CN102963864B - 一种基于bcb胶的晶片级微空腔的密封方法 - Google Patents
一种基于bcb胶的晶片级微空腔的密封方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN102963864B CN102963864B CN201210532250.0A CN201210532250A CN102963864B CN 102963864 B CN102963864 B CN 102963864B CN 201210532250 A CN201210532250 A CN 201210532250A CN 102963864 B CN102963864 B CN 102963864B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- bcb
- glue
- bcb glue
- wafer
- bonding
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Micromachines (AREA)
Abstract
本发明公开了一种基于BCB胶的晶片级微空腔的密封方法。本发明采用先在半导体晶片上旋涂BCB胶及软烘,然后旋涂一定厚度的光刻胶,之后利用光刻胶作为掩膜分别刻蚀BCB胶和微空腔,最后将具有微空腔的半导体晶片与MEMS器件的器件晶片进行对准键合。本发明采用BCB胶作粘附剂,平整高、键合温度低,工艺实现方便,具有与集成电路兼容的特性;并采用光刻胶作为刻蚀BCB胶和微空腔的软掩膜,使得BCB胶平整性好,在键合过程中受力均匀,从而能有效降低BCB胶的形变,避免BCB胶流入腔体和粘附在MEMS器件上,提高了MEMS器件可靠性。
Description
技术领域
本发明属于半导体制造技术,具体涉及一种基于BCB胶的晶片级微空腔的密封方法。
背景技术
对于精密复杂的MEMS器件,比如冲击开关和三明治结构的加速度计,需要进行真空密封封装,从而保护器件内部的可动结构。晶片级键合方法是实现密封的最有效的方法之一,其中晶片盖是由预先制作的微空腔形成,并与器件晶片进行键合,从而为器件晶片上的MEMS器件提供密封和保护的作用。这种密封为之后的切割工序以及对于封装的MEMS器件在使用寿命内免受环境污染的影响提供了第一层保护。同时因为这种密封方法在采用晶片级封装,能在一个晶片上同时对几百个器件同时密封封装,相对传统密封工艺,能有效提高生产效率并降低封装成本。
现有的晶片级键合方法主要包括硅硅键合、阳极键合、金硅键合及粘附剂键合。其中硅硅键合因为其键合温度高,一般在600~1200℃范围内,及对表面洁净度要求高,导致成品率下降。而阳极键合因为两静电键合材料的热膨胀系数可能不匹配,导致在键合完成冷却过程中会因内部应力较大而破碎;另外,由于需要用到高电压,降低了工艺的兼容性。而金硅键合需要对硅片进行预处理,先热氧化,再进行镀Au薄膜,键合效果取决于氧化层的质量;而且其预处理工艺有局限性,例如对不希望镀金属薄膜的器件,无法使用金硅键合。而粘附剂键合因为涉及到聚合物,如BCB胶和SU-8等,一般先做微空腔,然后再在微空腔上面旋涂粘附剂,由于粘附剂表面不平整,则在键合过程中会由于键合外力和一定温度条件下,粘附剂受力不均,导致形变过大,可能会流入腔体并粘附在MEMS器件上导致器件失效。
发明内容
针对以上现有技术中存在的问题,本发明提供一种基于BCB胶的晶片级微空腔的密封方法,利用BCB键合工艺的优点,能有效避免由聚合物形变而导致的器件失效的问题。
本发明的目的在于提供一种:基于BCB胶的晶片级微空腔的密封方法。
本发明的基于BCB胶的晶片级微空腔的密封方法,包括以下步骤:
1)旋涂BCB胶及软烘:在半导体晶片上先旋涂BCB胶,之后软烘来部分聚合化BCB胶;
2)光刻形成微空腔的图形;
3)刻蚀BCB胶,然后刻蚀半导体晶片,形成微空腔;
4)表面有旋涂有BCB胶的微空腔的半导体晶片,与设置有MEMS器件的器件晶片进行对准并键合。
其中,在步骤1)中,软烘在温度100~250℃之间,及时间1~60分钟内。
在步骤2)中,光刻胶作为刻蚀BCB胶和微空腔的软掩膜,光刻胶需要一定的厚度,在1~50μm之间,以保证在刻蚀完微空腔后还有剩余的光刻胶,从而避免裸露BCB胶。本发明只需一次光刻,即可完成微空腔的制备,制备工艺简单,易操作。
在步骤3)中,刻蚀BCB胶时需要优化刻蚀气体的组分,其中刻蚀气体六氟化硫SF6和氧气O2比例在1:1至1:10之间,以保证刻蚀效果。
在步骤4)中,键合过程中需要控制好键合压力1~3.5ba等参数。
刻蚀有微空腔的半导体晶片采用硅或玻璃等。
本发明的晶片级键合采用苯并环丁烯(benzo-cyclo-butene)BCB胶作粘附剂,BCB键合具有以下优点:1)高度的平整化能力;2)固化温度较低250°,固化过程中不需催化剂、没有副产品,固化过程中收缩率可以忽略;3)良好的粘结性能。因此,能为MEMS器件提供密封真空环境,同时因键合温度低,其工艺兼容性好。
