CN102928170A - 氦质谱检漏仪的校准方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种入口压力可调节的氦质谱检漏仪的现场校准方法,包括以下步骤:1)吸枪装配在氦质谱检漏仪上,开启氦质谱检漏仪,确保试验空间内的大气中的氦气浓度不变;2)试验测试:调节检漏仪的入口压力,并实时记录下检漏仪的漏率反应值,数据形式为一个入口压力对应一个漏率反应值;3)根据对应的入口压力与漏率反应值的数据,进行y=kx形式的线性拟合,得到拟合曲线,然后根据入口压力和校准曲线最终校准得到对应的真实漏率值。本发明的现场校准方法使用方便,资源需求少,实施便捷,且不需要额外的工装及功耗品,成本低廉。
Description
技术领域
本发明属于检漏技术领域,具体来说,涉及一种氦质谱检漏仪的校准方法,该方法特别适合用于现场对入口压力可调节的氦质谱检漏仪的校准,具有快捷、方便的特点。
背景技术
目前,国内对于氦质谱检漏仪的校准只采用单只真空标准漏孔进行校准,因此,可靠性较低。而兰州物理研究所采用的多只真空标准漏孔对氦质谱检漏仪进行校准,给出了氦质谱检漏仪的校准曲线及不确定度,提高了氦质谱检漏仪测试结果的可靠性,但该方法仅仅适用于L300检漏仪的Fine模式(即L300检漏仪的入口压力较低时的模式)。并不适合其他模式,如Gross模式。因此,有必要发明一种L300检漏仪在Gross模式下(即检漏仪的入口压力较大时的模式,航天器单点漏率测试的通常模式)能对氦质谱检漏仪进行校准的方法,以提高航天器单点检漏测试结果的可靠性。
发明内容
本发明的目的是提供一种入口压力可调节的氦质谱检漏仪现场校准的方法,以便提高航天器单点检漏测试结果的可靠性。
本发明所提供的具体方案如下:
本发明的一种入口压力可调节的氦质谱检漏仪的现场校准方法,包括以下步骤:
1)吸枪装配在氦质谱检漏仪上,开启氦质谱检漏仪,确保吸枪的调压阀正常工作并使试验空间相对密闭且无明显空气流动,以保证试验空间内的大气中的氦气浓度不变;
2)试验测试:调节检漏仪的入口压力,并实时记录下检漏仪的漏率反应值,数据形式为一个入口压力对应一个漏率反应值;
a.待检漏仪的入口压力稳定后,试调节吸枪的调压阀,确保检漏仪的入口压力变化;
b.调节检漏仪的入口压力,并实时记录检漏仪的漏率反应值和入口压力,记录对应的漏率反应值和入口压力的次数在10次以上,优选15次,更优选20次以上;
3)根据对应的入口压力与漏率反应值的数据,进行y=kx形式的线性拟合,得到拟合曲线,此拟合曲线即为该量程范围内检漏仪的校准曲线,然后根据入口压力和校准曲线最终校准得到对应的真实漏率值。
其中,入口压力可调节的氦质谱检漏仪包括L300,L200,L500等等。
其中,L300氦质谱检漏仪的模式为Gross模式。
本发明技术方案的特点包括:
1.本发明异常的方便,资源需求少,可以现场对入口压力可调节的氦质谱检漏仪进行校准。
本发明不需要额外的工装及功耗品,因此成本低廉。
附图说明
图1是现场校准氦质谱检漏仪的示意图:
其中,1-氦质谱检漏仪,2-软管,3-调压阀,4-吸枪。
图2是某L300氦质谱检漏仪得到的校准曲线(红线)。
具体实施方式
以下介绍的是作为本发明所述内容的具体实施方式,下面通过具体实施方式对本发明的所述内容作进一步的阐明。当然,描述下列具体实施方式只为示例本发明的不同方面的内容,而不应理解为限制本发明范围。
如图1所示,本发明的测试过程为:将装有调压阀3的吸枪4用软管2装配在氦质谱检漏仪1上,开启氦质谱检漏仪1,待氦质谱检漏仪的入口压力稳定后,调节调压阀3,改变氦质谱检漏仪1的入口压力,能得到一个氦质谱检漏仪的漏率反应值,再改变检漏仪的入口压力,又得到一个检漏仪的漏率反应值,以此类推,直至得到一连串入口压力和漏率反应值的数据。
本发明的一种入口压力可调节的氦质谱检漏仪的现场校准方法,具体实施步骤如下:
1)试验准备:
a.确保试验空间相对密闭且无明显空气流动,以保证大气中的氦气浓度不变;
b.将装有调压阀的吸枪装配在氦质谱检漏仪上;
c.开启氦质谱检漏仪,确保吸枪的调压阀能正常使用。
2)试验测试:
a.待氦质谱检漏仪的入口压力稳定后,试调节调压阀,确保检漏仪的入口压力变化;
b.调节氦质谱检漏仪的入口压力,并实时记录检漏仪的漏率反应值和入口压力,数据形式为一个入口压力对应一个漏率反应值。记录对应的漏率反应值和入口压力的次数在10次以上,优选15次,更优选20次以上。
3)数据处理及校准:
a.处理入口压力与检漏仪漏率反应值的关系,并做y=kx形式的线性拟合;
b.观察该线性拟合曲线的拟合质量,此曲线即为该量程范围内的校准曲线。然后根据入口压力和校准曲线最终校准得到对应的真实漏率值。
如某次对L300检漏仪进行校准,所测得的数据如表1所示。
表1 某次校准L300检漏仪的试验数据
序号 | 入口压力P1/Pa | 漏率反应值I/Pa·m3s-1 |
1 | 28.1 | 8.10E-08 |
2 | 33 | 9.43E-08 |
3 | 46.2 | 1.32E-07 |
4 | 53.6 | 1.53E-07 |
5 | 67.3 | 1.96E-07 |
6 | 84.2 | 2.52E-07 |
7 | 97 | 2.97E-07 |
8 | 112 | 3.34E-07 |
9 | 154 | 4.50E-07 |
10 | 204 | 6.26E-07 |
