上与两个上端盖三级回收槽相连通,下端盖注气腔向上与两个上端盖注气槽相连通。
本发明具有的有益效果是:
1.负压回收装置在回收液体的同时,还具有束缚液体的能力,即能对液体实现密封。多级负压回收可以适应硅片较高的扫描速度,使浸没单元在扫描速度较高时仍不发生液体泄漏,从而提高密封的效果。
2.在浸没单元外侧采用气密封结构,在气体压力均布腔的作用下,密封气体的流速会降低,压力增大,从而能够很好的约束浸没液体,允许光刻系统具有更高的扫描和步进速度。
3.本装置具有两级密封功能,即多级负压回收结构和气密封结构密封缝隙流场中的液体,两者结合使用能更好地约束浸没液体,防止浸没单元的内部液体在高速扫描时发生泄漏。
附图说明
图1是本发明与投影透镜组相装配的简化示意图。
图2是本发明多级负压回收密封和气密封装置爆炸剖面图。
图3是本发明的浸没单元下端盖的仰视图
图4是浸没单元下端盖的俯视图。
图5是浸没单元上端盖的立体视图。
图6是本发明的半剖视图。
图中:1、投影透镜组,2、多级负压回收密封和气密封装置,2A、浸没单元下端盖,2B、浸没单元上端盖,3、硅片,3B、上端盖注液槽,3C、上端盖注液腔,3E、第一上端盖注液管道,3F、第二上端盖注液管道,4A、下端盖液体主回收孔阵列,4B、上端盖主回收槽,4C、下端盖液体主回收腔,4E、第一上端盖主回收管道,4F、第二上端盖主回收管道,5A、下端盖液体二级回收孔阵列,5B、上端盖二级回收槽,5C、下端盖液体二级回收腔,5E、第一上端盖二级回收管道,5F、第二上端盖二级回收管道, 6A、下端盖液体三级回收孔阵列,6B、上端盖三级回收槽,6C、下端盖液体三级回收腔,6E、第一上端盖三级回收管道,6F、第二上端盖三级回收管道,7A、下端盖注气孔阵列,7B、上端盖注气槽,7C、下端盖注气腔,7D、气体压力均布腔,7E、第一上端盖注气管道,7F、第二上端盖注气管道, 8B、上端盖第一密封沟槽,8C、上端盖第一密封圈,9B、上端盖第二密封沟槽,9C、上端盖第二密封圈,10B、上端盖第三密封沟槽,10C、上端盖第三密封圈,11、浸没液体, 11B、上端盖第四密封沟槽,11C、上端盖第四密封圈。
具体实施方式
下面结合附图和实施例详细说明本发明的具体实施过程。
如图1所示,多级负压回收密封和气密封装置2安装在投影物镜组1和硅片3之间,多级负压回收密封和气密封装置2开有90°锥形通孔,多级负压回收密封和气密封装置2的主要功能是将浸没液体11限制在投影物镜组1的正下方,从投影物镜组1发出的光线穿过多级负压回收密封和气密封装置2的90°锥形通孔后进入缝隙流场,即要经过浸没液体11照射在硅片3上,完成曝光过程,浸没液体的折射率要比空气高,从而能够提高光刻系统的数值孔径和分辨率。所述多级负压回收密封和气密封装置2包括浸没单元下端盖2A和浸没单元上端盖2B;其中:
1) 浸没单元下端盖2A:
如图2、图3、图4所示,在浸没单元下端盖2A中心开有下小上大的90°锥形通孔,沿浸没单元下端盖2A的90°锥形通孔向外,在浸没单元下端盖2A的上端面上开有一个环状的下端盖液体主回收腔4C,下端盖液体主回收腔4C内开有沿圆周方向均匀分布的下端盖液体主回收孔阵列4A,下端盖液体主回收腔4C向外在浸没单元下端盖2A的上端面上开有下端盖液体二级回收腔5C,在下端盖液体二级回收腔5C内部开有沿圆周方向均匀分布的下端盖液体二级回收孔阵列5A,下端盖液体二级回收腔5C向外开有下端盖液体三级回收腔6C,在下端盖液体三级回收腔6C内部开有沿圆周方向均匀分布的下端盖液体三级回收孔阵列6A,下端盖液体三级回收腔6C向外开有下端盖注气腔 7C,在下端盖注气腔7C内部开有沿圆周方向均匀分布的下端盖注气孔阵列7A,向下在浸没单元下端盖2A的下端面上开有气体压力均布腔7D,气体压力均布腔7D向上与下端盖注气孔阵列7A相连通。