另外,为解决BCB胶在键合过程中形变问题,本发明提出采用光刻胶作为刻蚀BCB胶和微空腔的软掩膜,使得BCB胶平整性好,在键合过程中受力均匀,从而能有效降低BCB胶的形变,避免BCB胶流入腔体和粘附在MEMS器件上。本发明的优点:
本发明采用先在半导体晶片上旋涂BCB胶及软烘,然后旋涂一定厚度的光刻胶,之后利用光刻胶作为掩膜分别刻蚀BCB胶和微空腔,最后将具有微空腔的半导体晶片与MEMS器件的器件晶片进行对准键合。本发明采用BCB胶作粘附剂,平整高、键合温度低,工艺实现方便,具有与集成电路兼容的特性;并采用光刻胶作为刻蚀BCB胶和微空腔的软掩膜,解决粘附剂键合工艺中聚合物的形变问题,提高了MEMS器件可靠性。
附图说明
图1为本发明的基于BCB胶的晶片级微空腔的密封方法密封的一个实施例的示意图;
图2为本发明的基于BCB胶的晶片级微空腔的密封方法的一个实施例的流程图。
具体实施方式
下面结合附图,通过实施例对本发明做进一步说明。
图1是本发明的基于BCB胶的晶片级微空腔的密封方法密封的一个实施例的示意图,包括:半导体晶片1、器件晶片2、BCB胶3、MEMS器件4和微空腔5;MEMS器件4设置在器件晶片2上;微空腔5与MEMS器件4相对应设置在半导体晶片1内;器件晶片2与半导体晶片1通过BCB胶3粘附在一起;半导体晶片1采用单晶硅。
如图2所示,本实施例的基于BCB胶的晶片级微空腔的密封方法,包括以下步骤:
1)BCB涂胶及软烘:此时器件晶片2上的MEMS器件已经完成,如图2(a)所示,半导体晶片1选用单晶硅,在半导体晶片1的正面,根据所需BCB胶3的厚度,1~20μm,调整转速,旋涂BCB胶3,之后放入氮气烘箱进行软烘,完成部分聚合化,软烘温200℃,时间为40min,如图2(b)所示;
2)光刻:涂覆光刻胶6,与器件晶片2上的MEMS器件相对应,形成微空腔5的图形,光刻胶6作为刻蚀BCB胶3和微空腔5的软掩膜,如图2(c)所示,其中,采用AZ4620光刻胶,光刻胶6与BCB胶3的刻蚀比为1:1,而光刻胶6与半导体晶片的刻蚀比为1:5,根据刻蚀比确定光刻胶6的厚度为7μm;
3)刻蚀BCB及微空腔:干法刻蚀BCB胶3,刻蚀气体六氟化硫SF6和O2比例为1:5,如图2(d)所示,之后干法刻蚀半导体晶片1,刻蚀气体SF6,如图2(e)所示,之后采用显影液去除残余光刻胶,形成微空腔5,如图2(f)所示;
4)BCB键合:将刻蚀有微空腔5的半导体晶片1倒扣过来,先采用光刻机进行对准,之后在键合机将半导体晶片1与器件晶片2进行BCB键合,控制键合条件为键合温度250℃,维持60分钟,确保BCB胶完全聚合化,同时需要施加一定的键合压力1.3ba和保持腔室高真空度(1e-4mbar),完成封装,如图2(g)所示。
最后需要注意的是,公布实施方式的目的在于帮助进一步理解本发明,但是本领域的技术人员可以理解:在不脱离本发明及所附的权利要求的精神和范围内,各种替换和修改都是可能的。因此,本发明不应局限于实施例所公开的内容,本发明要求保护的范围以权利要求书界定的范围为准。
Claims (7)
1.一种晶片级微空腔的密封方法,其特征在于,所述密封方法包括以下步骤:
1)旋涂BCB胶及软烘:在半导体晶片上先旋涂BCB胶,之后软烘来部分聚合化BCB胶;
2)光刻形成微空腔的图形;
3)刻蚀BCB胶,然后刻蚀半导体晶片,然后采用显影液去除残余光刻胶,形成微空腔;
4)表面有旋涂有BCB胶的微空腔的半导体晶片,与设置有MEMS器件的器件晶片进行对准并键合。
2.如权利要求1所述的密封方法,其特征在于,在步骤1)中,软烘在温度100~250℃之间,及时间1~60分钟内。
3.如权利要求1所述的密封方法,其特征在于,在步骤2)中,光刻胶的厚度在1~50μm之间。
4.如权利要求1所述的密封方法,其特征在于,在步骤3)中,刻蚀气体六氟化硫SF6和氧气O2的体积比例在1:1至1:10之间。
5.如权利要求1所述的密封方法,其特征在于,在步骤4)中,键合压力在1~3.5bar之间。
6.如权利要求1所述的密封方法,其特征在于,在步骤1)中,BCB胶的厚度在1~20μm之间。
7.如权利要求1所述的密封方法,其特征在于,所述半导体晶片采用硅或玻璃。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201210532250.0A CN102963864B (zh) | 2012-12-11 | 2012-12-11 | 一种基于bcb胶的晶片级微空腔的密封方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201210532250.0A CN102963864B (zh) | 2012-12-11 | 2012-12-11 | 一种基于bcb胶的晶片级微空腔的密封方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN102963864A CN102963864A (zh) | 2013-03-13 |
CN102963864B true CN102963864B (zh) | 2015-05-20 |
