CN102855817A - 显示装置、抗反射基板及其制造方法 - Google Patents
显示装置、抗反射基板及其制造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN102855817A CN102855817A CN2011101788865A CN201110178886A CN102855817A CN 102855817 A CN102855817 A CN 102855817A CN 2011101788865 A CN2011101788865 A CN 2011101788865A CN 201110178886 A CN201110178886 A CN 201110178886A CN 102855817 A CN102855817 A CN 102855817A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- display device
- described groove
- groove
- substrate
- moth ocular
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
本发明提供一种显示装置、抗反射基板及其制造方法,该显示装置包括一显示面板及一抗反射基板。抗反射基板设置于显示面板上。抗反射基板包括一基底及多个蛾眼结构。抗反射基板具有多个凹槽。所述蛾眼结构设置于所述凹槽内。所述蛾眼结构的高度小于所述凹槽的深度。本发明能够使蛾眼结构得以受到凹槽的保护,有效发挥抗反射效果,以改善不舒服的反光现象。
Description
技术领域
本发明是有关于一种显示装置、抗反射基板及其制造方法,且特别是有关于一种采用蛾眼结构的显示装置、抗反射基板及其制造方法。
背景技术
随着显示科技的进步,发展出一种平面显示器。平面显示器具有轻、薄、尺寸多样性等优点,使得平面显示器已经全面性取代传统阴极射线映像管显示器。
平面显示器例如是液晶显示器、有机发光二极管显示器或电子纸显示器等。这些平面显示器各有其优点,分别广泛应用于各式电子装置中。然而,由于平面显示器的外观为平面,所以人眼观看平面显示器时,经常会因为光线的反射,而产生不舒服的反光现象。因此,业界无不致力于研发抗反射基板,来改善不舒服的反光现象。
发明内容
本发明是有关于一种显示装置、抗反射基板及其制造方法,其利用凹槽及蛾眼结构的设计,使得蛾眼结构得以受到凹槽的保护,而有效发挥抗反射效果,以改善不舒服的反光现象。
根据本发明的一方面,提出一种显示装置。显示装置包括一显示面板及一抗反射基板。抗反射基板设置于显示面板上。抗反射基板包括一基底及多个蛾眼结构。抗反射基板具有多个凹槽。所述蛾眼结构设置于所述凹槽内。所述蛾眼结构的高度小于所述凹槽的深度。
根据本发明的另一方面,提出一种抗反射基板。抗反射基板包括一基底及多个蛾眼结构。基底具有多个凹槽。所述蛾眼结构设置于所述凹槽内。所述蛾眼结构的高度小于所述凹槽的深度。
根据本发明的再一方面,提出一种抗反射基板的制造方法。抗反射基板的制造方法包括以下步骤。提供一基底。形成多个凹槽于基底上。形成多个蛾眼结构于所述凹槽内。所述蛾眼结构的高度小于所述凹槽的深度。
本发明能够使蛾眼结构得以受到凹槽的保护,有效发挥抗反射效果,以改善不舒服的反光现象。
为让本发明的上述内容能更明显易懂,下文特举较佳实施例,并配合所附图式,作详细说明如下:
附图说明
图1绘示第一实施例的显示装置的示意图。
图2绘示图1的抗反射基板的放大示意图。
图3绘示蛾眼结构的光线折射示意图。
图4绘示凹槽的示意图。
图5~图8绘示第一实施例的抗反射基板的制造方法的示意图。
图9绘示第二实施例的凹槽的示意图。
图10绘示第三实施例的凹槽的示意图。
图11绘示第四实施例的凹槽的示意图。
附图标号:
100:显示装置
110:显示面板
120:抗反射基板
121:基底
122:蛾眼结构
122h:蛾眼结构的高度
122w:蛾眼结构的宽度
123、223、323、423:凹槽
123a、123b:凹槽的间距
123s、223s:凹槽的侧壁
123x:凹槽的宽度
123y:凹槽的长度
123z:凹槽的深度
223p:预定距离
323i:凹槽的边长
423R:凹槽的直径
A:箭号
D1、D2:延伸方向
L:光线
Λ:蛾眼结构的周期
ni、ns:折射率
具体实施方式
以下提出实施例进行详细说明,其利用凹槽及蛾眼结构的设计,使得蛾眼结构得以受到凹槽的保护,而有效发挥抗反射效果,以改善不舒服的反光现象。然而,实施例仅用以作为范例说明,并不会限缩本发明欲保护的范围。此外,实施例中的图式省略部份的元件,以清楚显示本发明的技术特点。
第一实施例
请参照图1,其绘示第一实施例的显示装置100的示意图。显示装置100包括一显示面板110及一抗反射基板120。显示面板110例如是液晶显示面板、有机发光二极管显示面板或电子纸显示面板。显示面板110用以显示画面,以供观赏。本实施例的抗反射基板120,可以是抗反射透明基板,例如是显示装置100的透明保护玻璃或触控面板,其设置于显示面板110上。在其他实施例中,抗反射基板120亦可以是软性高分子聚合材料基板。抗反射基板120可以降低光线L的反射率,以避免人眼观看画面时,看到反光的现象而觉得不舒服。