2) 浸没单元上端盖2B:
如图2、图5所示,在浸没单元上端盖2B中心开有下小上大的90°锥形通孔,沿浸没单元上端盖2B的90°锥形通孔向外,在浸没单元上端盖2B的下端面上开有一个环状的上端盖注液腔3C,上端盖注液腔3C向外在浸没单元上端盖2B的下端面上开有两个对称的上端盖注液槽3B,并与上端盖注液腔3C连通,上端盖注液槽3B向外在浸没单元上端盖2B的下端面上开有上端盖第一密封沟槽8B,上端盖第一密封沟槽8B向外在浸没单元上端盖2B的下端面上开有两个上端盖主回收槽4B,上端盖主回收槽4B向外在浸没单元上端盖2B的下端面上开有上端盖第二密封沟槽9B,上端盖第二密封沟槽9B向外在浸没单元上端盖2B的下端面上开有两个上端盖二级回收槽5B,上端盖二级回收槽5B向外在浸没单元上端盖2B的下端面上开有上端盖第三密封沟槽10B,上端盖第三密封沟槽10B向外在浸没单元上端盖2B的下端面上开有两个上端盖三级回收槽6B,上端盖三级回收槽6B向外在浸没单元上端盖2B的下端面上开有上端盖第四密封沟槽11B,上端盖第四密封沟槽11B向外在浸没单元上端盖2B的下端面上开有两个上端盖注气槽7B;上端盖第一密封沟槽8B、上端盖第二密封沟槽9B、上端盖第三密封沟槽10B和上端盖第四密封沟槽11B内分别放置密封圈;
两个上端盖注液槽3B、两个上端盖主回收槽4B、两个上端盖二级回收槽5B、两个上端盖三级回收槽6B、两个上端盖注气槽7B 均分别通过各自的管道与外部管路连接,管道开在浸没单元上端盖2B的内部,孔口开在浸没单元上端盖2B的侧面处,各个管道向内与各自的槽相连接,向外与外部管路连接,并且要求各个管道相互独立,所有管道具有连接浸没单元上端盖2B内部槽和外部管路的功能。外部管路包括液体注入管路、液体主回收管路、液体二级回收管路、液体三级回收管路、气体注入管路,液体注入管路完成液体注入功能,液体主回收管路、液体二级回收管路和液体三级回收管路完成浸没单元的液体回收功能,气体注入管路完成气体注入功能。
如图5、图6所示,在浸没单元上端盖2B的一外侧开有第一上端盖注液管道3E、第一上端盖主回收管道4E、第一上端盖二级回收管道5E、第一上端盖三级回收管道6E、第一上端盖注气管道7E,在浸没单元上端盖2B的另一外侧开有第二上端盖注液管道3F、第二上端盖主回收管道4F、第二上端盖二级回收管道5F、第二上端盖三级回收管道6F、第二上端盖注气管道7F;两个上端盖主回收槽3B分别与第一上端盖注液管道3E和第二上端盖注液管道3F连通;两个上端盖主回收槽4B分别与第一上端盖主回收管道4E和第二上端盖主回收管道4F连通;两个上端盖二级回收槽5B分别与第一上端盖二级回收管道5E和第二上端盖二级回收管道5F连通;两个上端盖三级回收槽6B分别与第一上端盖三级回收管道6E和第二上端盖三级回收管道6F连通;两个上端盖注气槽7B分别与第一上端盖注气管道7E和第二上端盖注气管道7F连通;
所述的浸没单元上端盖2B与浸没单元下端盖2A紧贴在一起,结合处为环形平面,这些环形平面将上端盖注液腔、下端盖液体主回收腔、下端盖液体二级回收腔、下端盖液体三级回收腔和注气腔分隔离开来,在浸没单元外部使用螺钉紧固连接。
如图6所示,所述上端盖注液腔3C与浸没单元下端盖2A的90°锥形通孔相连通,下端盖液体主回收腔4C向上与两个上端盖主回收槽4B相连通,下端盖液体二级回收腔5C向上与两个上端盖二级回收槽5B相连通,下端盖液体三级回收腔6C向上与两个上端盖三级回收槽6B相连通,两个上端盖注气槽7B与浸没单元下端盖2A的下端盖注气腔7C相连通。
从上面的叙述中可以看出,浸没液体分别经过浸没单元上端盖2B中的第一上端盖注液管道3E和第二上端盖注液管道3F,以及两个上端盖注液槽3B、浸没单元上端盖2B中的上端盖注液腔3C、多级负压回收密封和气密封装置2和投影物镜1之间的间隙依次向下流过,即浸没流体经过从上到下相连通的两个独立的内部管路,从而能够实现液体从外部管路向底部缝隙流场的输送。