Family
ID=47794345
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201210532250.0A Expired - Fee Related CN102963864B (zh) | 2012-12-11 | 2012-12-11 | 一种基于bcb胶的晶片级微空腔的密封方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN102963864B (zh) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103441083B (zh) * | 2013-06-27 | 2016-03-30 | 清华大学 | 一种用于三维集成的临时键合方法 |
CN104555904A (zh) * | 2013-10-14 | 2015-04-29 | 北京大学 | 基于bcb转印工艺实现mems器件圆片级封装的方法 |
CN104909327B (zh) * | 2015-04-09 | 2017-03-08 | 上海新微技术研发中心有限公司 | 基于中间层键合的mems光学芯片的封装结构及封装方法 |
CN105390386A (zh) * | 2015-10-28 | 2016-03-09 | 中国科学院微电子研究所 | 一种bcb材料的刻蚀方法 |
CN106829849A (zh) * | 2017-03-29 | 2017-06-13 | 苏州希美微纳系统有限公司 | 基于光敏bcb键合的rf mems开关封装结构及其封装方法 |
CN107814351A (zh) * | 2017-11-03 | 2018-03-20 | 苏州希美微纳系统有限公司 | 适用于射频mems的键合封装构造及其方法 |
CN110190036B (zh) * | 2019-06-10 | 2021-11-30 | 华天慧创科技(西安)有限公司 | 一种泛光照明模组的晶圆级封装结构及封装方法 |
CN111071984B (zh) * | 2019-12-23 | 2023-04-07 | 湖南大学 | 一种选择性剥离光刻胶制备微纳结构的方法 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1513751A (zh) * | 2003-08-06 | 2004-07-21 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究 | 一种用毛细管法气密封装微机电系统器件的方法 |
CN1594067A (zh) * | 2003-09-08 | 2005-03-16 | 华中科技大学机械科学与工程学院 | 一种低温集成的圆片级微机电系统气密性封装工艺 |
US6874227B2 (en) * | 2003-06-03 | 2005-04-05 | Kingpak Technology Inc. | Method for packaging an image sensor |
CN101016148A (zh) * | 2006-02-07 | 2007-08-15 | 万长风 | 一种芯片级腔体密闭封装方法及封装结构 |
CN101188203A (zh) * | 2006-11-10 | 2008-05-28 | 视频有限公司 | 微器件的气密密封 |
CN101234747A (zh) * | 2008-02-21 | 2008-08-06 | 日月光半导体制造股份有限公司 | 微机电系统封装构造及其制造方法 |
CN101905855A (zh) * | 2009-06-05 | 2010-12-08 | 江苏丽恒电子有限公司 | 晶片级微器件的封装方法 |
CN102786024A (zh) * | 2011-05-16 | 2012-11-21 | 矽品精密工业股份有限公司 | 具微机电元件的封装结构及其制法 |
-
2012
- 2012-12-11 CN CN201210532250.0A patent/CN102963864B/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6874227B2 (en) * | 2003-06-03 | 2005-04-05 | Kingpak Technology Inc. | Method for packaging an image sensor |
CN1513751A (zh) * | 2003-08-06 | 2004-07-21 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究 | 一种用毛细管法气密封装微机电系统器件的方法 |
CN1594067A (zh) * | 2003-09-08 | 2005-03-16 | 华中科技大学机械科学与工程学院 | 一种低温集成的圆片级微机电系统气密性封装工艺 |
