CN103088623A - 一种去除布料表面杂质的装置 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种去除布料表面杂质的装置,包括进布辊轮、支撑辊轮和出料辊轮,支撑辊轮下方设置有V字型电极支架,电极支架开口处的两内侧面上设置有左电极和右电极,左、右电极与支撑辊轮外圆周面之间具有用于穿过布料的间隙。本发明的一种去除布料表面杂质的装置,通过对布料进行电击处理,能够有效地去除杂质的同时而且还能够不破坏布料的品质。
Description
技术领域
本发明涉及布料生产设备的领域,尤其是一种去除布料表面杂质的装置。
背景技术
在纺织品生产过程中,对布料加工处理过程中每个环节都是相互有联系的,由于面料表面经常出现产刘的灰尘等杂质,对布料表面进行洁净处理。针对这一现象,对布料表面杂质的处理一般都是采用水洗等,但这种处理方式容易影响面料的品质,造成颜色的差异和手感的不佳。
发明内容
本发明要解决的技术问题是:为了克服上述中存在的问题,提供一种能够不破坏布料的品质的同时能够有效地去除表面杂质的去除布料表面杂质的装置。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:一种去除布料表面杂质的装置,包括进布辊轮、支撑辊轮和出料辊轮,所述的支撑辊轮下方设置有V字型电极支架,电极支架开口处的两内侧面上设置有左电极和右电极,左、右电极与支撑辊轮外圆周面之间具有用于穿过布料的间隙。
所述的左电极和右电极与电极支架之间为滚动摩擦。
本发明的有益效果是,本发明的一种去除布料表面杂质的装置,通过对布料进行电击处理,能够有效地去除杂质的同时而且还能够不破坏布料的品质。
附图说明
下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。
图1是本发明的结构示意图。
图中1.进布辊轮,2.支撑辊轮,3.出料辊轮,4.电极支架,41.左电极,42.右电极。
具体实施方式
现在结合附图对本发明作进一步详细的说明。这些附图均为简化的示意图,仅以示意方式说明本发明的基本结构,因此其仅显示与本发明有关的构成。
如图1所示的一种去除布料表面杂质的装置,包括进布辊轮1、支撑辊轮2和出料辊轮3,支撑辊轮2下方设置有V字型电极支架4,电极支架4开口处的两内侧面上设置有左电极41和右电极42,左、右电极41、42与支撑辊轮2外圆周面之间具有用于穿过布料的间隙,左电极41和右电极42与电极支架4之间为滚动摩擦。
以上述依据本发明的理想实施例为启示,通过上述的说明内容,相关工作人员完全可以在不偏离本项发明技术思想的范围内,进行多样的变更以及修改。本项发明的技术性范围并不局限于说明书上的内容,必须要根据权利要求范围来确定其技术性范围。
Claims (2)
1.一种去除布料表面杂质的装置,其特征是:包括进布辊轮(1)、支撑辊轮(2)和出料辊轮(3),所述的支撑辊轮(2)下方设置有V字型电极支架(4),电极支架(4)开口处的两内侧面上设置有左电极(41)和右电极(42),左、右电极(41、42)与支撑辊轮(2)外圆周面之间具有用于穿过布料的间隙。
2.根据权利要求1所述的一种去除布料表面杂质的装置,其特征是:所述的左电极(41)和右电极(42)与电极支架(4)之间为滚动摩擦。
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CN 201110334790 CN103088623A (zh) | 2011-10-27 | 2011-10-27 | 一种去除布料表面杂质的装置 |
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Family Applications (1)
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Country Status (1)
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Cited By (1)
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CN106643113A (zh) * | 2016-11-08 | 2017-05-10 | 长兴县大伟纺织有限公司 | 一种快速旋转摆动去杂机构 |
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2011
- 2011-10-27 CN CN 201110334790 patent/CN103088623A/zh active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN106643113A (zh) * | 2016-11-08 | 2017-05-10 | 长兴县大伟纺织有限公司 | 一种快速旋转摆动去杂机构 |
CN106643113B (zh) * | 2016-11-08 | 2019-05-28 | 江山市艺康化学有限公司 | 一种快速旋转摆动去杂机构 |
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Legal Events
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---|---|---|---|
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PB01 | Publication | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20130508 |