CN102886745B - 基于热加速腐蚀的射流研抛机构 - Google Patents

基于热加速腐蚀的射流研抛机构 Download PDF

Info

Publication number
CN102886745B
CN102886745B CN201210292852.3A CN201210292852A CN102886745B CN 102886745 B CN102886745 B CN 102886745B CN 201210292852 A CN201210292852 A CN 201210292852A CN 102886745 B CN102886745 B CN 102886745B
Authority
CN
China
Prior art keywords
liquid
optical element
corrosion rate
corrosive liquid
organisation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN201210292852.3A
Other languages
English (en)
Other versions
CN102886745A (zh
Inventor
马臻
许亮
丁蛟腾
陈钦芳
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
XiAn Institute of Optics and Precision Mechanics of CAS
Original Assignee
XiAn Institute of Optics and Precision Mechanics of CAS
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by XiAn Institute of Optics and Precision Mechanics of CAS filed Critical XiAn Institute of Optics and Precision Mechanics of CAS
Priority to CN201210292852.3A priority Critical patent/CN102886745B/zh
Publication of CN102886745A publication Critical patent/CN102886745A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN102886745B publication Critical patent/CN102886745B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)

Abstract

本发明提供一种基于热加速腐蚀的射流研抛机构,主要解决了现有光学元件,尤其是非球面光学元件加工时成本较高,加工效率较低的问题。基于控制腐蚀的光学元件加工机构,包括被加工件固定装置和用于提供加工运动轨迹的执行装置、用于储存腐蚀液的储液装置、用于加热腐蚀液的加热装置、用于控制腐蚀液加热温度和加工运动轨迹的控制装置。本发明效率高,射流溶液从腐蚀液逐渐过渡到水,腐蚀液的引入及温度控制变量的引入,大幅提高了射流技术的材料去除能力,可以实现非球面的铣磨。

Description

基于热加速腐蚀的射流研抛机构
技术领域
本发明涉及一种研磨、抛光机构,该装置适用于非球面光学元件的高效加工。
背景技术
非球面光学元件具有矫正多种像差,改善成像质量,简化光学系统并扩大视场等诸多优点,在军用和民用领域众多的光电产品中已得到广泛应用。但非球面光学元件的加工仍然存在设备昂贵、精度低、效率低下等问题,严重制约了相关产业和科研项目的发展。
子孔径抛光技术是针对非球面的加工困难提出的一种定量抛光技术。由于其加工的确定性和广泛性,目前该技术已成为各大光学加工车间主要的加工手段。
磨料水射流技术是基于子孔径抛光技术提出的绿色加工方式。和传统加工方法相比,磨料水射流技术具有加工时无工具磨损、无热影响,反作用力小、加工柔性高等优点,目前已被广泛应用到多种加工行业,用于加工陶瓷、石英、复合材料等多种材料。但由于射流口径小,加工效率问题一直是困扰该技术广泛应用的主要因素。
发明内容
本发明提供一种基于热加速腐蚀的射流研抛机构,主要解决了现有光学元件,尤其是非球面光学元件加工时成本较高,加工效率较低的问题。
本发明的具体技术解决方案是:
基于控制腐蚀的光学元件加工机构,包括被加工件固定装置和用于提供加工运动轨迹的执行装置、用于储存腐蚀液的储液装置、用于加热腐蚀液的加热装置、用于控制腐蚀液加热温度和加工运动轨迹的控制装置;所述执行装置上设置有喷嘴,储液装置通过连接管道依次与加热装置和喷嘴连接。
上述控制装置包括依次连接的温度控制器、工业PC和执行装置控制器;所述温度控制器和加热装置连接,执行装置控制器和执行装置连接。
上述执行装置是6轴工业机器人或机械手臂。
上述储液装置和加热装置之间设置有用于过滤杂质的过滤器。
上述喷嘴与被加工件之间的距离在加工时保持恒定。
上述被加工件固定装置、执行装置和储液装置均设置于密闭空间内。
上述喷嘴与被加工件之间的距离在加工时保持恒定。
本发明的优点在于:
1、效率更高。射流溶液从腐蚀液逐渐过渡到水,腐蚀液的引入及温度控制变量的引入,大幅提高了射流技术的材料去除能力,可以实现非球面的铣磨。而最终过渡到水溶液,保证了高精度面型和优异的表面质量。
2、因为工具和工件之间没有刚性接触,可以使用工业机器人来实现喷嘴的运动控制,如此将减少专用设备的制造成本。
附图说明
图1为基于该方法的加工流程图;
其中:1为6轴工业机器人,2为喷嘴,3为被加工件,4为密闭室,5为储液装置,6为过滤器,7为工业机器人控制器,8为工业PC,9为温度控制器,10为加热装置,11为泵。
具体实施方式
本发明克服了磨料水射流的缺陷,把化学腐蚀原理引入到射流光学加工中,并增加温度控制变量对化学腐蚀进行加速,实现高效的子孔径的环带修抛;磨料腐蚀液射流来进行光学元件加工,其中主要依靠化学腐蚀来进行材料去除,磨粒进行表面平坦化。
通过对腐蚀液加热的方法,可以加速化学腐蚀速率,从而解决传统磨料水射流加工效率低的问题;温度控制可以为恒温或者变温,恒温下只是通过控制各环带的驻留时间来实现不同环带的材料去除,而变温可以平衡加工时间,从而提高加工效率。
以下结合附图对本发明的一实施例进行说明:
参照图1,基于热加速腐蚀的射流研抛机构包括被加工件固定装置和用于提供加工运动轨迹的执行装置、用于储存腐蚀液的储液装置、用于加热腐蚀液的加热装置、用于控制腐蚀液加热温度和加工运动轨迹的控制装置;执行装置上设置有喷嘴,储液装置通过连接管道依次与加热装置和喷嘴连接。
被加工件3倒置并连至固定装置上,固定装置一侧设置被加工件,另一侧与旋转主轴固定连接;腐蚀液可以实现闭环循环利用,在储液装置中倒入与被加工件适配的腐蚀液,经过过滤器、加热装置和泵后,通过喷嘴作用在被加工工件上,然后腐蚀液夹杂被腐蚀掉的工件材料重新落入到储液装置中。喷嘴的运动控制是通过工业机器人来实现的。由于本发明的核心就是利用腐蚀液,因此应注意腐蚀液对其它部件的影响,包括工业机器人、储液装置、管道等都要进行防腐蚀处理。另外应小心腐蚀液对加工者的影响,因此加工过程中,应使用密闭室来进行隔绝。
在进行光学加工时,根据被加工元件的轮廓,计算出运动轨迹上各点的温度与驻留时间;然后生成机器人控制指令,对反射镜进行循环轮廓检测和磨料腐蚀液的射流研抛,直至面型精度RMS达到λ/10,再过渡到常规的磨料水射流,循环往复直至面型精度达到加工要求;同时,为了实现射流喷射到光学元件的温度恒定,要求腐蚀液流速恒定,且喷嘴到工件表面的距离恒定;加工过程中光学元件固定不动,通过控制喷嘴的运动(要求五轴联动)对光学元件按事先规划的轨迹进行加工,通过控制腐蚀液的温度,及任一点的驻留时间,完成元件表面定量的材料去除;当被加工光学工件腐蚀研抛达到一定精度后,过渡到常规的磨料水射流抛光,实现最终的面型和光滑表面。