CN101016148A (zh) * | 2006-02-07 | 2007-08-15 | 万长风 | 一种芯片级腔体密闭封装方法及封装结构 |
CN101188203A (zh) * | 2006-11-10 | 2008-05-28 | 视频有限公司 | 微器件的气密密封 |
CN101234747A (zh) * | 2008-02-21 | 2008-08-06 | 日月光半导体制造股份有限公司 | 微机电系统封装构造及其制造方法 |
CN101905855A (zh) * | 2009-06-05 | 2010-12-08 | 江苏丽恒电子有限公司 | 晶片级微器件的封装方法 |
CN102786024A (zh) * | 2011-05-16 | 2012-11-21 | 矽品精密工业股份有限公司 | 具微机电元件的封装结构及其制法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN102963864A (zh) | 2013-03-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN102963864B (zh) | 一种基于bcb胶的晶片级微空腔的密封方法 | |
CN102862947B (zh) | 一种mems器件及其晶圆级真空封装方法 | |
CN102556956B (zh) | Mems器件的真空封装结构及其制作方法 | |
US8513747B1 (en) | Integrated MEMS devices with controlled pressure environments by means of enclosed volumes | |
CN102079502B (zh) | 一种mems器件及其圆片级真空封装方法 | |
CN103818874B (zh) | Mems结构与处理电路集成系统的封装方法 | |
CN104692319B (zh) | 对封装应力不敏感的mems芯片的制造方法及其mems芯片 | |
CN101554987B (zh) | 一种微机电系统的圆片级真空封装工艺 | |
CN102627253B (zh) | 一种用于mems器件的自对准封装结构及其制造方法 | |
JP2009283526A (ja) | ガスセルの製造方法及びガスセル | |
US20130207281A1 (en) | Microelectronic substrate comprising a layer of buried organic material | |
CN103885325B (zh) | 一种芯片级原子钟气室及其制备方法 | |
US20110062532A1 (en) | MEMS Chip And Package Method Thereof | |
US9567205B2 (en) | Micromechanical sensor device with a getter in an enclosed cavity | |
CN100445195C (zh) | 一种圆片级微机械器件或光电器件的低温气密性封装方法 | |
CN105600738A (zh) | 一种用于晶圆级封装的密闭结构及其制造方法 | |
RU2012146872A (ru) | Способ изготовления герметизированной конструкции | |
US7598125B2 (en) | Method for wafer level packaging and fabricating cap structures | |
CN103879952A (zh) | Mems器件真空封装结构的制作方法 | |
US7510947B2 (en) | Method for wafer level packaging and fabricating cap structures | |
US8378433B2 (en) | Semiconductor device with a controlled cavity and method of formation | |
TWI278045B (en) | Method for wafer-level package | |
US9637372B2 (en) | Bonded wafer structure having cavities with low pressure and method for forming | |
CN104355285B (zh) | 一种mems器件的真空封装结构及其制造方法 | |
CN202785632U (zh) | 一种用于mems光学器件的薄膜封帽封装结构 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20150520 Termination date: 20191211 |
|
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |