CN103165639B

CN103165639B - 影像显示系统

Info

Publication number: CN103165639B
Application number: CN201110405672.7A
Authority: CN
Inventors: 苏聪艺; 彭冠臻; 徐湘伦
Original assignee: Innolux Shenzhen Co Ltd; Innolux Display Corp
Current assignee: Innolux Shenzhen Co Ltd; Innolux Corp
Priority date: 2011-12-08
Filing date: 2011-12-08
Publication date: 2016-05-11
Anticipated expiration: 2031-12-08
Also published as: CN103165639A

Abstract

本发明提供一种影像显示系统，该影像显示系统具有一有机电激发光装置。该有机电激发光装置包括：一第一基板，具有一内侧表面；一有机电激发光像素阵列配置于该第一基板的该内侧表面之上；一第二基板具有一内侧表面，其中该第一基板的内侧表面与该第二基板的内侧表面是对向设置；一彩色滤光层配置于该第二基板的内侧表面之上；以及，一不透明熔接固合层，配置于该第一基板及该第二基板之间，用以封合该第一基板及该第二基板，其中该不透明熔接固合层与该有机电激发光像素阵列是以一虚置区相隔，其中该虚置区是由一黑矩阵材料、一熔接封合层、或其组合所填满。

Description

影像显示系统

技术领域

本发明是有关于一种影像显示系统及其制造方法，特别是关于一种具有有机电激发光装置的影像显示系统及其制造方法。

背景技术

近年来，有机电激发光装置(organiclightemissiondisplay，简称OLED)已经被大量应用在各式各样产品的显示元件上，其具有自发光、高亮度、广视角、高应答速度及制造工艺容易等特性。然而，有机电激发光装置容易因水气渗入而造成损坏，因此可靠度仍不甚理想。

基于上述，在制造有机电激发光装置时，便会实施一密封制造工艺，用来保护有机电激发光像素阵列，让它们不会受到外界的影响。现有的封装方式是以密封胶(例如环氧树脂)在有机电激发光装置边缘进行囊封，并在封装基板侧形成凹槽，用来容纳吸收剂。不过，通过上述的方法并无法完全防止湿气与氧气从外界渗入至有机电激发光装置，所以，在一段时间后，有机电激发光装置仍可能会恶化以及变质。

为解决上述问题，业界提出一种利用低温熔接玻璃作为密封材料的有机电激发光装置10。请参照图1，该有机电激发光装置10具有一阵列基板12，且有机电激发光像素阵列14形成于该阵列基板12之上；一封装基板16与该阵列基板12对向设置，而一低温熔接玻璃18用来封合该阵列基板12与封装基板16，以形成一空间容纳有机电激发光像素阵列14。值得注意的是，由于该低温熔接玻璃18是以激光固合制造工艺加以固合，该低温熔接玻璃18会与该有机电激发光像素阵列14保持一特定的距离D(造成空隙15)，以避免该激光固合制造工艺中所产生的热影响到该有机电激发光像素阵列14。为避免由该低温熔接玻璃18(固合后仍为透明)及该空隙15进入有机电激发光装置10的环境光25经反射后影响到有机电激发光装置10的显示效能，该有机电激发光装置10必需更进一步配置一偏光膜20于该封装基板16之上。然而，如此一来导致有机电激发光装置制造成本及制造时间的增加，并降低产量。

因此，业界急需一种新颖的有机电激发光装置，解决现有技术的问题。

发明内容

有鉴于此，本发明提供一种影像显示系统，其包括一有机电激发光装置，而该有机电激发光装置不需要包括一偏光膜，除了可降低制造成本、制造时间、增加产量外，由于射出的光不需经过偏光膜，因此可增加有机电激发光装置的发光效率。

根据本发明一实施例，该影像显示系统包括一有机电激发光装置，而该有机电激发光装置包括：一第一基板，具有一内侧表面；一有机电激发光像素阵列配置于该第一基板的该内侧表面之上；一第二基板具有一内侧表面，其中该第一基板的内侧表面与该第二基板的内侧表面是对向设置；一彩色滤光层配置于该第二基板的内侧表面之上；以及，一不透明熔接固合层(fritcuringlayer)，配置于该第一基板及该第二基板之间，用以封合该第一基板及该第二基板，其中该不透明熔接固合层与该有机电激发光像素阵列是以一虚置区相隔，其中该虚置区是由一黑矩阵材料、一熔接封合层、或其组合所填满。