Claims (6)

1.一种基于控制腐蚀的光学元件加工机构,包括被加工件固定装置,其特征在于:还包括用于提供加工运动轨迹的执行装置、用于储存腐蚀液的储液装置、用于加热腐蚀液的加热装置、用于控制腐蚀液加热温度和加工运动轨迹的控制装置;所述执行装置上设置有喷嘴,储液装置通过连接管道依次与加热装置和喷嘴连接。
2.根据权利要求1所述的基于控制腐蚀的光学元件加工机构,其特征在于:所述控制装置包括依次连接的温度控制器、工业PC和执行装置控制器;所述温度控制器和加热装置连接,执行装置控制器和执行装置连接。
3.根据权利要求2所述的基于控制腐蚀的光学元件加工机构,其特征在于:所述执行装置是6轴工业机器人或机械手臂。
4.根据权利要求3所述的基于控制腐蚀的光学元件加工机构,其特征在于:所述储液装置和加热装置之间设置有用于过滤杂质的过滤器。
5.根据权利要求1至4任一所述的基于控制腐蚀的光学元件加工机构,其特征在于:所述被加工件固定装置、执行装置和储液装置均设置于密闭空间内。
6.根据权利要求5所述的基于控制腐蚀的光学元件加工机构,其特征在于:所述喷嘴与被加工件之间的距离在加工时保持恒定。
CN201210292852.3A 2012-08-16 2012-08-16 基于热加速腐蚀的射流研抛机构 Expired - Fee Related CN102886745B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201210292852.3A CN102886745B (zh) 2012-08-16 2012-08-16 基于热加速腐蚀的射流研抛机构

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201210292852.3A CN102886745B (zh) 2012-08-16 2012-08-16 基于热加速腐蚀的射流研抛机构

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN102886745A CN102886745A (zh) 2013-01-23
CN102886745B true CN102886745B (zh) 2016-08-17

Family

ID=47530528

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201210292852.3A Expired - Fee Related CN102886745B (zh) 2012-08-16 2012-08-16 基于热加速腐蚀的射流研抛机构