请参照图2,其绘示图1的抗反射基板120的放大示意图。抗反射基板120包括一基底121及多个蛾眼结构122。基底121具有多个凹槽123。所述凹槽123规则地排列并布满于基底121上。所述蛾眼结构122则设置于所述凹槽123内。
请参照图3,其绘示入射蛾眼结构122的光线折射示意图。基底121的折射率ns例如是1.5,蛾眼结构122的折射率(未标示)接近于基底121的折射率ns,而空气的折射率ni例如是1.0003。由于蛾眼结构122的剖面形成锥状或半球体型态,越靠近基底121之处,光线L接触到蛾眼结构122的比例越高。反之,越远离基底121之处,光线L接触到蛾眼结构122的比例越低。因此,光线L的总折射率将由ni逐渐改变为ns,而呈现梯度式变化。藉此,反光现象得以大幅降低。较佳地,蛾眼结构122的周期Λ(周期Λ为结构反复再现的最小距离,例如是图3所示的两个顶点之间的距离)、光线L的波长λ与基底121的折射率ns的关系满足下式(1)时,蛾眼结构122对于此光线L具有抗反射效果。
Λ<λ/ns................................................(1)
以可见光为例,蛾眼结构122的周期Λ小于250纳米(nm),且而蛾眼结构122的高度122h与宽度122w的比例大于1.5时,可以对可见光产生抗反射效果。
请再参照图2,在本实施例中,蛾眼结构122的高度122h小于所述凹槽123的深度123z。如此一来,当抗反射基板120受到磨擦时,可以避免蛾眼结构122直接受到破坏,以维持如图3所示的梯度式折射率的效果。
请参照图4,其绘示图2的凹槽123的示意图。就凹槽123的设计而言,凹槽123可以是矩形结构或平行四边形结构。在本实施例中,凹槽123为矩形结构,且各个凹槽123的边缘对应于显示面板110的各个像素(未绘示)的边缘。如此一来,凹槽123的侧壁123s可以恰好设置于每一像素的非显示区域,例如像素中的资料线或栅极线区域,以避免影响画面的品质。另外,凹槽123的设计可考虑人眼对这些凹槽123的可视性、凹槽123的侧壁123s的强度、有效防止蛾眼结构122受到破坏或者是可让大部分的光线L射入蛾眼结构122等因素。
如图4所示,相邻凹槽123的间距123a、123b可为10~30微米(um)。各个凹槽123的深度123z可为1~5微米(um)。各个凹槽123的长度123y可为各个凹槽123的宽度123x的1~3倍。举例来说,凹槽123的宽度123x可以是20~100微米(um),凹槽123的长度123y可以是20~300微米(um)。当然,熟知本发明技术领域的技术人员可在本发明图4的教示下,依需求或所使用材料调整凹槽的设计。
本实施例提出的凹槽123及蛾眼结构122是为创新的设计,其制造方法亦为技术上的突破。以下以数张示意图来说明本实施例的抗反射基板120的制造方法。
请参照图5~图8,其绘示第一实施例的抗反射基板120的制造方法的示意图。首先,如图5所示,提供基底121。
接着,如图6~图7所示,形成多个凹槽123于基底121上。在此步骤中,所述凹槽123可以利用刻蚀、激光雕刻、精密喷砂或超精密机械加工(CNC)等方式来形成。
然后,如图8所示,形成多个蛾眼结构122于所述凹槽123内。在此步骤中,所述蛾眼结构122可以利用微影工艺、电子束雕刻或纳米转印的方式来形成所述蛾眼结构122。其中,蛾眼结构122的材料可包括金、银、钛、锡、碳、二氧化钛(TiO2)、五氧化二铌(Nb2O5)、五氧化二钽(Ta2O5)、氧化锆(ZrO2)、氮硅化合物(SiNx)、氟化镁(MgF2)、氧化硅(SiO2)、导电高分子或其组成。透过上述制造方法即可完成本实施例的抗反射基板120。
第二实施例
请参照图9,其绘示第二实施例的凹槽223的示意图。本实施例的凹槽223与第一实施例的凹槽123不同之处在于凹槽223的排列方式,其余相同之处不再重复叙述。
如图9所示,本实施例相邻两列的凹槽223相对平移一预定距离223p,例如是半个凹槽223的宽度223x。透过平移的方式,使得凹槽223的侧壁223s形成折弯之态(例如是图9所绘示侧壁223s沿着箭号A延伸,箭号A先沿着方向D1延伸,再沿着方向D2延伸,然后再沿着方向D1延伸,而形成折弯型态),如此一来,可加强侧壁223s的强度。
第三实施例
请参照图10,其绘示第三实施例的凹槽323的示意图。本实施例的凹槽323与第一实施例的凹槽123不同之处在于凹槽323的形状,其余相同之处不再重复叙述。
如图10所示,本实施例的凹槽323为三角形结构。所述三角形凹槽323的边长323i可为20~190微米(um)。
第四实施例
请参照图11,其绘示第四实施例的凹槽423的示意图。本实施例的凹槽423与第一实施例的凹槽123不同之处在于凹槽423的形状,其余相同之处不再重复叙述。
如图11所示,本实施例的凹槽423为圆形结构。各个凹槽423的直径423R可为20~200微米(um)。
根据上述实施例,透过上述实施例提出的凹槽123、223、323、423与蛾眼结构122的设计,使得蛾眼结构122得以受到凹槽123、223、323、423的保护,而有效发挥抗反射效果,以改善不舒服的反光现象。
综上所述,虽然本发明已以较佳实施例揭露如上,然其并非用以限定本发明。本发明所属技术领域中的技术人员,在不脱离本发明的精神和范围内,当可作各种的更动与润饰。因此,本发明的保护范围当以权利要求所界定的为准。
Claims (20)
1.一种显示装置,其特征在于,所述的显示装置包括:
一显示面板;以及
一抗反射基板,设置于所述显示面板上,所述抗反射基板包括:
一基底,具有多个凹槽;及
多个蛾眼结构,设置于所述凹槽内,所述蛾眼结构的高度小于所述凹槽的深度。
2.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述凹槽为矩形结构或平行四边形结构。
3.如权利要求2所述的显示装置,其特征在于,相邻的所述凹槽的间距为10~30微米。
4.如权利要求2所述的显示装置,其特征在于,各所述凹槽的深度为1~5微米。
5.如权利要求2所述的显示装置,其特征在于,各所述凹槽的长度为各所述凹槽的宽度的1~3倍。
6.如权利要求5所述的显示装置,其特征在于,各所述凹槽的宽度为20~100微米。
7.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述凹槽为三角形结构。
8.如权利要求7所述的显示装置,其特征在于,各所述凹槽的边长为20~190微米。
9.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述抗反射基板为一抗反射透明基板。
10.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述凹槽为圆形结构。
11.如权利要求10所述的显示装置,其特征在于,各所述凹槽的直径为20~200微米。
12.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述显示面板包括多个像素,各所述凹槽的边缘对应于各所述像素的边缘。
13.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于,相邻两列的所述凹槽相对平移一预定距离,以使所述凹槽的所述侧壁形成折弯状态。
14.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于,入射所述蛾眼结构的一光线的总折射率将呈现一梯度式变化。
15.如权利要求14所述的显示装置,其特征在于,所述梯度式变化由一低折射率变化至一高折射率。
16.如权利要求1所述的显示装置,其特征在于,所述蛾眼结构的剖面为锥状或半球体型态。
17.一种抗反射基板,其特征在于,所述抗反射基板包括:
一基底,具有多个凹槽;以及
多个蛾眼结构,设置于所述凹槽内,所述蛾眼结构的高度小于所述凹槽的深度。
18.一种抗反射基板的制造方法,其特征在于,所述抗反射基板的制造方法包括:
提供一基底;
形成多个凹槽于所述基底上;以及
形成多个蛾眼结构于所述凹槽内,所述蛾眼结构的高度小于所述凹槽的深度。
19.如权利要求18所述的抗反射基板的制造方法,其特征在于,形成所述凹槽的步骤是利用刻蚀、激光雕刻、精密喷砂或超精密机械加工的方式来形成所述凹槽。
20.如权利要求18所述的抗反射基板的制造方法,其特征在于,形成所述蛾眼结构的步骤是利用微影工艺、电子束雕刻或纳米转印的方式来形成所述蛾眼结构。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201110178886.5A CN102855817B (zh) | 2011-06-29 | 2011-06-29 | 显示装置、抗反射基板及其制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201110178886.5A CN102855817B (zh) | 2011-06-29 | 2011-06-29 | 显示装置、抗反射基板及其制造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN102855817A true CN102855817A (zh) | 2013-01-02 |
CN102855817B CN102855817B (zh) | 2015-03-18 |
Family
ID=47402360
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201110178886.5A Active CN102855817B (zh) | 2011-06-29 | 2011-06-29 | 显示装置、抗反射基板及其制造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN102855817B (zh) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103353626A (zh) * | 2013-06-13 | 2013-10-16 | 北京大学深圳研究生院 | 三维光栅抗反射结构和元器件 |
CN106448460A (zh) * | 2016-11-24 | 2017-02-22 | 武汉华星光电技术有限公司 | 一种显示面板及装置 |
CN110178057A (zh) * | 2017-01-24 | 2019-08-27 | 王子控股株式会社 | 防反射结构体 |
CN111095035A (zh) * | 2017-09-01 | 2020-05-01 | 王子控股株式会社 | 抗反射结构体 |
