CN103084471A - 一种三元流叶片的压型模具 - Google Patents

一种三元流叶片的压型模具 Download PDF

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陈良良
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Abstract

本发明公开了一种三元流叶片的压型模具,包括模架上板,模架下板,导向套,导向柱,上模和下模,在所述模架上板和模架下板之间设有相匹配的导向套和导向柱,所述上模和下模分别设在模架上板和模架下板相对面上的相对位置,所述上模和下模相对的表面设为上下吻合的空间扭曲面,靠近所述下模相邻两面的位置分别设有轴向定位板和纵向定位板。本发明所述的一种三元流叶片的压型模具,结构简单,精度高,采用本发明加工生产出的三元流叶片表面光滑,质量高,控制尺寸精准,能很好地应用于实际生产。适合大力推广使用。

Description

一种三元流叶片的压型模具
技术领域
本发明涉及一种风机工程技术领域,具体涉及一种三元流(空间扭曲)叶片的压型模具。
背景技术
在风机制作行业中,制作空间扭曲的三元叶片,采用的模具一般是用三元流叶片各截面的样板拼装而成。这种模具加工复杂,而且模具各面是通过修磨至圆滑,精度较低,生产加工出来的叶片表面质量差,尺寸精度难以控制,操作复杂。
发明内容
发明目的:本发明的目的是为了弥补现有技术的不足,提供一种精度高、结构简单的三元流叶片的压型模具。
本发明采用的技术方案:所述的一种三元流叶片的压型模具,包括模架上板,模架下板,导向套,导向柱,上模和下模,在所述模架上板和模架下板之间设有相匹配的导向套和导向柱,所述上模和下模分别设在模架上板和模架下板相对面上的相对位置,靠近所述下模相邻两面的位置分别设有轴向定位板和纵向定位板。
所述上模和下模相对的表面设为上下吻合的空间扭曲面,上模和下模采用球墨铸铁材质加工而成,以保证加工叶片时,叶片原材料加热至1020℃再压型时,上模和下模不会发生明显的受热变形。
作为优化,所述上模和下模均为一体铸件,即是采用整体铸件毛坯通过数控加工而成,避免了现有技术中采用的截面样板拼装而成的模具表面精度差的不足。
所述轴向定位板和纵向定位板用于加工叶片时的定位压型。
有益效果:本发明所述的一种三元流叶片的压型模具,结构简单,精度高,采用本发明加工生产出的三元流叶片表面光滑,质量高,控制尺寸精准,能很好地应用于实际生产。适合大力推广使用。
附图说明
图1是本发明所述的一种三元流叶片的压型模具的结构示意图;
图2是本发明所述的一种三元流叶片的压型模具的俯视图。
具体实施方式
所述的一种三元流叶片的压型模具,包括模架上板1,模架下板2,导向套3,导向柱4,上模5和下模6,在所述模架上板1和模架下板2之间设有相匹配的导向套3和导向柱4,所述上模5和下模6分别设在模架上板1和模架下板2相对面上的相对位置,上模5和下模6相对的表面设为上下吻合的空间扭曲面;所述上模5和下模6均为一体铸件,即是采用整体铸件毛坯通过数控加工而成,避免了现有技术中采用的截面样板拼装而成的模具表面精度差的不足;所述上模5和下模6采用球墨铸铁材质加工而成,以保证加工叶片时,叶片原材料加热至1020℃再压型时,上模5和下模6不会发生明显的受热变形;靠近所述下模6相邻两面的位置分别设有轴向定位板7和纵向定位板8,所述轴向定位板7和纵向定位板8用于加工叶片时的定位压型。本发明结构简单,精度高。用本发明加工生产出的三元流叶片表面光滑,质量高,控制尺寸精准,能很好地应用于实际生产。

Claims (3)

1.一种三元流叶片的压型模具,包括模架上板(1),模架下板(2),导向套(3),导向柱(4),上模(5)和下模(6),其特征在于:在所述模架上板(1)和模架下板(2)之间设有相匹配的导向套(3)和导向柱(4),所述上模(5)和下模(6)分别设在模架上板(1)和模架下板(2)相对面上的相对位置,靠近所述下模(6)相邻两面的位置分别设有轴向定位板(7)和纵向定位板(8)。
2.根据权利要求1所述的一种三元流叶片的压型模具,其特征在于:所述上模(5)和下模(6)相对的表面设为上下吻合的空间扭曲面。
3.根据权利要求1所述的一种三元流叶片的压型模具,其特征在于:所述上模(5)和下模(6)均为一体铸件。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107774808A (zh) * 2016-08-31 2018-03-09 沈阳铸造研究所 一种大型组合可调节模压叶片模具及其制备方法
CN111231199A (zh) * 2019-12-03 2020-06-05 惠阳航空螺旋桨有限责任公司 一种无人机叶片制作模具的定位机构

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PB01 Publication
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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