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN102886745B (zh)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107473598B (zh) * 2017-09-15 2020-07-24 成都精密光学工程研究中心 一种熔石英光学元件的酸射流刻蚀方法和酸射流刻蚀装置
CN113754299A (zh) * 2021-08-18 2021-12-07 长沙理工大学 一种感应加热化学刻蚀方法及装置

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3858358A (en) * 1973-01-02 1975-01-07 American Aero Ind High pressure liquid and abrasive cleaning apparatus
CN1274949A (zh) * 1999-05-19 2000-11-29 因芬尼昂技术北美公司 在半导体晶片化学机械抛光时输送抛光液的系统
CN1345465A (zh) * 1999-03-25 2002-04-17 Memc电子材料有限公司 加工半导体晶片用的压力喷射机及方法
CN1261982C (zh) * 2000-12-15 2006-06-28 K·C·科技株式会社 清洗晶片边缘的装置
CN201881275U (zh) * 2010-06-13 2011-06-29 河海大学常州校区 采用水力冲蚀的抛光装置
CN102212824A (zh) * 2010-04-09 2011-10-12 中国科学院微电子研究所 一种单侧硅片湿法腐蚀设备
CN202878127U (zh) * 2012-08-16 2013-04-17 中国科学院西安光学精密机械研究所 基于热加速腐蚀的射流研抛机构

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19943005A1 (de) * 1999-09-09 2001-05-23 Heinrich Gruber Verfahren zum Reinigen der Oberfläche eines Kunststoffgegenstands
NL1022293C2 (nl) * 2002-12-31 2004-07-15 Tno Inrichting en werkwijze voor het vervaardigen of bewerken van optische elementen en/of optische vormelementen, alsmede dergelijke elementen.

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3858358A (en) * 1973-01-02 1975-01-07 American Aero Ind High pressure liquid and abrasive cleaning apparatus
CN1345465A (zh) * 1999-03-25 2002-04-17 Memc电子材料有限公司 加工半导体晶片用的压力喷射机及方法
CN1274949A (zh) * 1999-05-19 2000-11-29 因芬尼昂技术北美公司 在半导体晶片化学机械抛光时输送抛光液的系统
CN1261982C (zh) * 2000-12-15 2006-06-28 K·C·科技株式会社 清洗晶片边缘的装置
CN102212824A (zh) * 2010-04-09 2011-10-12 中国科学院微电子研究所 一种单侧硅片湿法腐蚀设备
CN201881275U (zh) * 2010-06-13 2011-06-29 河海大学常州校区 采用水力冲蚀的抛光装置
CN202878127U (zh) * 2012-08-16 2013-04-17 中国科学院西安光学精密机械研究所 基于热加速腐蚀的射流研抛机构

Also Published As

Publication number Publication date
CN102886745A (zh) 2013-01-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN1328007C (zh) 超声波磁流变复合抛光方法及装置
Zhao et al. Investigation of the optimal parameters for the surface finish of K9 optical glass using a soft abrasive rotary flow polishing process
Walker et al. Novel CNC polishing process for control of form and texture on aspheric surfaces
Kordonski et al. Magnetorheological-suspension-based finishing technology
CN107745324B (zh) 一种光学玻璃表面成型方法
CN101738981A (zh) 基于机器学习的机器人磨削方法
CN104191320A (zh) 一种超声控制的剪切增稠抛光方法及其装置
CN102441820B (zh) 一种非接触式超声波面形修抛方法及装置
CN103522129B (zh) 医用钛合金微小件超声波磁流变复合抛光机
CN107473598B (zh) 一种熔石英光学元件的酸射流刻蚀方法和酸射流刻蚀装置
CN102886745B (zh) 基于热加速腐蚀的射流研抛机构
Wu et al. Review on ultra-precision bonnet polishing technology
Lin et al. Development and theoretical analysis of novel center-inlet computer-controlled polishing process for high-efficiency polishing of optical surfaces
CN103419118A (zh) 一种研磨抛光方法
Xie et al. Review on surface polishing methods of optical parts
CN202878127U (zh) 基于热加速腐蚀的射流研抛机构
CN103862373B (zh) 基于动态干涉仪的实时研磨抛光方法
CN202825477U (zh) 基于控制腐蚀的气囊式研抛装置
Schinhaerl et al. Forces acting between polishing tool and workpiece surface in magnetorheological finishing
CN103086590B (zh) 雾面玻璃制造方法
Huang et al. Movement modeling and control for robotic bonnet polishing
CN102785145B (zh) 基于控制腐蚀的气囊式研抛装置
CN204123210U (zh) 超声控制的剪切增稠抛光装置
CN102828185A (zh) 基于热加速腐蚀的光学元件加工方法
CN108161578A (zh) 一种细长光学器件端面的加工方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20160817

Termination date: 20190816