CN113341563A (zh) * | 2020-02-18 | 2021-09-03 | 宏星技术股份有限公司 | 头戴式显示器 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004205849A (ja) * | 2002-12-25 | 2004-07-22 | Seiko Epson Corp | 表示体および表示装置 |
JP2007212819A (ja) * | 2006-02-10 | 2007-08-23 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置、電気光学装置用基板、及び電気光学装置の製造方法、並びに電子機器 |
US20090080075A1 (en) * | 2007-09-24 | 2009-03-26 | Hon Hai Precision Industry Co., Ltd. | Optical filter with moth-eye grating structure |
CN101479777A (zh) * | 2006-05-31 | 2009-07-08 | 株式会社半导体能源研究所 | 显示设备和电子装置 |
WO2010143503A1 (ja) * | 2009-06-12 | 2010-12-16 | シャープ株式会社 | 反射防止膜、表示装置及び透光部材 |
CN102016650A (zh) * | 2008-05-27 | 2011-04-13 | 夏普株式会社 | 防反射膜和显示装置 |
-
2011
- 2011-06-29 CN CN201110178886.5A patent/CN102855817B/zh active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004205849A (ja) * | 2002-12-25 | 2004-07-22 | Seiko Epson Corp | 表示体および表示装置 |
JP2007212819A (ja) * | 2006-02-10 | 2007-08-23 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置、電気光学装置用基板、及び電気光学装置の製造方法、並びに電子機器 |
CN101479777A (zh) * | 2006-05-31 | 2009-07-08 | 株式会社半导体能源研究所 | 显示设备和电子装置 |
US20090080075A1 (en) * | 2007-09-24 | 2009-03-26 | Hon Hai Precision Industry Co., Ltd. | Optical filter with moth-eye grating structure |
CN102016650A (zh) * | 2008-05-27 | 2011-04-13 | 夏普株式会社 | 防反射膜和显示装置 |
WO2010143503A1 (ja) * | 2009-06-12 | 2010-12-16 | シャープ株式会社 | 反射防止膜、表示装置及び透光部材 |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103353626A (zh) * | 2013-06-13 | 2013-10-16 | 北京大学深圳研究生院 | 三维光栅抗反射结构和元器件 |
WO2014198198A1 (zh) * | 2013-06-13 | 2014-12-18 | 北京大学深圳研究生院 | 三维光栅抗反射结构和元器件 |
CN103353626B (zh) * | 2013-06-13 | 2016-04-20 | 北京大学深圳研究生院 | 三维光栅抗反射结构和元器件 |
CN106448460A (zh) * | 2016-11-24 | 2017-02-22 | 武汉华星光电技术有限公司 | 一种显示面板及装置 |
CN110178057A (zh) * | 2017-01-24 | 2019-08-27 | 王子控股株式会社 | 防反射结构体 |
US11016222B2 (en) | 2017-01-24 | 2021-05-25 | Oji Holdings Corporation | Antireflective structure |
CN111095035A (zh) * | 2017-09-01 | 2020-05-01 | 王子控股株式会社 | 抗反射结构体 |
US11243334B2 (en) | 2017-09-01 | 2022-02-08 | Oji Holdings Corporation | Antireflective structure |
CN113341563A (zh) * | 2020-02-18 | 2021-09-03 | 宏星技术股份有限公司 | 头戴式显示器 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN102855817B (zh) | 2015-03-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN102855817B (zh) | 显示装置、抗反射基板及其制造方法 | |