本发明所提供的影像显示系统，其包含的有机电激发光装置不需要包括一偏光膜，除了可降低制造成本、制造时间、增加产量外，由于射出的光不需经过偏光膜，因此可增加有机电激发光装置的发光效率。

附图说明

图1是绘示现有有机电激发光装置的剖面结构示意图。

图2为本发明一实施例所述的有机电激发光装置的剖面结构示意图。

图3为本发明图2所述的有机电激发光装置的俯视结构示意图。

图4为图2所述的有机电激发光装置其区域4的放大示意图。

图5、图6至图7为一系列有机电激发光装置部份放大示意图，是用来说明该虚置区的构成方式。

图8是绘示根据本发明一实施例的影像显示系统方块示意图。

附图标号：

3-3’～切线；

4～区域；

10～有机电激发光装置；

12～阵列基板；

14～有机电激发光像素阵列；

15～空隙；

16～封装基板；

18～低温熔接玻璃；

20～偏光膜；

25～环境光；

100～有机电激发光装置；

101～第一基板的内侧表面；

102～第一基板；

103～第二基板的内侧表面；

104～有机发光像素单元；

106～平坦层；

108～有机电激发光像素阵列；

110～第二基板；

112～不透明熔接固合层；

114～黑矩阵材料；

116～熔接封合层；

117～缝隙；

118～虚置区；

120～彩色滤光层；

200～输入单元；

300～影像显示系统；

D～距离；以及

W～宽度。

具体实施方式

为使本发明的上述目的、特征能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合所附附图，作详细说明如下：

以下将配合附图，以说明根据本发明所提供的包括有机电激发光装置的影像显示系统。

请参照图2，显示根据本发明一实施例的影像显示系统所包括的有机电激发光装置100的俯视示意图。该有机电激发光装置100包括一不透明熔接固合层112与一彩色滤光层120(该彩色滤光层120其下为有机电激发光像素阵列(未附图)，其中该不透明熔接固合层112与该彩色滤光层120(及该有机电激发光像素阵列)之间是以一虚置区118相隔。该虚置区118具有一特定的宽度W，以避免使用激光固合制造工艺形成该不透明熔接固合层112所产生的热影响到该有机电激发光像素阵列108，该宽度W可介于0.05～0.5μm之间，例如0.1-0.3μm之间。

请参照图3，是显示本发明图2所述有机电激发光装置100沿切线3-3’的剖面结构示意图。该有机电激发光装置100包括一第一基板102(例如一阵列基板)，该第一基板102具有一内侧表面101，而一有机电激发光像素阵列108配置于该第一基板102的该内侧表面101之上。该有机电激发光像素阵列108可包括多个有机发光像素单元104及一平坦层(planarizationlayer)106包覆所述这些有机发光像素单元104。该有机发光像素单元104可为上发光式(top-emission)白光有机发光像素单元。该有机电激发光装置100包括一第一基板102。该有机电激发光装置100更包括一第二基板110与该第一基板102对向设置，并以一不透明熔接固合层112分隔该第一基板102以及该第二基板110。该第二基板110为一透明基板，可为玻璃基板、透明塑胶基板、或透明陶瓷基板其中之一；该第二基板110具有一内侧表面103，其中该第一基板102的内侧表面101与该第二基板110的内侧表面103是对向设置。一彩色滤光层120配置于该第二基板110的内侧表面103之上，其中该彩色滤光层120可包括红色滤光层、蓝色滤光层、以及绿色滤光层，并分别对应该白光有机发光像素单元104，使得该有机电激发光装置100可进行全彩显示。此外，在本发明另一实施例中，为加强对比，该彩色滤光层120亦可包括红色滤光层、蓝色滤光层、绿色滤光层、以及黑矩阵层。

