CN103021275A - 显示屏屏蔽结构及其制法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种显示屏屏蔽结构及其制法,包括数个基体单元,以及数个结合单元,基体单元与基体单元之间,以数个结合单元的黑色吸光黏着体相互黏着结合。其将该排列结合的数个基体单元,覆设于光电装置面板的自体发光显示组件上,使自体发光显示组件所发散的光线,受基体单元的透光体外侧所覆设反光层,予以过滤并反射聚集散射光线射出,并受反光层外所覆设遮光层遮蔽,防止光线的漏光而有效屏蔽外界强光,使自体发光显示组件的光线更为集中并改良环境光线照在显示面板的白化现象及低影像对比现象,且其组成结构简易,并可运用于各尺寸的光电装置面板,使整体加工成本降低,以达应用范围广及加工简易的功效。

Description

显示屏屏蔽结构及其制法
技术领域
本发明涉及一种显示屏屏蔽结构及其制法,尤指一种应用于光电显示装置技术领域的显示屏屏蔽结构及其制法。
背景技术
按目前习知的光电装置面板滤光结构,是以蒸镀法加工应用于光电装置面板较为常见,其光电装置面板设有薄膜积层构造的自体发光显示组件,而基板设于该自体发光显示组件一侧,且基板的另一侧设有一金属图案成型遮板,藉由蒸镀法的成膜加工,使蒸镀材料透过金属图案成型遮板附着结合于基板上,使薄膜图案覆设于基板表面形成光线的遮蔽,另亦有使用加强显示光传统屏蔽及外贴防眩膜的,但其具有下列问题存在:
1.有外界强光下显示效果差:如在户外强光下,显示折射出光线强度与照在显示屏上的光线强度比180Lux/40000x0.8Lux≈0.005625【偏光板断面积系数x(偏光板立面断面积反射外界强光系数)】二者对比度极小,若加上一般偏光板光线穿透强度只剩1/5,和室内明视度:180Lux/300Lux~0.6差距极大,且显示器光线若增强到与外界强光对应时,屏幕的RGB色料易衰退仅可维持1~2年,故其强光下显示效果差。
2.使用便利性差:其使用一般屏幕传统屏蔽效果优良,但该屏蔽突出的尺寸太大需架设及折收,故其使用便利性差(如:一般数字像机外加传统折叠式单一屏蔽,中国台湾发明专利第I337238号)。
3.光线透出率低:其若使用防眩膜,该防眩膜又减少光线透出率,故其光线透出率降低,在户外阳光直射下又看不出效果,形成白色一片。
4.可加工尺寸受限:其蒸镀法若用于较大面板的加工,需放大金属图案成型遮板,然该金属图案成型遮板的放大,因重力而造成金属图案成型遮板中心处下陷,而使覆设于基板表面的薄膜图案精确度降低,故其可加工尺寸受限。
5.加工难易度高:其以蒸镀法加工时,该金属图案成型遮板的热膨胀率大,易产生图案偏移,使加工的精确性低,故其加工难易度高。
发明内容
本发明有鉴于习知光电装置面板偏光板微结构在户外强光下显示光线穿透强度与照在显示屏上偏光板微结构立面积所反射的光线二者对比度极小、可加工尺寸受限及加工难易度高的问题,于是开发完成本发明的显示屏屏蔽结构及其制法。
本发明的目的在于提供一种显示屏屏蔽结构及其制法,其数个基体单元为依序扩散排列,而基体单元与基体单元间,以数个结合单元的黑色吸光黏着体相互黏着结合,藉由将该排列结合的数个基体单元,覆设于光电显示装置面板的自体发光显示组件上,使自体发光显示组件所发散的光线,受基体单元的透光体外侧所覆设反光层,予以过滤并反射散射光使聚光射出,并受反光层外所覆设不透光遮光层遮蔽,防止光线的散光且有效屏蔽,使自体发光显示组件的光线更为集中,增加与外界光下显示屏影像的对比度,且其组成结构简易,并可运用于各尺寸的光电装置面板,使整体加工成本降低,从而达到应用范围广及加工简易的功效。
