CN102910457A - 一种控制粉体流量的装置及方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种控制粉体流量的装置及方法，其中装置包括固体储料槽，其特征在于：还包括一溢流槽，该溢流槽包括一流化腔和一布风腔，所述的流化腔位于所述的布风腔上端，所述的储料槽的下降管连接至所述的流化腔，在所述的流化腔上端设置有溢流口，在所述的布风腔下端设置有进风口，在进风口连接有进风管路，在进风管路上设置有风量开关。本发明在储料槽下端设置一溢流槽，并在溢流槽下端设置布风腔，通过脉冲信号控制布风腔内风量的大小和时间，使流化状态的粉体从溢流口流出，从而通过时间的长短和风量的大小即可精确控制粉体流量的大小。与现有技术相比，本发明不仅结构简单，操作方便，而且流量控制精确。

Description

一种控制粉体流量的装置及方法
技术领域
本发明涉及一种控制粉体流量的装置及方法，能够广泛应用于粉体流量控制的场合。
背景技术
在工业生产中，很多地方需要对粉末状或小颗粒散状固体的流量进行准确的测量、控制。如在冶金行业中，烧结矿的自动给料系统；在建材行业中，混凝土搅拌站的自动配料系统；在电力行业中，火电厂锅炉煤的自动加料；在化工部门中，化学制剂的比例供给、食品医药的定量包装等。因此，对粉体的流量进行准确测控研究具有很大的现实意义。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是针对上述现有技术的不足，而提供一种控制粉体流量的装置及方法，其具有流量控制准确、操作简单等特点，若投入实际应用可提高整个系统的工作效率及稳定性，同时能够实现集中控制。
为解决上述技术问题，本发明的技术方案如下：
一种控制粉体流量的装置，包括固体储料槽，其特征在于：还包括一溢流槽，该溢流槽包括一流化腔和一布风腔，所述的的流化腔位于所述的布风腔上端，所述的储料槽的下降管连接至所述的流化腔，在所述的流化腔上端设置有溢流口，在所述的布风腔下端设置有进风口，在进风口连接有进风管路，在进风管路上设置有风量开关。
所述的流化腔内还设置有一出料腔，所述的溢流口设置在所述的出料腔内。
一种控制粉体流量的方法，积存在固体储料槽中的粉体通过下降管进入溢流槽后，通过脉冲信号控制风量开关控制布风腔内风量的大小和布风的时间，在布风腔风力的鼓吹作用下粉体处于流化状态并从溢流口流出。
所述的脉冲信号为方波信号。
本发明在储料槽下端设置一溢流槽，并在溢流槽下端设置布风腔，通过脉冲信号控制布风腔内风量的大小和时间，使流化状态的粉体从溢流口流出，从而通过时间的长短和风量的大小即可精确控制粉体流量的大小。与现有技术相比，本发明不仅结构简单，操作方便，而且流量控制精确。
附图说明
图1为一种控制粉体流量的装置图。
具体实施方式
下面结合附图，对本发明作详细说明：
如图1所示，本发明控制粉体流量的装置，包括固体储料槽1和溢流槽3，溢流槽3包括一流化腔6和一布风腔4，在流化腔6位于布风腔4上端，流化腔6内通过隔板还设置有一出料腔7，流化腔6和出料腔7下端连通，储料槽1的下降管2从溢流槽3上端进入流化腔6内，在出料腔7上端设置有溢流口，在布风腔4下端设置有进风口，在进风口连接有进风管路，在进风管路上设置有风量开关5。
本发明一种控制粉体流量的方法，首先积存在固体储料槽1中的粉体通过下降管2进入溢流槽3。通过调节风量控制粉体流量的实验，绘制出粉体流量与风量的曲线图，从而根据粉体流量的实际需求得到所需风量，设置对应的脉冲信号控制风量开关5的风量大小和运行时间。进入溢流槽的粉体在特定风力的鼓吹作用下从溢流管流出，如此控制粉体流量。

Claims (4)

1.一种控制粉体流量的装置，包括固体储料槽（1），其特征在于：还包括一溢流槽（3），该溢流槽（3）包括一流化腔和一布风腔，所述的的流化腔位于所述的布风腔上端，所述的储料槽的下降管（2）连接至所述的流化腔，在所述的流化腔上端设置有出料口，在所述的布风腔下端设置有进风口，在进风口连接有进风管路，在进风管路上设置有风量开关。
2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于：所述的流化腔内还设置有一出料腔，所述的溢流口设置在所述的出料腔内。
3.一种采用权利要求1所述的装置控制粉体流量的方法，其特征在于：积存在固体储料槽（1）中的粉体通过下降管（2）进入溢流槽（3）后，通过脉冲信号控制风量开关（5）控制布风腔内风量的大小和布风的时间，在布风腔风力的鼓吹作用下粉体处于流化状态并从溢流口流出。
4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于：所述的脉冲信号为方波信号。
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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