如图2、图6所示,下端盖液体主回收孔阵列4A、下端盖液体主回收腔4C、两个上端盖主回收槽4B分别与浸没单元上端盖2B中的第一上端盖主回收管道4E和第二上端盖主回收管道4F依次相互连接组成液体主回收通路。在和液体主回收槽3B相连通的第一上端盖主回收管道4E和第二上端盖主回收管道4F加上负压后,当缝隙流场中的液体流经液体主回收孔阵列4A时,浸没液体11便会在负压的作用下向上进入下端盖液体主回收孔阵列4A的微孔内,并且继续向上流经下端盖液体主回收腔4C,进入浸没单元上端盖2B内部的两个上端盖主回收槽4B和第一上端盖主回收管道4E、第二上端盖主回收管道4F,被外部管路回收出去。
下端盖液体二级回收孔阵列5A、下端盖液体二级回收腔5C、两个上端盖二级回收槽5B分别与浸没单元上端盖2B中的第一上端盖二级回收管道5E和第二上端盖二级回收管道5F依次相互连接组成液体二级回收通路。在和液体二级回收槽5B相连通的第一上端盖二级回收管道5E和第二上端盖二级回收管道5F加上负压后,当缝隙流场中的液体流经液体二级回收孔阵列5A时,浸没液体11便会在负压的作用下向上进入液体二级回收孔阵列5A的微孔内,并且继续向上流经下端盖液体二级回收腔5C,进入浸没单元上端盖2B内部的两个上端盖二级回收槽5B和第一上端盖二级回收管道5E、第二上端盖二级回收管道5F,被外部管路回收出去。
下端盖液体三级回收孔阵列6A、下端盖液体三级回收腔6C、两个上端盖三级回收槽6B分别与浸没单元上端盖2B中的第一上端盖三级回收管道6E和第二上端盖三级回收管道6F依次相互连接组成液体三级回收通路。在和液体三级回收槽6B相连通的第一上端盖三级回收管道6E和第二上端盖二级回收管道6F加上负压后,当缝隙流场中的液体流经液体三级回收孔阵列6A时,浸没液体11便会在负压的作用下向上进入液体三级回收孔阵列6A的微孔内,并且继续向上流经下端盖液体三级回收腔6C,进入浸没单元上端盖2B内部的两个上端盖三级回收槽6B和第一上端盖三级回收管道6E、第二上端盖三级回收管道6F,被外部管路回收出去。
上端盖注气槽7B和下端盖注气腔7C通过端面紧贴,使得浸没单元上端盖2B的第一上端盖注气管道7E、第二上端盖注气管道7F分别和上端盖注气槽7B、下端盖注气腔7C、注气孔阵列7A、气体压力均布腔7D依次相互连接组成气体注入通路,气体便能够从上到下被送入气体压力均布腔7D,完成密封气体的输送。
本发明的工作原理如下:
如图1所示,给出了多级负压回收密封和气密封装置2在光刻系统中的位置。曝光过程中,光线通过掩模板、投影物镜组1和由浸没液体填充形成的缝隙流场11,照射在硅片3的光刻胶上,对硅片3进行曝光,将掩模版上的图形准确的转移到硅片的光刻胶上。浸没单元上端盖2B连接在位姿调整机构上,用于调整多级负压回收密封和气密封装置2的空间位置和姿态。
硅片静止时,管路中的液体分别通过浸没单元上端盖2B内部的第一上端盖注液管道3E和第二上端盖注液管道3F流入两个注液槽3B,随后流入浸没单元上端盖2B中的上端盖注液腔3C,通过上端盖注液腔向下流入多级负压回收密封和气密封装置2和投影物镜1之间的间隙,从而将浸没液体注入缝隙流场,在第一上端盖注液管道3E和第二上端盖注液管道3F的共同作用下,浸没液体11会填充在最后一片投影物镜和硅片3组成的间隙中,形成缝隙流场,随着液体的继续填充,液体会向四周扩散,向外会遇到圆周分布的下端盖液体主回收孔阵列4A处。
