CN102818537A - 一种曝光母版弯曲度的测量装置及其测量方法 - Google Patents

一种曝光母版弯曲度的测量装置及其测量方法 Download PDF

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Abstract

本发明涉及一种曝光母版弯曲度的测量方法,包括步骤:1)确定曝光母版上的检测点;2)选取参考点A,并由发光装置向A发射入射光线,由接收装置接收反射光线,记录反射光线的接收位置为参考位置;3)在平行于曝光母版的平面M内移动发光装置和接收装置,将反射光线的接收位置与参考位置距离最大的检测点作为最终检测点B;4)在平面M内移动发光装置和接收装置到B上,沿垂直于平面M的坐标轴移动发光装置和接收装置,使B的反射光的接收位置与参考位置重合,记录发光装置和接收装置在垂直于平面M的坐标轴上的移动距离L。该方法能够对曝光母版的弯曲度进行准确的监控。本发明还公开了一种采用上述测量方法的曝光母版弯曲度的测量装置。

Description

一种曝光母版弯曲度的测量装置及其测量方法
技术领域
本发明涉及彩色显示屏制造技术领域,特别涉及一种在等离子显示屏制作时所用到的曝光母版的弯曲度的检测装置及其检测方法。
背景技术
等离子显示屏的下基板分为显示区和非显示区,显示区由障壁和其间隔内的荧光粉组成,障壁结构是通过障壁浆料上贴附的障壁干膜制作出来的,在干燥的障壁浆料上贴附障壁干膜,再利用等离子显示屏障壁的曝光母版对干膜进行曝光,曝光后的干膜在显影后形成障壁掩膜,然后对覆盖有障壁掩膜的障壁浆料进行喷砂处理,有干膜的障壁浆料被保留下来,其余的障壁浆料被喷掉,然后经过烧结形成障壁。
由于障壁是由未显影的干膜覆盖的障壁浆料形成的,因此障壁的形状与曝光母版的形状具有密切的关系。随着等离子面板制作的大型化、产量化,在障壁图形的制作中对图形线宽的均匀性要求越来越高,而曝光母版的弯曲程度是障壁图形制作过程中影响图形均匀性的关键因素之一,所谓弯曲程度简称弯曲度,是指曝光母版上的点与参考点在垂直于曝光母版平面方向上的距离,而曝光母版在制作和使用过程中,因放置不当、温度等多方面影响,母版的弯曲度会有一定的变化。
因此如何能够对曝光母版的弯曲度进行准确的监控,以加强对等离子面板生产过程中的品质监控,是目前本领域技术人员亟需解决的技术问题。
发明内容
本发明的目的之一是提供一种曝光母版弯曲度的测量方法,以实现对曝光母版的弯曲度进行准确的监控,本发明的另一目的还在于提供一种运用上述测量方法对曝光母版的弯曲度进行测量的曝光母版弯曲度的测量装置。
为解决上述技术问题,本发明提供一种曝光母版弯曲度的测量方法,该测量方法包括步骤:
1)确定待检测曝光母版上的检测点;
2)在待测的曝光母版的边缘选取参考点A,并由发光装置向已经固定的待检测的曝光母版的参考点A发射一束激光线作为入射光线,通过接收装置接收参考点A处的反射光线,且所述入射光线与所述反射光线的夹角0°<α<180°,记录反射光线在接收装置上的接收位置为参考位置;
3)保持所述发光装置和接收装置的相对位置并在平行于所述待检测曝光母版的平面M内同时移动所述发光装置和接收装置,使所述发光装置分别向各个检测点发射入射光线,并将反射光线在所述接收装置上的接收位置与参考位置距离最大的检测点确定为最终检测点B;
4)在平面M内同时移动所述发光装置和接收装置并使入射光线照射到最终检测点B上,然后沿垂直于平面M的坐标轴同时移动所述发光装置和接收装置,当所述最终检测点B的发射光线在所述接收装置上的接收位置与所述参考位置重合时,记录所述发光装置和接收装置在垂直于平面M的坐标轴上的移动距离L。
优选的,所述步骤1)中确定待检测曝光母版上的检测点的具体步骤为:
垂直于所述待检测的曝光母版的长边和宽边分别均匀绘制多条直线,取这些直线的交点为检测点。
一种曝光母版弯曲度的测量装置,用于等离子显示器制作过程中对曝光母版弯曲度的检测,该测量装置包括:
曝光母版固定装置;
激光计测装置,所述激光计测装置上设置有用于向待检测的曝光母版提供入射光线的激光发射器和用于接收由所述待检测的曝光母版反射回来的反射光线的激光接收器,所述激光接收器可感知反射光线的位置变化,所述入射光线与所述反射光线的夹角0°<α<180°;
移动装置,所述激光计测装置设置于所述移动装置上,且所述移动装置可使所述激光计测装置沿空间直角坐标系的X轴、Y轴和Z轴移动,且所述空间直角坐标系的X轴、Y轴或者Z轴与曝光母版垂直。
优选的,还包括与所述激光接收器相连的显示器,所述显示器可将所述激光接收器不同位置所收到的反射光线以波峰的形式显示在显示器的不同位置。
优选的,所述曝光母版固定装置为气体吸附式固定装置。
本发明所提供的曝光母版弯曲度的测量方法中,采用激光光线对已经固定的曝光母版的板面进行弯曲度的测量,虽然弯曲的曝光母版的表面为曲面,但是相对于曝光母版的板面面积来讲,入射激光线的照射面积即可认为是曝光母版上的一个点,因此可以认为入射光线照射到每个检测点时都是照射到了一个细分的平整面上的一个点,即发光装置在平面M内移动时入射光线的法线不会改变,如果检测点相对于参考点具有弯曲度,即可认为该检测点所在的小平面相对于参考点所在的小平面向靠近或者远离发光装置方向进行了平移。
由于入射光线与反射光线的夹角α的范围为0-180°,因此如果检测点相对于参考点具有弯曲度,那么接收装置所接收到的反射光线的接收位置相对于参考位置将会产生变化,当找到最终检测点后,向垂直于平面M的方向同时移动发光装置和接收装置并保持两者的相对位置不变,当发光装置与最终检测点B之间的距离与发光装置与参考点A最初的距离相等时,最终检测点B的反射光线在接收装置上的接收位置与参考位置重合,发光装置和接收装置在垂直于平面M的坐标轴上的移动距离L即为该曝光母版的弯曲度。
由此可见本发明所提供的曝光母版弯曲度的测量方法能够对曝光母版的弯曲度进行准确的监控,从而加强了对等离子面板生产过程中的品质监控。
本发明所提供的曝光母版弯曲度的测量装置,由于激光计测装置上设置了激光发射器和激光接收器,并且激光接收器可感知反射光线的位置变化,同时入射光线与反射光线的夹角0°<α<180°,从而实现了发光装置与接收装置之间的相对位置的固定,同时可以实现对曝光母版的板面进行激光发射接收,并对反射光线的位置进行记录,曝光母版固定装置可将待检测的曝光母版固定在特定位置,将激光计测装置设置于能够沿空间直角坐标系的坐标轴进行移动的移动装置上实现了发光装置和接收装置同时在平行于待检测的曝光母版的平面M内和垂直于平面M的方向上移动。
由此可见,本发明所提供的曝光母版弯曲度的测量装置可对曝光母版的弯曲度进行准确的监控,以确保等离子面板的生产质量。
附图说明
图1为本发明实施例所提供的曝光母版弯曲度的测量装置的结构示意图;
图2为本发明实施例所提供的曝光母版放置于曝光母版固定装置上的正视图;
图3为本发明实施例所提供的曝光母版弯曲度的测量装置的显示器的显示示意图;
图4为本发明实施例所提供的曝光母版弯曲度的测量方法的测量原理图。
具体实施方式
本发明的核心目的之一是提供一种曝光母版弯曲度的测量方法,该方法通过对固定好的曝光母版的表面进行激光照射并对由曝光母版反射回来的反射光线进行接收,根据反射光线在接收装置上的接收位置的变化来测量曝光母版的弯曲度。本发明的另一目的还在于提供一种运用上述测量方法测量曝光母版的弯曲度的测量装置。
为了使本技术领域的人员更好地理解本发明方案,下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步的详细说明。
请参考图4,图4为本发明实施例所提供的曝光母版弯曲度的测量方法的测量原理图。
本发明所提供的曝光母版弯曲度的测量方法,包括以下步骤:
S1:确定待检测曝光母版3上的检测点,在待检测曝光母版3上选取若干个需要进行检测的检测点;
