CN102956429A - 一种用于宽束离子注入机的引出电极系统 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种用于宽带束离子注入机的引出电极系统，包括：Y1方向运动机构(1)，移动支架(2)，安装法兰(3)，引出电极(4)，抑制电极(5)，Y2方向运动机构(6)，Z1方向运动机构(7)，Z2方向运动机构(8)，用于连接抑制电极(5)和引出电极(4)的连接柱(9)。其中Y1方向运动机构(1)用于控制抑制电极(5)和引出电极(4)在Y1方向上的运动，Y2方向运动机构(6)用于控制抑制电极(5)和引出电极(4)在Y2方向上的运动。Z1方向运动机构(7)和Z2方向运动机构(8)分别用于控制抑制电极(5)和引出电极(4)在Z1方向上和Z2方向上的运动。

Description

一种用于宽束离子注入机的引出电极系统
技术领域
本发明涉及一种半导体器件制造控制系统，即离子注入机，特别地，涉及一种用于宽束离子注入机的引出电极系统，属于半导体装备制造领域。
背景技术
在半导体制造工艺设备离子注入机中，离子源引出系统是整机设备关键部件之一，其与离子源本体结合在一起构成离子注入机的核心部件-离子源系统；其决定了离子注入机诸多性能指标，如离子源系统的引出束流大小、引出能量大小、引出束流品质及束稳定性能等。
离子注入机离子源引出电极系统一般采用的是加减速三电极结构，但是当我们为了得到低能大束流时，将采用宽缝离子源，这种情况下，三电极结构将很难精确调节引出缝和离子源引出缝的位置，本发明提供了一种用于宽束离子注入机的引出电极系统，能够在四个方向调节引出电极的位置，以精确调节引出电极引出缝和离子源的位置。
发明内容
本发明涉及一种用于宽束离子注入机的引出电极系统。
本发明所涉及的实施例包括以下结构件：Y1方向运动机构(1)，移动支架(2)，安装法兰(3)，引出电极(4)，抑制电极(5)，Y2方向运动机构(6)，Z1方向运动机构(7)，Z2方向运动机构(8)，用于连接抑制电极(5)和引出电极(4)的连接柱(9)。
其中Y1方向运动机构(1)用于控制抑制电极(5)和引出电极(4)在Y1方向上的运动，Y2方向运动机构(6)用于控制抑制电极(5)和引出电极(4)在Y2方向上的运动。Z1方向运动机构(7)和Z2方向运动机构(8)分别用于控制抑制电极(5)和引出电极(4)在Z1方向上和Z2方向上的运动。
其中Y1方向运动机构(1)和Y2方向运动机构在结构上相对独立，即Y1方向运动机构(1)和Y2方向运动机构都是单独运动，不相互影响，以此调节抑制电极(5)和引出电极(4)在X方向的位置，最终调节至抑制电极(5)和引出电极(4)的引出缝水平。
其中Z1方向运动机构(7)用于调节抑制电极(5)和引出电极(4)在Z方向上的整体运动，以此调节抑制电极(5)和引出电极(4)引出缝和离子源引出缝的距离，其中Z2方向运动机构(8)与Y1方向运动机构(1)连接，Z2方向运动机构(8)与Y2方向运动机构(6)相互独立，即Z2方向运动机构(8)用于调节抑制电极(5)和引出电极(4)在Y1方向运动机构(1)一端的Z方向上的移动，以此调节至抑制电极(5)和引出电极(4)的左右两端在Z方向上相平。
附图说明
下面结合附图和具体实施例对本发明作进一步介绍，但不作为对本发明专利的限定。
图1离子源和引出电极系统的排列示意图。
图2为引出电极系统的主视示意图。
图3为引出电极系统的俯视示意图。
图1中包括：离子源(10)，引出电极(4)和抑制电极(5).
图2和图3中包括：Y1方向运动机构(1)，移动支架(2)，安装法兰(3)，引出电极(4)，抑制电极(5)，Y2方向运动机构(6)，Z1方向运动机构(7)，Z2方向运动机构(8)，用于连接抑制电极(5)和引出电极(4)的连接柱(9)。
具体实施方式
下面结合附图的具体实施例对本发明作进一步介绍，应该理解，这些描述都是说明性的，本发明不限于此。本发明的范围仅由所附权利要求的范围所限定。
如图1所示，引出电极(4)将离子源(10)中产生的离子束流引出。本专利所涉及的引出电极系统设置在离子源(10)出口的后方，将离子源(10)产生的束流引出。设计良好的引出电极系统对于离子源(10)的不同放电状态以及不同的引出能量，都能自动引出光学品质良好的束流。
本发明提供了一种用于宽束离子注入机的引出电极系统，下面对本发明的实施例进行详细描述。
图2为本发明实施例的主视图，其中Y1方向运动机构(1)用于控制抑制电极(5)和引出电极(4)在Y1方向上的运动，Y2方向运动机构(6)用于控制抑制电极(5)和引出电极(4)在Y2方向上的运动。
其中Y1方向运动机构(1)和Y2方向运动机构在结构上相对独立，即Y1方向运动机构(1)和Y2方向运动机构都是单独运动，不相互影响，以此调节抑制电极(5)和引出电极(4)在X方向的位置，最终调节至抑制电极(5)和引出电极(4)的引出缝水平。
图3所示为本发明实施例的俯视图，其中Z1方向运动机构(7)和Z2方向运动机构(8)分别用于控制抑制电极(5)和引出电极(4)在Z1方向上和Z2方向上的运动。
其中Z1方向运动机构(7)用于调节抑制电极(5)和引出电极(4)在Z方向上的整体运动，以此调节抑制电极(5)和引出电极(4)引出缝和离子源引出缝的距离。
其中Z2方向运动机构(8)与Y1方向运动机构(1)连接，Z2方向运动机构(8)与Y2方向运动机构(6)相互独立，即Z2方向运动机构(8)用于调节抑制电极(5)和引出电极(4)在Y1方向运动机构(1)一端的Z方向上的移动，以此调节至抑制电极(5)和引出电极(4)的左右两端在Z方向上相平。
图3中用于连接抑制电极(5)和引出电极(4)的连接柱(9)为4个，材料为陶瓷，起到绝缘作用。
以上所述已对本发明的内容做了详尽说明。对本领域一般技术人员而言，在不背离本发明精神的前提下对它所做的任何显而易见的改动，都构成对本发明专利的侵犯，将承担相应的法律责任。