在浸没单元上端盖2B中的第一上端盖主回收管道4E和第二上端盖主回收管道4F加上负压,浸没液体便会在负压的作用下,向上依次通过下端盖液体主回收孔阵列4A、下端盖液体主回收腔4C、上端盖主回收槽4B,然后进入浸没单元上端盖2B中的第一上端盖主回收管道4E和第二上端盖主回收管道4F,通过与第一上端盖主回收管道4E、第二上端盖主回收管道4F相连接的外部管路被回收出去。在上端盖第一密封沟槽8B中放入上端盖第一密封圈8C,通过与浸没单元下端盖2A上端面的贴合便能够对各级液体回收管路进行密封。
随着扫描速度的增大,回收过程中会有部分液体不能被主回收管路回收,将会向外部流动,进入二级回收管路内。浸没液体在第一上端盖二级回收管道5E和第二上端盖二级回收管道5F中的负压作用下,向上依次通过液体二级回收孔阵列5A、下端盖液体二级回收腔5C、上端盖二级回收槽5B,然后进入浸没单元上端盖2B中的第一上端盖二级回收管道5E和第二上端盖二级回收管道5F,通过与第一上端盖二级回收管道5E、第二上端盖二级回收管道5F相连接的外部管路被回收出去。在上端盖第二密封沟槽9B中放入上端盖第二密封圈9C,通过与浸没单元下端盖2A上表面的贴合便能够对各级液体回收管路进行密封。
当浸没液体不能被二级回收管路完全回收时,将会有部分液体向外部流动,进入三级回收管路内。浸没液体在第一上端盖三级回收管道6E和第二上端盖三级回收管道6F中的负压作用下,向上依次通过液体三级回收孔阵列6A、下端盖液体三级回收腔6C、上端盖三级回收槽6B,然后进入浸没单元上端盖2B中的第一上端盖三级回收管道6E和第二上端盖三级回收管道6F,通过与第一上端盖三级回收管道6E和第二上端盖三级回收管道6F相连接的外部管路被回收出去。在上端盖第三密封沟槽10B中放入上端盖第三密封圈10C,通过与浸没单元下端盖2A上表面的贴合便能够对各级液体回收管路进行密封。
三级回收管道的外部是气密封结构,从浸没单元上端盖2B中的第一上端盖注气管道7E、第二上端盖注气管道7F中进入的密封气体以一定的压力分别进入两个上端盖注气槽7B,进而通过下端盖注气腔7C、向下进入注气孔阵列7A和气体压力均布腔7D,在气体压力均布腔7D内密封气体流速降低,从而能够提高气体压力,密封气体组成环形气幕,阻碍从液体回收管道中的液体向外泄漏。
从上面的分析可以看出,多级负压回收结构和气密封结构能够适应不同扫描速度对浸没液体进行密封。扫描速度较低时,在气密封口和液体主回收口的作用下,浸没液体能被很好地密封。随着扫描速度的提高,二级回收口、三级回收口相继发挥作用,从而密封浸没液体而不发生泄漏。
上述具体实施方式用来解释说明本发明,而不是对本发明进行限制,在本发明的精神和权利要求的保护范围内,对本发明作出的任何修改和改变,都落入本发明的保护范围。

Claims (2)

1.一种用于浸没式光刻机的多级负压回收密封和气密封装置,在浸没式光刻机中的投影物镜组(1)和硅片(3)之间设置有多级负压回收密封和气密封装置(2);其特征在于:所述多级负压回收密封和气密封装置(2)包括浸没单元下端盖(2A)和浸没单元上端盖(2B);其中:
1) 浸没单元下端盖(2A):
在浸没单元下端盖(2A)中心开有下小上大的90°锥形通孔,沿浸没单元下端盖(2A)的90°锥形通孔向外,在浸没单元下端盖(2A)的上端面上开有一个环状的下端盖液体主回收腔(4C),下端盖液体主回收腔(4C)内开有沿圆周方向均匀分布的下端盖液体主回收孔阵列(4A),下端盖液体主回收腔(4C)向外在浸没单元下端盖(2A)的上端面上开有下端盖液体二级回收腔(5C),在下端盖液体二级回收腔(5C)内部开有沿圆周方向均匀分布的下端盖液体二级回收孔阵列(5A),下端盖液体二级回收腔(5C)向外开有下端盖液体三级回收腔(6C),在下端盖液体三级回收腔(6C)内部开有沿圆周方向均匀分布的下端盖液体三级回收孔阵列(6A),下端盖液体三级回收腔(6C)向外开有下端盖注气腔 (7C),在下端盖注气腔(7C)内部开有沿圆周方向均匀分布的下端盖注气孔阵列(7A),向下在浸没单元下端盖(2A)的下端面上开有气体压力均布腔(7D),气体压力均布腔(7D)向上与下端盖注气孔阵列(7A)相连通;
