CN103214187B - 一种万向气体支撑机构 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种新型万向气体支撑机构，包括：基板，内部加工有通气管道。基板上规则排布有万向气体支撑柱阵列；所述万向气体支撑柱包括：球体；上部设有与外部连通的球冠腔室且内部设有贯通通孔同时下部与基板通气管道联接的柱体，所述球体置于所述球冠腔室内。根据本发明的新型气体支撑机构，输入气体通过基板通气管道及万向气体支撑柱内通孔，输入球冠腔室，使球体浮起，起到支撑作用；同时，球体可以任意方向转动，使球体和工件之间摩擦为滚动摩擦，降低相对位移时摩擦造成的磨损；球体材质可具有弹性，进一步降低了接触工件出现位移时由摩擦造成的损伤，同时可以提供精确设定压力。

Description

一种万向气体支撑机构

技术领域

本发明涉及支撑装置领域，尤其是涉及一种气体支撑机构。

背景技术

ITO(IndiumTinOxides，铟锡氧化物)是铟锡氧化物的英文缩写，它是一种透明的导电体，通常厚度只有几千埃，在所有在透明导电体中，其具有特别优良的性能：高的可见光透过率，高的红外反射率，良好的机械强度和化学稳定性，用酸溶液等湿法刻蚀工艺能很容易形成一定的电极图极，制备相对比较容易等，这使它广泛用于各种电子及光电子器件，如手机和电脑等平板显示领域。因此，对ITO薄膜玻璃的表面质量要求非常高。

20世纪90年代初，随着LCD器件的飞速发展，对ITO薄膜产品的需求量也是急剧的增加，国内部分厂家纷纷开始从国外引进一系列整厂ITO镀膜生产线，但由于进口设备的价格昂贵，技术服务不方便等因素，使许多厂商还是望而却步。

80年代末，中国诞生了第一条TN-LCD用ITO连续镀膜生产线。90年代中期，随着国内LCD产业的发展，对ITO产品的需求量增大的同时，对产品的质量有了新的要求，因此出现了第二代ITO镀膜生产线。99年，有效的解决了射频磁控溅射沉积SiO2薄膜的沉积速率慢影响生产线的产能和设备的利用率等一系列问题，同时出现了第三代大型高档ITO薄膜生产线。随着反射式LCD，增透式LCD、LCOS图影机背投电视等显示器件的发展，对ITO薄膜产品提出了更高的要求，SiO2/ITO两层膜结构的ITO薄膜材料满足不了使用的需要，而比须采用多层复合膜系已达到产品的高反射性、或高透过率等光学性能要求。积累多年的设计开发经验，国内生产企业推出了第四代大型多层薄膜生产线。该生产线由15个真空室组成，采用全分子泵无油真空系统、使用了RF/MF/DC三种磁控溅射工艺、通过PEM/PCV进行工艺气体的控制。该生产线具有连续沉积五层薄膜的能力。

随着PDA、电子书等触摸式输入电子产品的悄然兴起，相应材料的制成设备也应运而生。由于触摸式产品工作原理的特殊性，其所需的ITO薄膜必须是在柔性材料（PET）上制成的，薄膜的沉积温度不能太高（小于120℃），同时要求ITO膜层较薄、面电阻高而且均匀，所以对ITO薄膜的沉积工艺提出了严格的要求。

随着对ITO薄膜制作工艺要求的进一步苛刻，对ITO薄膜制品在加工、处理、运输过程中，有着更加严格的要求。

早期的ITO膜玻璃均为单面镀膜，随着iphone手机等设备的出现越来越多地采用双面ITO膜玻璃。在ITO薄膜玻璃制备、加工领域中，使用的支撑机构大多比较粗糙，很多直接使用支撑平台，不仅增大轻薄的ITO薄膜玻璃与平台的接触面，容易沾上较多的灰尘，而且也容易在ITO薄膜玻璃与支撑平台发生相对位移时，发生摩擦，造成ITO薄膜玻璃表面划伤，同时在取放时也不是非常方便。鉴于此，在降低轻薄ITO薄膜制品与接触面之间的多少和摩擦，以减少可能造成的表面污染和可能发生的相对移动时造成的损伤，成为一种理想的选择。

发明内容

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本发明的一个目的在于提出一种新型万向气体支撑机构，所述新型万向气体支撑机构可降低工件与接触球体之间的摩擦力，降低两者之间的磨损，允许球体与接触件任意方向都可以存在位移，并且以提供精确的预定压力；同时，还可以减少工件接触表面，降低可能存在的污染。

根据本发明实施例的一种新型万向气体支撑机构，包括：基板，内部加工有通气管道；排布在基板上的万向气体支撑柱阵列；所述万向气体支撑柱，包括球体，气体支撑柱体。

根据本发明实施例的新型万向气体支撑机构，输入的气体由气压装置通过与之相联的基板内设的通气管道，经气体支撑柱体内设的通孔输入气体支撑柱体上部的球冠腔室，对置于柱体上部球冠腔室的球体施加压力，使球体上浮，向外传递支撑力；且球体可以进行任意方向转动，可降低球体与和球体相接触的接触件之间存在的摩擦力，大大降低了和球体相接触的接触件的磨损；同时，由于球体与ITO薄膜玻璃为点接触，不会形成较大接触面，对可能存在的污染起了明显的预防作用。

所述新型万向气体支撑机构还包括气压调节装置，所述气压调节装置与基板通气管道相联。

所述万向气体支撑柱阵列规则排布于所述基板上。

其中可选地，所述万向气体支撑柱阵列可以以相同规则排布于所述基板上。

优选地，所述万向气体支撑柱阵列可以以错位排列规则排布于所述基板上。

由于万向气体支撑柱阵列规则排列，因此轻薄的ITO薄膜玻璃能够收到均匀的支撑力，具有更好的受力效果；以错位排列规则排布于基板上，可以进一步改善以相同规则排布与基板上产生的受力效果；同时，阵列排布规则中的横向间距、纵向间距都可以根据具体状况进行调节。