本发明采取以下的技术方案:
一种显示屏屏蔽结构,其包括:
数个基体单元,该基体单元设有数个透光体,该透光体的外侧缘覆设有至少一个反光层,该反光层外覆设有至少一个遮光层;以及
数个结合单元,该数个结合单元设有数个黑色吸光黏着体,其数个基体单元为依序扩散排列,而基体单元与基体单元之间,以数个结合单元的黑色吸光黏着体相互黏着结合。
该透光体可以为二氧化硅(玻璃)材质、聚甲基丙烯酸甲酯(压克力)材质或塑料材质的光纤所构成。
该透光体可呈圆型、呈方型或呈长方型并以砖块式的错间排列。
优选地,该透光体的外侧缘覆设有数个反光层;该反光层呈白色或呈银色。
优选地,该基体单元的底侧设有黏着层。该基体单元的数个透光体表面呈内凹弧状;该基体单元的数个透光体呈黄色透光状。
一种显示屏屏蔽结构的制法,其制法包括:
(A)基材加工:将光纤棒外侧覆设一层反光涂料,再于该反光涂料外覆设一层遮蔽涂料;
(B)整束结合加工:将基材加工后的光纤棒予以依序扩散排列,并于光纤棒间填入结合单元的黑色吸光黏着体,于显示面形成高吸光面,使光纤棒间相互结合固定形成需求范围的光纤束;
(C)裁切加工:将光纤束依需求厚度,以裁切装置施以横向的切割;
(D)薄膜屏蔽成品:经裁切后的光纤束,形成大面积片状材的薄膜屏蔽成品。
在上述制法中,该基材加工的光纤棒外侧所覆设反光涂料可呈高反射白色或呈银色;该基材加工的光纤棒外侧反光涂料外覆设的遮蔽涂料呈黑色。
本发明的优点如下:
1.应用范围广:其是以数基体单元排列结合,形成薄膜屏蔽,并覆设于光电装置面板的自体发光显示组件上,该薄膜屏蔽可依需求延伸扩展,可广泛应用于大尺寸或小尺寸的光电装置面板,故其应用范围广。
2.加工简易:其是以数基体单元排列结合,形成薄膜屏蔽,并覆设于光电装置面板的自体发光显示组件上,而基体单元的透光体相对于自体发光显示组件的R、G、B或Y光源显示模块上,而结合数基体单元的数结合单元,相对于自体发光显示组件的黑色矩阵,整体组成结构及制法简易,故其加工简易。
附图说明
图1是本发明的立体组合状态示意图。
图2是本发明的局部放大立体状态示意图。
图3是本发明的局部放大俯视状态示意图。
图4是本发明的第一使用状态参考图。
图5是本发明的第二使用状态参考图。
图6是本发明的加工状态示意图。
图7是本发明的第一实施例立体组合状态参考图。
图8是本发明的第一实施例局部放大立体状态参考图。
图9是本发明的第二实施例立体组合状态参考图。
图10是本发明的第二实施例局部俯视立体状态参考图。
图11是本发明的第三实施例立体组合状态参考图。
【主要组件符号说明】
10 基体单元
11 透光体
110 反光层
111 遮光层
20 结合单元
21 黑色吸光黏着体
30 自体发光显示组件
31 R、G、B光源显示模块
32 黑色矩阵
A 基材加工
B 整束结合加工
C 裁切加工
D 薄膜屏蔽成品。
具体实施方式
为使贵审查员能进一步了解本发明的结构,特征及其它目的,兹以如下的较佳实施例附以图式详细说明如后,但本图例所说明的实施例仅供说明之用,并非为专利申请上的唯一限制。
请配合参阅图1至图3所示,为本发明显示屏屏蔽结构的立体组合、局部放大立体及俯视状态示意图,其包括:
数基体单元10,该基体单元10设有数透光体11,该透光体11为二氧化硅(玻璃)、聚甲基丙烯酸甲酯(压克力)或塑料材质的光纤所构成,且该透光体11呈圆型或依据TFT、RGB或RGBY的形状变化,该数透光体11表面呈内凹弧状,且数透光体11为呈黄色透光状,而透光体11的外侧缘覆设有一反光层110,该反光层110外覆设有一遮光层111,且该基体单元10底侧设有一黏着层(图中未示);以及
数结合单元20,该数结合单元20设有数黑色吸光黏着体21,其数基体单元10为依序扩散排列,而基体单元10与基体单元10之间,以数结合单元20的黑色吸光黏着体21相互黏着结合;
藉由上述结构的配合以完成本发明的显示屏屏蔽结构。
请配合参阅图4、图5所示,为本发明显示屏屏蔽结构的第一、二使用状态参考图,其数基体单元10为依序扩散排列,而基体单元10与基体单元10之间,以数结合单元20的黑色吸光黏着体21相互黏着结合,藉由将该排列结合的数基体单元10,覆设于光电装置面板的自体发光显示组件上,且基体单元10的透光体11相对于自体发光显示组件30的R、G、B光源显示模块31的发光单元RGB、RGBY或R+G+B、R+G+B+Y上,而结合数基体单元10的数结合单元20,相对于自体发光显示组件30的黑色矩阵32,使自体发光显示组件30所发散的光线,受基体单元10的透光体11外侧所覆设反光层110,予以过滤并反射聚光照射出,并受反光层110外所覆设遮光层111遮蔽,防止光线散光且有效屏蔽,降低外界强光在显示面偏光板微结构立面所形成大面积反射面照度,使自体发光显示组件30的光线更为集中并增强影像明暗对比度,且其组成结构简易,并可运用于各尺寸的光电装置面板,使整体加工成本降低,以达应用范围广及加工简易的功效。
请配合参阅图6所示,为本发明显示屏屏蔽结构的制法加工状态示意图,其加工的流程包括:
(A)基材加工:将光纤棒外侧覆设一层反光的白或银色高反射涂料,在于该白或银色涂料外覆设一层遮蔽的黑色吸光涂料;
(B)整束结合加工:将基材加工后的光纤棒予以依序扩散排列,并于光纤棒间填入结合单元的黑色吸光黏着体,于显示面形成高吸光面,使光纤棒间相互结合固定形成需求范围的光纤束;
(C)裁切加工:将光纤束依遮光角度切成需求厚度,以裁切装置施以横向的切割;
(D)薄膜屏蔽成品:经裁切后的光纤束,形成大面积片状材的薄膜屏蔽成品;
经由上述的加工流程形成的薄膜屏蔽结构,经覆设于自体发光显示组件,使光线有效屏蔽而降低其漏旋光性,并使自体发光显示组件的光线更为集中并增强对比度。
请配合参阅图7、图8所示,为本发明显示屏屏蔽结构的第一实施例立体组合状态及局部放大立体状态参考图,其整体结构与本发明图1至图3相同,唯其是于基体单元10的透光体11外覆设有数反光层110,且于该反光层110外覆设有一遮光层111,使其整体发散出的光线更为集中,以增加本发明的多重实用性。
请配合参阅图9、图10所示,为本发明显示屏屏蔽结构的第二实施例立体组合状态及局部放大俯视状态参考图,其整体结构与本发明图1至图3相同,唯其是将基体单元10的透光体11形状设置为方形,对应于显示器的R、G、B或Y光源显示模块31的发光单元RGB、RGBY或R+G+B、R+G+B+Y,并于该方形的透光体11外覆设有至少一个反光层110,且于该反光层110外覆设有一遮光层111,使该基体单元10的使用范围更为广泛,以增加本发明的多重实用性。
请配合参阅图11所示,为本发明显示屏屏蔽结构的第三实施例立体组合状态参考图,其整体结构与本发明图1至图3相同,唯其是将基体单元10的透光体11形状设置为长方形并呈砖块式的错间排列,对应于显示器的R、G、B或Y光源显示模块31的发光单元RGB、RGBY或R+G+B、R+G+B+Y,并于该长方形的透光体11外覆设有至少一个反光层110,且于该反光层110外覆设有一遮光层111,使该基体单元10的使用范围更为广泛,以增加本发明的多重实用性。