2) 浸没单元上端盖(2B):
在浸没单元上端盖(2B) 中心开有下小上大的90°锥形通孔,沿浸没单元上端盖(2B)的90°锥形通孔向外,在浸没单元上端盖(2B)的下端面上开有一个环状的上端盖注液腔(3C),上端盖注液腔(3C)向外在浸没单元上端盖(2B)的下端面上开有两个对称的上端盖注液槽(3B),并与上端盖注液腔(3C)连通,上端盖注液槽(3B)向外在浸没单元上端盖(2B)的下端面上开有上端盖第一密封沟槽(8B),上端盖第一密封沟槽(8B)向外在浸没单元上端盖(2B)的下端面上开有两个上端盖主回收槽(4B),上端盖主回收槽(4B)向外在浸没单元上端盖(2B)的下端面上开有上端盖第二密封沟槽(9B),上端盖第二密封沟槽(9B)向外在浸没单元上端盖(2B)的下端面上开有两个上端盖二级回收槽(5B),上端盖二级回收槽(5B)向外在浸没单元上端盖(2B)的下端面上开有上端盖第三密封沟槽(10B),上端盖第三密封沟槽(10B)向外在浸没单元上端盖(2B)的下端面上开有两个上端盖三级回收槽(6B),上端盖三级回收槽(6B)向外在浸没单元上端盖(2B)的下端面上开有上端盖第四密封沟槽(11B),上端盖第四密封沟槽(11B)向外在浸没单元上端盖(2B)的下端面上开有两个上端盖注气槽(7B);上端盖第一密封沟槽(8B)、上端盖第二密封沟槽(9B)、上端盖第三密封沟槽(10B)和上端盖第四密封沟槽(11B)内分别放置密封圈;
在浸没单元上端盖(2B)的一外侧开有第一上端盖注液管道(3E)、第一上端盖主回收管道(4E)、第一上端盖二级回收管道(5E)、第一上端盖三级回收管道(6E)、第一上端盖注气管道(7E),在浸没单元上端盖(2B)的另一外侧开有第二上端盖注液管道(3F)、第二上端盖主回收管道(4F)、第二上端盖二级回收管道(5F)、第二上端盖三级回收管道(6F)、第二上端盖注气管道(7F);两个上端盖主回收槽(3B)分别与第一上端盖注液管道(3E)和第二上端盖注液管道(3F)连通;两个上端盖主回收槽(4B)分别与第一上端盖主回收管道(4E)和第二上端盖主回收管道(4F)连通;两个上端盖二级回收槽(5B)分别与第一上端盖二级回收管道(5E)和第二上端盖二级回收管道(5F)连通;两个上端盖三级回收槽(6B)分别与第一上端盖三级回收管道(6E)和第二上端盖三级回收管道(6F)连通;两个上端盖注气槽(7B)分别与第一上端盖注气管道(7E)和第二上端盖注气管道(7F)连通;第一上端盖注液管道(3E)、第一上端盖主回收管道(4E)、第一上端盖二级回收管道(5E)、第一上端盖三级回收管道(6E)、第一上端盖注气管道(7E)和第二上端盖注液管道(3F)、第二上端盖主回收管道(4F)、第二上端盖二级回收管道(5F)、第二上端盖三级回收管道(6F)、第二上端盖注气管道(7F)用于连接外部管道,将浸没流体从浸没单元内部引入和引出;
所述的浸没单元下端盖(2A)和浸没单元上端盖(2B)的接触面均为环形平面,并通过螺钉紧固连接。
2.根据权利要求1所述的一种用于浸没式光刻机的多级负压回收密封和气密封装置,其特征在于:所述的上端盖注液腔(3C)与浸没单元下端盖(2A)的90°锥形通孔相连通,下端盖液体主回收腔(4C)向上与两个上端盖主回收槽(4B)相连通,下端盖液体二级回收腔(5C)向上与两个上端盖二级回收槽(5B)相连通,下端盖液体三级回收腔(6C)向上与两个上端盖三级回收槽(6B)相连通,下端盖注气腔(7C)向上与两个上端盖注气槽(7B)相连通。
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