另外，根据本发明的新型万向气体支撑机构还具有如下附加技术特征：

所述气体支撑柱体，上部设有与外部连通的球冠腔室且内部设有贯通通孔，同时下部与基板通气管道联接，所述球体置于所述球冠腔室内。

所述气体支撑柱体下部与所述基板通气管道以螺纹方式联接。

所述通孔贯通所述柱体，连通所述部件腔室和所述球冠腔室。

由于采用螺纹方式进行连接，可以方便的对气体支撑柱进行拆卸更换。

本发明的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本发明的实践了解到。

附图说明

本发明的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1为根据本发明一个实施例的新型万向气体支撑机构的剖视图；

图2为根据本发明一个实施例的新型万向气体支撑机构气体支撑柱阵列相同规则排布的示意图；

图3为根据本发明一个实施例的新型万向气体支撑机构气体支撑柱阵列错位规则排布的示意图；

图4是根据图2、3实施例的剖视图；

图5为根据本发明一个实施例的气体支撑柱的示意图。

具体实施方式

下面详细描述本发明的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“上部”、“下部”、“内部”、“外部”、“前”、“后”、“左”、“右”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。。

在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“联接”应做广义理解，例如，可以是固定联接，一体地联接，也可以是可拆卸联接；可以是两个元件内部的连通；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

下面参考图1描述根据本发明的一种新型万向气体支撑机构，下面以使用空气作为压力源用于新型万向气体支撑机构传递压力为例进行说明。当然，本发明并不限于此，例如，根据本发明的新型万向气体支撑机构的动力源也可以使用其他气体。

根据本发明实施例的新型万向气体支撑机构，包括基板2，内部加工有通气管道；万向气体支撑柱阵列，排布在基板2上，万向气体支撑柱3包括球体31、支撑柱体32。

如图1、4、5所示，万向气体支撑柱阵列排布在基板2上，内部加工有横向通气管道21和纵向通气管道22，横向通气管道21与外部气压调节装置1相联，纵向通气管道22与万向气体支撑柱阵列的万向气体支撑柱3连通；万向气体支撑柱体32上部有球冠腔室324，如图5所示，球体31放置于球冠腔室324中，内设有贯通通孔323与下部内设腔室322相联。气体通过气体压力调节装置1输入设定压力值的气体，通过基板2内设的横向通气管道21和纵向通气管道22，进入万向气体支撑柱3，经过万向气体支撑柱体32内设的腔室322和贯通通孔323进入球冠腔室324，浮起球体31，向外传递支撑力，工件可放置在万向气体支撑柱阵列上，由于接触面少且为点接触，所以对于ITO薄膜玻璃表面清洁度有着很好的防护作用，同时由于将以往存在的滑动摩擦变为滚动摩擦，对于ITO薄膜玻璃表面质量也起到了很好的保护作用。

在本发明的一个实施例中，万向气体支撑柱3与基板2以螺纹方式进行联接，更利于拆卸。

在本发明的一个实施例中，万向气体支撑柱阵列以规则阵列排布在基板2上，可以使轻薄的ITO薄膜玻璃受力变得均匀。

可选地，万向气体支撑柱阵列可以以相同规则排列在基板2上，如图2所示，万向气体支撑柱在纵向方向上（以图示方向为例）进行横向方向上的相同规则排布，万向气体支撑柱阵列的规则排布可以使放置其上的ITO薄膜玻璃受力效果更加均匀。

优选地，万向气体支撑柱阵列以错位规则方式在基板2上进行排列，如图3所示，此种排列方式使得放置于万向气体支撑柱阵列上的ITO薄膜玻璃受理效果较以相同规则排列的外向气体支撑柱阵列效果更好。

在本发明的一个实施例中，基板2的横向通气管道21一端可使用封闭装置23进行封闭，放置气体外漏，如图4所示，纵向通气管道22的一端与万向气体支撑柱3相联，一端与横向通气管道21相连。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示意性实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

尽管已经示出和描述了本发明的实施例，本领域的普通技术人员可以理解：在不脱离本发明的原理和宗旨的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由权利要求及其等同物限定。

Claims (8)

1.一种万向气体支撑机构，其特征在于，包括:

基板，内部加工有通气管道；

万向气体支撑柱阵列，排布在基板上，所述万向气体支撑柱包括球体、支撑柱体。

2.根据权利要求1所述的万向气体支撑机构，其特征在于，所述万向气体支撑柱阵列规则排布于所述基板上。

3.根据权利要求2所述的万向气体支撑机构，其特征在于，所述万向气体支撑柱阵列以相同规则排布于所述基板上。

4.根据权利要求2所述的万向气体支撑机构，其特征在于，所述万向气体支撑柱阵列以错位排列规则排布于所述基板上。

5.根据权利要求1所述的万向气体支撑机构，其特征在于，所述支撑柱体上部设有与外部连通的球冠腔室且内部设有贯通通孔，同时下部与基板通气管道联接，所述球体置于所述球冠腔室内。

6.根据权利要求5所述的万向气体支撑机构，其特征在于，所述支撑柱体下部与所述基板通气管道以螺纹方式联接。

7.根据权利要求5所述的万向气体支撑机构，其特征在于，所述支撑柱下部设有腔室，所述通孔贯通所述柱体，连通所述腔室和所述球冠腔室。

8.根据权利要求1所述的万向气体支撑机构，其特征在于，所述万向气体支撑机构还包括气压调节装置，所述气压调节装置与基板通气管道相联。