Claims (4)

1.一种用于宽带束离子注入机的引出电极系统，包括：Y1方向运动机构(1)，移动支架(2)，安装法兰(3)，引出电极(4)，抑制电极(5)，Y2方向运动机构(6)，Z1方向运动机构(7)，Z2方向运动机构(8)，用于连接抑制电极(5)和引出电极(4)的连接柱(9)。
2.权利1中所述用于宽带束离子注入机的引出电极系统，其中Y1方向运动机构(1)用于控制抑制电极(5)和引出电极(4)在Y1方向上的运动，Y2方向运动机构(6)用于控制抑制电极(5)和引出电极(4)在Y2方向上的运动。Z1方向运动机构(7)和Z2方向运动机构(8)分别用于控制抑制电极(5)和引出电极(4)在Z1方向上和Z2方向上的运动。
3.权利1和2中所述用于宽带束离子注入机的引出电极系统，其中Y1方向运动机构(1)和Y2方向运动机构在结构上相对独立，即Y1方向运动机构(1)和Y2方向运动机构都是单独运动，不相互影响，以此调节抑制电极(5)和引出电极(4)在X方向的位置，最终调节至抑制电极(5)和引出电极(4)的引出缝水平。
4.权利1和2中所述用于宽带束离子注入机的引出电极系统，其中Z1方向运动机构(7)用于调节抑制电极(5)和引出电极(4)在Z方向上的整体运动，以此调节抑制电极(5)和引出电极(4)引出缝和离子源引出缝的距离，其中Z2方向运动机构(8)与Y1方向运动机构(1)连接，Z2方向运动机构(8)与Y2方向运动机构(6)相互独立，即Z2方向运动机构(8)用于调节抑制电极(5)和引出电极(4)在Y1方向运动机构(1)一端的Z方向上的移动，以此调节至抑制电极(5)和引出电极(4)的左右两端在Z方向上相平。
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