在图2所述的实施例中，该不透明熔接固合层112是用来固合该第一基板102以及该第二基板110。该不透明熔接固合层112的形成方式可为将一熔接材料施以一激光固合制造工艺所得，其中该熔接材料可包括一玻璃粉末、及一吸光粒子，由于该吸光粒子可吸收可见光，因此所得的熔接固合层112可作为一吸光层，将外界射入的环境光吸收，避免影响到有机电激发光装置100的发光效能。该玻璃粉末包括二氧化硅颗粒，以及可更包括K₂O、Sb₂O₃、ZnO、P₂O₅、V₂O₅、TiO₂、B₂O₃、SiO₂、WO₃、Fe₂O₃、Nd₂O₃、La₂O₃、Ce₂O₄、Pr₆O₁₁、Er₂O₃、CeO₂、或其组合，关于上述玻璃粉未，更详细说明范例组成可参考第10/823331的美国专利。该吸光粒子可为黑色颜料粒子、或金属粒子，例如：碳黑、石墨、铁、铜、钒、钼等。该熔接材料可更包括一粘接剂(通常为有机物，以增加其黏度)。熔接材料可通过网板印刷涂覆于第二基板110。

此外，值得注意的是，本发明所述的有机电激发光装置100其不透明熔接固合层112与该有机电激发光像素阵列108之间是以一虚置区118相隔，请参照图3(为图2所述的有机电激发光装置100的俯视示意图)。该虚置区118具有一特定的宽度W，以避免使用激光固合制造工艺形成该不透明熔接固合层112所产生的热影响到该有机电激发光像素阵列108，该宽度W可介于0.05～0.5μm之间，例如0.1-0.3μm之间。

与现有技术不同，本发明是以一黑矩阵材料114、一熔接封合层116、或其组合来填满该虚置区118，在图3所示的实施例是以黑矩阵材料114、及熔接封合层116来填满该虚置区118，请参照图4(为图3所述区域4的放大示意图)，其中该有机电激发光像素阵列108是以该平坦层106与虚置区118相邻。其中，该熔接封合层116同样由用来形成该不透明熔接固合层112的熔接材料所构成。该熔接封合层116与该不透明熔接固合层112的制造方式包括以下步骤：先形成一熔接材料；接着，对熔接材料进行烘烤；接着，再对部份熔接材料(位于该第一基板102及第二基板110边缘的熔接材料层，即离该有机电激发光像素阵列108的较远端)进行激光固合制造工艺，形成该不透明熔接固合层112，而未经固合的熔接材料则形成该熔接封合层116；换言之，该不透明熔接固合层112与熔接封合层116是由相同材料所形成，差别在于一者有经激光固合，一者未经激光固合。该熔接封合层116虽然未经激光固合，不过由于其同样包括吸光粒子，同样可作为一吸光层。基于上述，由于该虚置区118是被该黑矩阵材料114、熔接封合层116、或其组合所填满，因此当环境光射入该虚置区118时，亦会被该黑矩阵材料114或熔接封合层116所吸收，不会进一步被基板反射而影响到有机电激发光装置100的发光效能。所以，本发明所述的有机电激发光装置100不需要额外设置一层偏光膜于该第二基板的外侧，与现有技术相比，可减少一道制造工艺。

根据本发明另一实施例，请参照图5，该虚置区118可由该熔接封合层116填满。此外，请参照图6，该黑矩阵材料114可为实心的膜层，并直接形成于该第二基板110的内侧表面103之上，而该熔接封合层116则形成于该黑矩阵材料114之下。再者，根据本发明其他实施例，请参照图7，该虚置区118包括该黑矩阵材料114及熔接封合层116，而该黑矩阵材料114为点状、条状、或网状结构，而该熔接封合层填入该点状、条状、或网状结构黑矩阵材料114的缝隙117或网格中。由于该点状、条状、或网状结构的黑矩阵材料114具有缝隙117或网格，可进一步促进熔接封合层116的硬化。若该黑矩阵材料114为点状结构，则该点状黑矩阵材料可为椭圆形、三角形、菱形、正方形、长方形、五角形、蜂巢形、或其组合。

图8是绘示出根据本发明另一实施例的影像显示系统300方块示意图，其可实施于一电子装置，例如笔记本电脑、移动电话、数字相机、个人数字助理、桌上型电脑、电视机、车用显示器、或携带式数字影音光碟播放器。本发明所述的有机电激发光装置100，可设置于显示装置300中，一输入单元200耦接至有机电激发光装置100，用以提供输入信号(例如，影像信号)至有机电激发光装置100以产生影像。

虽然本发明已以实施例揭露如上，然其并非用以限定本发明，任何本领域的技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作些许的更动与润饰，因此本发明的保护范围当以权利要求所界定范围为基准。

Claims

1.一种影像显示系统，其特征在于，所述影像显示系统包括：

一有机电激发光装置，包括：

一第一基板，具有一内侧表面；

一有机电激发光像素阵列配置于所述第一基板的所述内侧表面之上；

一第二基板具有一内侧表面，其中所述第一基板的内侧表面与所述第二基板的内侧表面是对向设置；

一彩色滤光层与一黑矩阵材料配置于所述第二基板的内侧表面之上；以及

一不透明熔接固合层，配置于所述第一基板及所述第二基板之间，用以封合所述第一基板及所述第二基板，其中所述不透明熔接固合层与所述有机电激发光像素阵列是以一虚置区相隔，其中所述虚置区是由所述黑矩阵材料及一熔接封合层所填满，且至少部分所述熔接封合层形成于所述黑矩阵材料之下。

2.如权利要求1所述的影像显示系统，其特征在于，所述虚置区是由所述黑矩阵材料及所述熔接封合层所填满，其中所述黑矩阵材料及所述熔接封合层是水平设置于所述第一基板之上。

3.如权利要求2所述的影像显示系统，其特征在于，所述黑矩阵材料为点状、条状、或网状结构。

4.如权利要求1所述的影像显示系统，其特征在于，所述虚置区与所述不透明熔接固合层直接接触。

5.如权利要求3所述的影像显示系统，其特征在于，所述熔接封合材料填入所述点状、条状、或网状结构黑矩阵材料的缝隙中。

6.如权利要求1所述的影像显示系统，其特征在于，所述第二基板为玻璃基板、透明塑胶基板、或透明陶瓷基板其中之一。

7.如权利要求1所述的影像显示系统，其特征在于，所述有机电激发光像素阵列包括多个有机发光像素单元、以及一平坦层包覆所述这些有机发光像素单元。

8.如权利要求7所述的影像显示系统，其特征在于，所述有机电激发光像素阵列以所述平坦层与所述虚置区相邻。

9.如权利要求1所述的影像显示系统，其特征在于，所述虚置区的宽度介于0.05～0.5μm。

10.如权利要求9所述的影像显示系统，其特征在于，所述虚置区的宽度介于0.1～0.3μm。

11.如权利要求1所述的影像显示系统，其特征在于，所述彩色滤光层包括红色滤光层、蓝色滤光层、及绿色滤光层。

12.如权利要求1所述的影像显示系统，其特征在于，所述彩色滤光层包括红色滤光层、蓝色滤光层、绿色滤光层、以及黑矩阵层。

13.如权利要求1所述的影像显示系统，其特征在于，所述熔接封合层的材质为一熔接材料，所述熔接材料包括一玻璃粉末、及一吸光粒子。

14.如权利要求13所述的影像显示系统，其特征在于，所述玻璃粉末包括二氧化硅。

15.如权利要求14所述的影像显示系统，其特征在于，所述玻璃粉末更包括K₂O、Sb₂O₃、ZnO、P₂O₅、V₂O₅、TiO₂、B₂O₃、SiO₂、WO₃、Fe₂O₃、Nd₂O₃、La₂O₃、Ce₂O₄、Pr₆O₁₁、Er₂O₃、CeO₂、或其组合。

16.如权利要求13所述的影像显示系统，其特征在于，所述吸光粒子包括黑色颜料粒子、或金属粒子。

17.如权利要求13所述的影像显示系统，其特征在于，所述不透明熔接固合层包括所述熔接材料经一激光固合制造工艺后所得的产物。

18.如权利要求1所述的影像显示系统，其特征在于，所述虚置区包括所述黑矩阵材料，且所述黑矩阵材料为一连续膜层。

19.如权利要求1所述的影像显示系统，其特征在于，所述黑矩阵材料为椭圆形、三角形、菱形、正方形、长方形、五角形、蜂巢形、或其组合。

20.如权利要求1所述的影像显示系统，其特征在于，所述影像显示系统更包括：

一电子装置，其中所述电子装置包括：

所述有机电激发光装置；以及

一输入单元，与所述有机电激发光装置耦接，其中所述输入单元传输一信号至所述有机电激发光装置以产生影像。

21.如权利要求20所述的影像显示系统，其特征在于，所述电子装置为移动电话、数字相机、个人数字助理、笔记本电脑、桌上型电脑、电视、车用显示器、或携带式数字影音光碟播放器。