11 | 253 | 7.40E-07 |
12 | 292 | 8.44E-07 |
13 | 349 | 9.88E-07 |
14 | 401 | 1.14E-06 |
15 | 454 | 1.27E-06 |
16 | 504 | 1.42E-06 |
17 | 545 | 1.55E-06 |
18 | 602 | 1.74E-06 |
19 | 657 | 1.92E-06 |
20 | 704 | 2.09E-06 |
21 | 754 | 2.28E-06 |
22 | 799 | 2.46E-06 |
23 | 851 | 2.67E-06 |
24 | 900 | 2.89E-06 |
25 | 951 | 3.12E-06 |
26 | 1000 | 3.37E-06 |
27 | 1040 | 3.51E-06 |
根据表1的数据,可做出如图2所示的图形,并在图2上做y=kx形式的线性拟合,其中红线部分即为拟合的校准曲线,其表达式是
I=3.13×10-9P1
通过如上式描述的校准曲线以及检漏仪的入口压力即可得到对应的真实漏率值,具体过程如下:
当入口压力P1=97Pa时,通过上式可得检漏仪的真实漏率值为
I=3.13×10-9P1=3.13×10-9×97=3.03×10-7(Pa·m3s-1)
而由表1可知,当P1=97Pa,检漏仪的漏率反应值为2.97×10-7Pa·m3s-1,此值相对于检漏仪的真实漏率值较小。
尽管根据实施方式对本发明进行了详细说明,但本领域的技术人员明白,在本发明的精神和范围下,本发明的任何变形和改变是可能的,都应该落在本发明的保护范围内。
Claims (4)
1.一种入口压力可调节的氦质谱检漏仪的现场校准方法,包括以下步骤:
1)吸枪装配在氦质谱检漏仪上,开启氦质谱检漏仪,确保吸枪的调压阀正常工作并使试验空间相对密闭且无明显空气流动,以保证试验空间内的大气中的氦气浓度不变;
2)试验测试:调节检漏仪的入口压力,并实时记录下检漏仪的漏率反应值,数据形式为一个入口压力对应一个漏率反应值;
a.待检漏仪的入口压力稳定后,试调节吸枪的调压阀,确保检漏仪的入口压力变化;
b.调节检漏仪的入口压力,并实时记录检漏仪的漏率反应值和入口压力,记录对应的漏率反应值和入口压力的次数在10次以上;
3)根据对应的入口压力与漏率反应值的数据,进行y=kx形式的线性拟合,得到拟合曲线,此拟合曲线即为该量程范围内检漏仪的校准曲线,然后根据入口压力和校准曲线最终校准得到对应的真实漏率值。
2.根据权利要求1所述的现场校准方法,其中,入口压力可调节的氦质谱检漏仪包括L300,L200和L500。
3.根据权利要求2或3所述的现场校准方法,其中,记录对应的漏率反应值和入口压力的次数大于20次。
4.根据权利要求2所述的现场校准方法,其中,L300氦质谱检漏仪的模式为Gross模式。
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CN2011102253010A CN102928170A (zh) | 2011-08-08 | 2011-08-08 | 氦质谱检漏仪的校准方法 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN117073921A (zh) * | 2023-10-16 | 2023-11-17 | 成都睿宝电子科技有限公司 | 一种基于氦质谱检漏仪的自动化校准测试装置及方法 |
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US4845360A (en) * | 1987-12-10 | 1989-07-04 | Varian Associates, Inc. | Counterflow leak detector with high and low sensitivity operating modes |
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CN101373163A (zh) * | 2007-08-23 | 2009-02-25 | 博益(天津)气动技术研究所有限公司 | 一种用漏孔法绘制压差与泄漏量关系曲线的方法 |
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2011
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Patent Citations (3)
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Non-Patent Citations (1)
Title |
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王勇等: "氦质谱检漏仪入口压力与显示值的关系研究", 《真空科学与技术学报》 * |
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PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
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