CN103100261A - 一种多晶硅专用毡 - Google Patents
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Abstract
本发明公开的一种多晶硅专用毡，涉及滤料技术领域，包括作为基布的玄武岩基布，玄武岩纤维及PTFE纤维结合层；玄武岩纤维及PTFE纤维结合层分别铺设在基布两侧并与基布结合，其中，过滤气体进入方向的玄武岩纤维及PTFE纤维结合层上还设有PTFE膜结构；该多晶硅专用毡耐腐蚀性强，且能适应高温高压环境。
Description
技术领域
本发明涉及滤料技术领域，具体涉及一种多晶硅专用毡。
背景技术
多晶硅生产设备内环境为高温高压，且充满四氯氢硅气体，该气体的腐蚀性强；现有的涤纶滤料难以长时间抵抗腐蚀气体的侵蚀，极易损坏；频繁的更换滤料对设备的连续生产造成影响。
发明内容
本发明创造所要解决的技术问题是提供一种耐腐蚀性强，且能适应高温高压环境的多晶硅专用毡。
为了实现上述发明目的，本发明创造采用如下技术方案：
一种多晶硅专用毡，包括作为基布的玄武岩基布，玄武岩纤维及PTFE纤维结合层；玄武岩纤维及PTFE纤维结合层分别铺设在基布两侧并与基布结合，其中，过滤气体进入方向的玄武岩纤维及PTFE纤维结合层上还设有PTFE膜结构。
进一步的，PTFE膜结构的膜孔径控制在0.2～15μm之间。
进一步的，PTFE膜结构的空隙率达85％以上。
由于采用如上所述的技术方案，本发明创造产生如下积极效果：
1、由于该专用毡滤料的选用，玄武岩纤维具有耐高温、耐腐蚀性；PTFE膜过滤精度高，能够保证产品的精度；从而使该专用毡具备抗腐蚀性，能够长期稳定的应用于多晶硅生产设备内高温高压环境。
2、经实际使用效果检验，此滤料比之前滤料使用时间延长一个月。
附图说明
图1是本发明创造的多晶硅专用毡的横截面图；
具体实施方式
结合图1，多晶硅专用毡包括作为基布的玄武岩基布，玄武岩纤维及PTFE纤维结合层；玄武岩纤维及PTFE纤维结合层分别铺设在基布两侧并与基布结合，其中，过滤气体进入方向的玄武岩纤维及PTFE纤维结合层上还设有PTFE膜结构。PTFE膜结构的膜孔径控制在0.2～15μm之间，其空隙率达85％以上。
玄武岩纤维较好的耐高温性能和优异的需酸碱腐蚀性能，需温可以达到600度以上，尤其是耐酸性突出；利用PTFE膜独特的节点原纤性、表面光滑、耐化学物质、透气不透水、透气量大、阻燃、耐高温、抗强酸碱、无毒等特性；使该多晶硅专用毡能够长时间抵抗腐蚀气体的侵蚀，不必频繁的更换滤料，从而更能保证设备的连续生产。
Claims (3)
1.一种多晶硅专用毡，其特征是：包括作为基布的玄武岩基布，玄武岩纤维及PTFE纤维结合层；玄武岩纤维及PTFE纤维结合层分别铺设在基布两侧并与基布结合，其中，过滤气体进入方向的玄武岩纤维及PTFE纤维结合层上还设有PTFE膜结构。
2.根据权利要求1所述的多晶硅专用毡，其特征是：所述PTFE膜结构的膜孔径控制在0.2～15μm之间。
3.根据权利要求1所述的多晶硅专用毡，其特征是：所述PTFE膜结构的空隙率达85％以上。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN2011103553718A CN103100261A (zh) | 2011-11-10 | 2011-11-10 | 一种多晶硅专用毡 |
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Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN103100261A true CN103100261A (zh) | 2013-05-15 |
Family
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Family Applications (1)
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| CN2011103553718A Pending CN103100261A (zh) | 2011-11-10 | 2011-11-10 | 一种多晶硅专用毡 |
Country Status (1)
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|---|---|
| CN (1) | CN103100261A (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2011
- 2011-11-10 CN CN2011103553718A patent/CN103100261A/zh active Pending
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| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20130515 |