本发明以数基体单元排列结合,形成薄膜屏蔽,并覆设于光电装置面板的自体发光显示组件上,该薄膜屏蔽可依需求延伸扩展,可广泛应用于大尺寸或小尺寸的光电装置面板,故其应用范围广。
本发明以数基体单元排列结合,形成薄膜屏蔽,并覆设于光电装置面板的自体发光显示组件上,而基体单元的透光体相对于自体发光显示组件的R、G、B或Y光源显示模块上,而结合数基体单元的数结合单元,相对于自体发光显示组件的黑色矩阵,整体组成结构及制法简易,故其加工简易。
综上所述,本发明确实可达到上述诸项功能及目的。

Claims (17)

1.一种显示屏屏蔽结构,其包括:
数个基体单元,所述基体单元设有数个透光体,所述透光体的外侧缘覆设有至少一个反光层,所述反光层外覆设有至少一个遮光层;以及
数个结合单元,所述数个结合单元设有数个黑色吸光黏着体,其数个基体单元为依序扩散排列,而基体单元与基体单元之间,以数个结合单元的黑色吸光黏着体相互黏着结合。
2.如权利要求1所述的显示屏屏蔽结构,其特征在于:所述透光体为二氧化硅材质的光纤所构成。
3.如权利要求1所述的显示屏屏蔽结构,其特征在于:所述透光体为聚甲基丙烯酸甲酯材质的光纤所构成。
4.如权利要求1所述的显示屏屏蔽结构,其特征在于:所述透光体为塑料材质的光纤所构成。
5.如权利要求1所述的显示屏屏蔽结构,其特征在于:所述透光体呈圆型。
6.如权利要求1所述的显示屏屏蔽结构,其特征在于:所述透光体呈方型。
7.如权利要求1所述的显示屏屏蔽结构,其特征在于:所述透光体呈长方型并以砖块式的错间排列。
8.如权利要求1所述的显示屏屏蔽结构,其特征在于:所述透光体的外侧缘覆设有数个反光层。
9.如权利要求1所述的显示屏屏蔽结构,其特征在于:所述反光层呈白色。
10.如权利要求1所述的显示屏屏蔽结构,其特征在于:所述反光层呈银色。
11.如权利要求1所述的显示屏屏蔽结构,其特征在于:所述基体单元的底侧设有黏着层。
12.如权利要求1所述的显示屏屏蔽结构,其特征在于:所述基体单元的数个透光体表面呈内凹弧状。
13.如权利要求1所述的显示屏屏蔽结构,其特征在于:所述基体单元的数个透光体呈黄色透光状。
14.一种显示屏屏蔽结构的制法,其制法包括:
(A)基材加工:将光纤棒外侧覆设一层反光涂料,再于所述反光涂料外覆设一层遮蔽涂料;
(B)整束结合加工:将基材加工后的光纤棒予以依序扩散排列,并于光纤棒间填入结合单元的黑色吸光黏着体,于显示面形成高吸光面,使光纤棒间相互结合固定形成需求范围的光纤束;
(C)裁切加工:将光纤束依需求厚度,以裁切装置施以横向的切割;
(D)薄膜屏蔽成品:经裁切后的光纤束,形成大面积片状材的薄膜屏蔽成品。
15.如权利要求14所述的显示屏屏蔽结构的制法,其特征在于:所述基材加工的光纤棒外侧所覆设反光涂料呈高反射白色。
16.如权利要求14所述的显示屏屏蔽结构的制法,其特征在于:所述基材加工的光纤棒外侧所覆设反光涂料呈银色。
17.如权利要求14所述的显示屏屏蔽结构的制法,其特征在于:所述基材加工的光纤棒外侧反光涂料外覆设的遮蔽涂料呈黑色。
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SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20130403