CN103264247A - 旋转焊接治具 - Google Patents

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徐德明
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Abstract

本发明公开了一种旋转焊接治具,其包括工作台,其特征在于:所述工作台的上表面上可转动地设置有支架,所述支架的顶部设置有水平延伸的横梁,所述横梁上设置有贯穿的焊枪固定孔。本发明的旋转焊接治具利用一个旋转的支架进行两处焊接点的定位,从而方便快速地进行两次焊接。相对于传统的人工定位的方式,本发明具有定位精确、效率高等优点。

Description

旋转焊接治具
 
技术领域
本发明涉及一种旋转焊接治具,尤其是用于在一个工件上有多个焊接点的焊接治具。
背景技术
焊接工件时,通常一个工件上具有多个焊接点。人工焊接时,需要焊接完一个点后,移动并定位到下一个点。这个移动和定位所需要的时间较长,增加了操作工的工作量,而且定位的精度通常较差。如何解决这个问题是目前亟待解决的技术问题。
 
发明内容
为了克服上述问题,本发明提供一种结构简单、效率高、定位精度高的旋转焊接治具。
本发明的技术方案是提供一种旋转焊接治具,其包括工作台,其特征在于:所述工作台的上表面上可转动地设置有支架,所述支架的顶部设置有水平延伸的横梁,所述横梁上设置有贯穿的焊枪固定孔。
优选的,所述工作台上设置有长方体的定位块。
优选的,所述工作台上还设置有垂直于所述工作台的上表面的圆柱形的定位柱。
优选的,所述支架为圆柱形。
优选的,所述工作台上设置一半包覆在所述支架外的限位块,所述限位块的截面为弧形。
优选的,所述支架的外周壁上设置一突出于所述支架的限位柱。
优选的,所述支架上设置一平行于所述工作台上表面的贯通的通孔,所述限位柱穿过所述通孔设置在所述通孔中。
本发明的旋转焊接治具利用一个旋转的支架进行两处焊接点的定位,从而方便快速地进行两次焊接。相对于传统的人工定位的方式,本发明具有定位精确、效率高等优点。
附图说明
图1是本发明最佳实施例的一种旋转焊接治具的正视图;
图2是图1的俯视图;
图3是图1中A向视图。
具体实施方式
下面对本发明的具体实施方式作进一步详细的描述。
如图1所示,本发明的一种旋转焊接治具包括工作台10,工作台10正常放置时,其上表面是用于进行焊接工作的工作面12。
工作台10的上表面上设置有圆形孔洞(未图示),其内通过轴承(未图示)活动设置圆柱形的支架14,支架14可以绕自身轴线旋转。支架14的顶部设置有水平延伸的横梁16,横梁16上设置有贯穿的焊枪固定孔18。
工作台10上设置有长方体的定位块20和圆柱形的定位柱22,用于给工件定位。
这样,就可以将工件(未图示)定位在工作台10上,焊枪(未图示)设置在焊枪固定孔18中,通过旋转支架14,从而快速进行多个位置的焊接工作。
当然,还可以进一步地增加限位结构,以便进行焊枪的快速定位,如: 
在工作台10上设置一半包覆在支架14外的限位块24,限位块24的截面为弧形。在支架14上设置一平行于工作台10上表面的贯通的通孔(未图示),限位柱26穿过通孔设置在通孔中。
这样在旋转支架14时,限位柱26会抵靠到限位块24边缘,从而限制支架14的旋转,实现定位。
以上实施例仅为本发明其中的一种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本发明的保护范围。因此,本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。 

Claims (7)

1. 一种旋转焊接治具,其包括工作台,其特征在于:所述工作台的上表面上可转动地设置有支架,所述支架的顶部设置有水平延伸的横梁,所述横梁上设置有贯穿的焊枪固定孔。
2.根据权利要求1所述的旋转焊接治具,其特征在于:所述工作台上设置有长方体的定位块。
3.根据权利要求2所述的旋转焊接治具,其特征在于:所述工作台上还设置有垂直于所述工作台的上表面的圆柱形的定位柱。
4.根据权利要求3所述的旋转焊接治具,其特征在于:所述支架为圆柱形。
5.根据权利要求4所述的旋转焊接治具,其特征在于:所述工作台上设置一半包覆在所述支架外的限位块,所述限位块的截面为弧形。
6.根据权利要求5所述的旋转焊接治具,其特征在于:所述支架的外周壁上设置一突出于所述支架的限位柱。
7.根据权利要求5所述的旋转焊接治具,其特征在于:所述支架上设置一平行于所述工作台上表面的贯通的通孔,所述限位柱穿过所述通孔设置在所述通孔中。
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C12 Rejection of a patent application after its publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

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