CN102898041A - 中性色的双银复合结构低辐射镀膜玻璃及工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种中性色的双银复合结构低辐射镀膜玻璃及镀制工艺，该玻自玻璃基板向外的结构层依次为：玻璃/电介质层（1）/复合吸收层（1）/铜合金层（1）/银层（1）/保护层（1）/复合电介质层（1）/银层（2）/保护层（2）/电介质层（2）；采用真空磁控溅射镀膜工艺，优点是，在原有复合结构中新增加一层铜合金层，能够使其透过颜色呈中性色。并且，铜合金和银的特性使得该玻璃对远红外线的放射率大大提高，即达到了低辐射的性能。
Description
技术领域
本发明涉及一种中性色的双银复合结构低辐射镀膜玻璃及工艺
特别是涉及镀有金属铜镀层的双银复合结构低辐射镀膜玻璃。
背景技术
市场上目前的双银复合结构的低辐射镀膜玻璃，在保证反射颜色呈中性色时，其透过颜色无法同时呈现中性色效果，从室内观测室外情况，经常呈现出淡淡的绿色或者黄色。主要是因为这种双银产品其多层复合结构的光线干涉所造成的。
发明内容
本发明目的，为了能够保持反射颜色不变的情况下，透射颜色呈中性色的双层银的镀膜玻璃，提供一种含有铜铝合金层的双银复合结构的低辐射镀膜玻璃及生产工艺。该玻璃膜层结构自玻璃基板向外依次为：
电介质层（1）、复合吸收层（1）、铜合金层（1）、银层（1）、保护层（1）、复合电介质层（1）、银层（2）、保护层（2）、电介质层（2）；
其中：电介质层（1）为SiNx，膜层厚度为 25nm～50nm;
复合吸收层（1）为在NiCr镀层上再镀陶瓷ZnOx层，总膜层厚度为12nm~14nm;
铜铝合金层（1）为CuAlNx层，膜层厚度为2~10nm；
银层（1）、（2）为Ag，膜层厚度为 5nm~15nm;
保护层（1）、（2）为NiCr，膜层厚度为 0nm~14nm;
复合电介质层（1）为在ZnO镀层上再依次镀SnO2层、ZnO层结构，总膜层厚度为 50nm~110nm;
电介质层（2）为Si3N4，膜层厚度为 35nm~50nm。
所述铜铝合金层，在该多层复合膜层结构中，其位置位于电介质层（1）和（2）之间的任何位置。
所述铜铝合金层，为镀制的氮化铜铝合金。
本发明采用真空磁控溅射镀膜工艺, 各膜层的镀制工艺是：
电介质层（1），通过交流阴极的锡靶在氧氩氛围中溅射；
复合吸收层（1），通过直流平靶在氩气氛围中溅射镍铬合金，其中Ni:Cr=80:20，并在镍铬合金上镀有由交流阴极的ZnO靶溅射的ZnO层，其氩氧比例保持在20：1.5；
铜铝合金层（1），通过直流铜铝合金平靶在氩氮氛围中溅射氮化铜铝合金层；
银层（1）、（2），通过直流平靶在氩气氛围中溅射；
保护层（1）、（2），通过直流平靶在氩气氛围中溅射镍铬合金，其中Ni:Cr=80:20；
复合电介质层（1），通过交流阴极的锌铝靶、氧化锡靶、锌铝靶在氧氩氛围中溅射；
电介质层（2），通过交流阴极的硅铝合金靶在氮氩氛围中溅射，
硅铝合金之比为Si:Al=90:10。
本发明优点是，在保证原先双银低辐射镀膜玻璃性能的基础上，其透射颜色呈中性色。并且，铜合金和银的特性使得该玻璃对远红外线的放射率大大提高，即达到了低辐射的性能。
具体实施方式
本发明用平板玻璃双端连续式镀膜机进行生产，其中一种优选的工艺方案，使用6个交流双靶，6个直流单靶，共12个靶位进行生产，制出本发明的中性色的双银复合结构低辐射镀膜玻璃。其工艺参数和靶的位置列表如下 ：
用上述工艺参数制出的玻璃光学性能如下：
玻璃可见光透过率T=66%
可见光玻璃面反射率=10%
可见光玻璃面反射色坐标a*值= -1
色坐标b*值= -6.5
可见光透射色坐标a*值= -0.8
色坐标b*值= 1.2
玻璃的辐射率ε=0.040。
本发明制成中空玻璃间隔为12mm充空气窗结构，按照ISO10292标准测定的数据如下：
可见光透过率T=61%
可见光玻璃面反射率（Out）=12%
可见光玻璃面反射率（In）=12%
太阳能透过率T=31%
太阳能反射率（Out）=30%
G-value=0.37
遮阳系数SC=0.42
传热系数U=1.63W/m2·K。
Claims (4)
1.一种中性色的双银复合结构低辐射镀膜玻璃，其特征在于：在玻璃基板镀制包含有复合吸收层在内的多层膜层的结构，各膜层结构，自玻璃基板向外依次为：
电介质层（1）、复合吸收层（1）、铜合金层（1）、银层（1）、保护层（1）、复合电介质层（1）、银层（2）、保护层（2）、电介质层（2）；
其中：电介质层（1）为SiNx，膜层厚度为 25nm～50nm;
复合吸收层（1）为在NiCr镀层上再镀陶瓷ZnOx层，总膜层厚度为12nm~14nm;
铜铝合金层（1）为CuAlNx层，膜层厚度为2~10nm；
银层（1）、（2）为Ag，膜层厚度为 5nm~15nm;
保护层（1）、（2）为NiCr，膜层厚度为 0nm~14nm;
复合电介质层（1）为在ZnO镀层上再依次镀SnO2层、ZnO层结构，总膜层厚度为 50nm~110nm;
电介质层（2）为Si3N4，膜层厚度为 35nm~50nm。
2.根据权利要求1所述的中性色的双银复合结构低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述铜铝合金层，在该多层复合膜层结构中，其位置位于电介质层（1）和（2）之间的任何位置。
3.根据权利要求2所述的中性色的双银复合结构低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述铜铝合金层，为镀制的氮化铜铝合金。
4.按权利要求1所述中性色的双银复合结构低辐射镀膜玻璃的镀制工艺，各膜层的镀制工艺是：
电介质层（1），通过交流阴极的锡靶在氧氩氛围中溅射；
复合吸收层（1），通过直流平靶在氩气氛围中溅射镍铬合金，其中Ni:Cr=80:20，并在镍铬合金上镀有由交流阴极的ZnOx靶溅射的ZnOx层，其氩氧比例保持在20：1.5；
铜铝合金层（1），通过直流铜铝合金平靶在氩氮氛围中溅射氮化铜铝合金层；
银层（1）、（2），通过直流平靶在氩气氛围中溅射；
保护层（1）、（2），通过直流平靶在氩气氛围中溅射镍铬合金，其中Ni:Cr=80:20；
复合电介质层（1），通过交流阴极的锌靶、锡靶、锌靶在氧氩氛围中溅射；
电介质层（2），通过交流阴极的硅铝合金靶在氮氩氛围中溅射，
硅铝合金之比为Si:Al=90:10。
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