WO2018161650A1 (zh) | 显示面板和显示装置 | |
US11048085B2 (en) | Near-eye display, system and method | |
TWI624711B (zh) | 邊框隱藏式顯示器殼蓋及顯示器裝置 | |
US10193103B2 (en) | Organic light emitting device having protrusion formed of transparent material and display apparatus | |
JP6105577B2 (ja) | 反射防止構造体及び表示装置 | |
EP3026708A1 (en) | Organic light-emitting diode array substrate and manufacturing method thereof, and display device | |
JP2010152809A (ja) | 透明なパネル体及びタッチパネル | |
WO2015188595A1 (zh) | 显示面板及其制作方法、显示装置 | |
US8958152B2 (en) | Optical plate and tiled display apparatus having the same | |
CN102804110A (zh) | 透明导电元件、输入装置以及显示装置 | |
US20170293151A1 (en) | 3d display device | |
US20230048591A1 (en) | Display panel, method for manufacturing the same, and display apparatus | |
TW200412458A (en) | Structure for improving diffraction effect in periodic electrode arrangements and liquid crystal device including same | |
US20210151531A1 (en) | Display apparatus and method of manufacturing the same | |
TWI490831B (zh) | 顯示裝置、抗反射基板及其製造方法 | |
CN211349955U (zh) | 显示面板及电子设备 | |
US10162384B2 (en) | Display device | |
US11579491B2 (en) | Reflective display | |
EP4246193A1 (en) | Display synergistic film and display device | |
US20200132891A1 (en) | Micro structure, display apparatus and display panel thereof | |
CN104166173B (zh) | 抗反射基板及包含其的显示设备 | |
CN205573193U (zh) | 一种高防眩、高透光玻璃面板 | |
US9647044B2 (en) | Organic light-emitting diode array substrate and manufacturing method thereof, and display device | |
US10877203B2 (en) | Light guide plate and method for fabricating the same, backlight module and display panel |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C53 | Correction of patent of invention or patent application | ||
CB02 | Change of applicant information |
Address after: 518109 Longhua, Shenzhen, town, Foxconn science and Technology Industrial Park E District, building 4, building 1, building Applicant after: Qunkang Technology (Shenzhen) Co., Ltd. Applicant after: Innolux Display Group Address before: 518109 Longhua, Shenzhen, town, Foxconn science and Technology Industrial Park E District, building 4, building 1, building Applicant before: Qunkang Technology (Shenzhen) Co., Ltd. Applicant before: Chimei Optoelectronics Co., Ltd. |
|
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant |