CN103115491A - 多温区管式炉 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种多温区管式炉,包括加热炉体(1)和系统控制区(2),加热炉体(1)位于系统控制区(2)的上方,加热炉体(1)由加热区(3)和构成加热区(3)的保温炉壳(4)组成,加热区(3)内设有水平放置的管式炉膛(5),管式炉膛(5)的两端分别位于保温炉壳(4)的外侧,所述的加热区(3)内设有竖直设立的隔热墙(6),该隔热墙(6)将加热区(3)分割为3-6个封闭的加热腔(7)。本发明通过设置多个相互隔热的加热腔,满足了一炉多用的需求,且具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点,是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火用的理想产品。
Description
技术领域
本发明涉及管式炉,具体地说是一种具有多个温区且烧结材料广的多温区管式炉。
背景技术
现有的管式炉如图1所示,它包括加热炉体1和系统控制区2,加热炉体1位于系统控制区2的上方,下侧的系统控制区2内设有各种仪表、流量计等用来控制加热炉体1内的温度和气氛等各种情况,并实时监控加热炉体1内的各项参数变化情况;加热炉体1由加热区3和构成加热区3的保温炉壳4组成,其中加热区3内设有水平放置的管式炉膛5,管式炉膛5的两端分别位于保温炉壳4的外侧。现有的管式炉由于其具有的单温区结构,当某些原材料的烧结量较少时,管式炉膛5内的大部分位置被闲置,造成产能的浪费和资源的无谓消耗;或者当管式炉被用来对某些原材料进行烧结实验时,必须一次次的进行烧结得出实验结论,而无法一次完成不同温控下的烧结。
发明内容
本发明的目的是针对现有技术的缺陷,提供一种具有多个温区且烧结材料广的多温区管式炉。
本发明的目的是通过以下技术方案解决的:
一种多温区管式炉,包括加热炉体和系统控制区,加热炉体位于系统控制区的上方,加热炉体由加热区和构成加热区的保温炉壳组成,其中加热区内设有水平放置的管式炉膛,管式炉膛的两端分别位于保温炉壳的外侧,所述的加热区内设有竖直设立的隔热墙,所述的隔热墙将加热区分割为3-6个封闭的加热腔。
所述的系统控制区上设有与加热腔一一对应的控制分区。
所述管式炉膛的两端采用不锈钢法兰密封。
所述管式炉膛的采用高纯度石英管制成。
本发明相比现有技术有如下优点:
本发明通过在一个加热区内设置多个相互隔热的加热腔,满足了一炉多用的需求,且具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点,是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火用的理想产品。
附图说明
附图1是现有单温区管式炉的结构示意图;
附图2是本发明的结构示意图。
其中:1—加热炉体;2—系统控制区;3—加热区;4—保温炉壳;5—管式炉膛;6—隔热墙;7—加热腔;8—控制分区。
具体实施方式
下面结合附图与实施例对本发明作进一步的说明。
如图2所示:一种多温区管式炉,包括加热炉体1和系统控制区2,加热炉体1位于系统控制区2的上方,下侧的系统控制区2内设有各种仪表、流量计等用来控制加热炉体1内的温度和气氛等各种情况,并实时监控加热炉体1内的各项参数变化情况;加热炉体1由加热区3和构成加热区3的保温炉壳4组成,其中加热区3内设有水平放置的管式炉膛5,管式炉膛5的两端分别位于保温炉壳4的外侧,高纯度石英管制成的管式炉膛5的两端采用不锈钢法兰密封。加热区3内设有竖直设立的隔热墙6,所述的隔热墙6将加热区3分割为3-6个封闭的加热腔7,在系统控制区2上设有与加热腔7一一对应的控制分区8。
本发明通过在一个加热区内设置多个相互隔热的加热腔7,满足了一炉多用的需求,且具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点,是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火用的理想产品。
本发明未涉及的技术均可通过现有技术加以实现。
Claims (4)
1.一种多温区管式炉,包括加热炉体(1)和系统控制区(2),加热炉体(1)位于系统控制区(2)的上方,加热炉体(1)由加热区(3)和构成加热区(3)的保温炉壳(4)组成,其中加热区(3)内设有水平放置的管式炉膛(5),管式炉膛(5)的两端分别位于保温炉壳(4)的外侧,其特征在于所述的加热区(3)内设有竖直设立的隔热墙(6),所述的隔热墙(6)将加热区(3)分割为3-6个封闭的加热腔(7)。
2.根据权利要求1所述的多温区管式炉,其特征在于所述的系统控制区(2)上设有与加热腔(7)一一对应的控制分区(8)。
3.根据权利要求1所述的多温区管式炉,其特征在于所述管式炉膛(5)的两端采用不锈钢法兰密封。
4.根据权利要求1所述的多温区管式炉,其特征在于所述管式炉膛(5)的采用高纯度石英管制成。
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PB01 | Publication | ||
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C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20130522 |