CN103143300A - 一种反应釜的原料添加装置 - Google Patents

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沈仕群
黄华
沈凡
段伟
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Abstract

一种反应釜的原料添加装置,涉及反应釜的原料添加设备技术领域,包括原料储蓄罐及设于原料储蓄罐底部的出料口,其特征在于:在出料口上连接硬塑管,硬塑管下端口通过连接管连接在反应釜的原料进料口上,所述的硬塑管上安装有控制阀门,所述原料储蓄罐放置在支撑架上,支撑架的高度值大于等于反应釜上原料进料口与地面之间的高度值。本发明的有益效果:本发明结构简单,利用位差来控制原料的传输速度和原料的传输量,从而达到更加准确的添加原料,保证了药品的质量及安全性,方便实用。

Description

一种反应釜的原料添加装置
技术领域:
本发明涉及反应釜原料添加设备技术领域,尤其涉及一种反应釜的原料添加装置。
背景技术:
物料在反应釜中进行搅拌时,有时会需要在反应釜中添加其他的原料。对这种原料添加的量较少,同时需要间隔式的进行添加甚至是滴加原料。现有技术中,都采用泵抽取原料添加到反应釜内或是采用人工进行添加。这样,添加原料的量不好控制,同时时间间隔容易搞错。这些都能够影响最后制成后药品的好坏。
发明内容:
本发明所要解决的技术问题在于克服现有技术的缺陷,提供一种准确、方便的反应釜的原料添加装置。
本发明所要解决的技术问题采用以下技术方案来实现:
一种反应釜的原料添加装置,包括原料储蓄罐及设于原料储蓄罐底部的出料口,其特征在于:在出料口上连接硬塑管,硬塑管下端口通过连接管连接在反应釜的原料进料口上,所述的硬塑管上安装有控制阀门,所述原料储蓄罐放置在支撑架上,支撑架的高度值大于等于反应釜上原料进料口与地面之间的高度值, 所述连接管的位置高度值大于等于反应釜上原料进料口与地面之间的高度值。利用位差将原料输送到反应釜内,同时利用控制阀门来控制原料的输送速度,从而达到控制原料的输送量。
所述硬塑管通过法兰连接出料口及连接管,所述连接管通过法兰固定在原料进料口上。连接的更加牢固,拆卸方便。
本发明的有益效果:本发明结构简单,利用位差来控制原料的传输速度和原料的传输量,从而达到更加准确的添加原料,保证了药品的质量及安全性,方便实用。
附图说明:
图1为本发明的结构示意图;
图2为图1上A的局部放大示意图。
具体实施方式:
为了使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体图示,进一步阐述本发明。
如图1、图2所示,一种反应釜的原料添加装置,包括原料储蓄罐2及设于原料储蓄罐2底部的出料口21,在出料口21上连接硬塑管22,硬塑管22下端口通过连接管23连接在反应釜1的原料进料口6上,硬塑管22上安装有控制阀门5,原料储蓄罐2放置在支撑架3上,支撑架3的高度值大于等于反应釜1上原料进料口6与地面之间的高度值, 连接管23的位置高度值大于等于反应釜1上原料进料口6与地面之间的高度值。利用位差将原料输送到反应釜1内,同时利用控制阀门5来控制原料的输送速度,从而达到控制原料的输送量。
硬塑管22通过法兰4连接出料口21及连接管23,连接管23通过法兰4固定在原料进料口6上。连接的更加牢固,拆卸方便。
以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征以及本发明的优点。本行业的技术人员应该了解,本发明不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理,在不脱离本发明精神和范围的前提下,本发明还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

Claims (4)

1.一种反应釜的原料添加装置,包括原料储蓄罐及设于原料储蓄罐底部的出料口,其特征在于:在出料口上连接硬塑管,硬塑管下端口通过连接管连接在反应釜的原料进料口上,所述的硬塑管上安装有控制阀门,所述原料储蓄罐放置在支撑架上,支撑架的高度值大于等于反应釜上原料进料口与地面之间的高度值。
2.根据权利要求1所述的一种反应釜的原料添加装置,其特征在于:所述硬塑管通过法兰连接出料口及连接管。
3.根据权利要求1所述的一种反应釜的原料添加装置,其特征在于:所述连接管通过法兰固定在原料进料口上。
4.根据权利要求1所述的一种反应釜的原料添加装置,其特征在于:所述连接管的位置高度值大于等于反应釜上原料进料口与地面之间的高度值。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2003334513A (ja) * 2002-03-14 2003-11-25 Ebara Corp 重金属溶出抑制剤の注入制御方法及び制御装置
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C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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