S2:在待检测的曝光母版3的边缘部位选取参考点A,并由发光装置向已经固定好的待检测曝光母版3的参考点A处发射一束激光线作为入射光线,入射光线照射到待检测的曝光母版3上将会产生反射光线,由于待检测的曝光母版3具有一定的厚度,因此其上表面和下表面将会分别对入射光线进行反射,从而出现两束反射光线,这两数反射光线与入射光线的夹角α均为0-180°,以避免入射光线和反射光线照射在接收装置的同一位置,记录这两束反射光线在接收装置上的接收位置,并将这两束光线的接收位置作为参考位置,由于对于板状结构来说,如果发生弯曲一般是中部位置发生整体弯曲,边缘部位一般不会弯曲,因此在选取参考点时,尽量使参考点选择在待检测的曝光母版3的边缘部位;
S3:保持发光装置和接收装置的相对位置并且在平行于待检测曝光母版3的平面M内同时移动发光装置和接收装置,使发光装置分别向已经确定的各个参考点上发射入射光线,并记录反射光线在接收装置上的接收位置与参考位置距离最大的检测点,将该检测点确定为最终检测点B,由于该检测点的反射光线接的收位置与参考位置距离最大,则可确定该点为相对于参考点位置最高或者最低的一点;
S4:在平面M内同时移动发光装置和接收装置并使入射光线照射到最终检测点B上,然后沿垂直于平面M的坐标轴同时向靠近或者远离待检测的曝光母版3的方向移动发光装置和接收装置,当最终检测点B的反射光线在接收装置上的接收位置与参考位置重合时,记录发光装置和接收装置在垂直于平面M的坐标轴上的移动距离L,此移动距离L即为曝光母版的弯曲度。
下面结合图4对本发明所提供的测量方法的测量原理进行阐述:
以下阐述中以待检测的曝光母版3的上表面的反射光线为例对测量原理进行说明,本发明所提供的曝光母版弯曲度的测量方法中,采用激光光线对已经固定的待检测的曝光母版3的板面进行弯曲度的测量,虽然弯曲的曝光母版的表面为曲面,但是相对于待检测的曝光母版3的板面面积来讲,发光装置发出的入射激光线的照射面积即可认为是待检测的曝光母版3上的一个点,因此可以认为入射光线照射到每个检测点时都是照射到了一个细分的平整面上的一个点,即发光装置在平面M内移动时入射光线的法线不会改变,如果检测点相对于参考点A具有弯曲度,即可认为该检测点所在的小平面相对于参考点所在的小平面向靠近或者远离发光装置方向进行了平移。如图4中所示,外侧的箭头方向代表发光装置和接收装置的移动方向。
由于入射光线与反射光线的夹角α的范围为0-180°,因此如果检测点相对于参考点A具有弯曲度,那么接收装置6所接收到的反射光线的接收位置相对于参考位置将会产生变化,当找到最终检测点B后,向垂直于平面M的方向同时移动发光装置和接收装置并保持两者的相对位置不变,当发光装置与最终检测点B之间的距离与发光装置与参考点A最初的距离相等时,最终检测点B的反射光线在接收装置上的接收位置与参考位置重合,发光装置和接收装置在垂直于平面M的坐标轴上的移动距离L即为该曝光母版的弯曲度。
由此可见本发明所提供的曝光母版弯曲度的测量方法能够对曝光母版的弯曲度进行准确的监控,从而加强了对等离子面板生产过程中的品质监控。
本发明同时还公开了一种采用上述测量方法对曝光母版的弯曲度进行测量的曝光母版弯曲度的测量装置,请参考图1至图2,图1为本发明实施例所提供的曝光母版弯曲度的测量装置的结构示意图,图2为本发明实施例所提供的曝光母版放置于曝光母版固定装置上的正视图。
曝光母版弯曲度的测量装置包括:
曝光母版固定装置2;
激光计测装置4,激光计测装置4上设置有用于向待检测的曝光母版3提供入射光线的激光发射器5和用于接收由待检测的曝光母版3反射回来的反射光线的激光接收器6,激光接收器6可感知反射光线的位置变化,且入射光线与反射光线的夹角0°<α<180°;
移动装置,激光计测装置4设置于移动装置上,且移动装置可使激光计测装置4沿空间直角坐标系的X轴、Y轴和Z轴移动,且该空间直角坐标系的X轴、Y轴或者Z轴与待检测的曝光母版3垂直。
本发明所提供的曝光母版弯曲度的测量装置,由于激光计测装置4上设置了激光发射器5和激光接收器6,并且激光接收器6可感知反射光线的位置变化,同时入射光线与反射光线的夹角0°<α<180°,从而实现了发光装置与接收装置之间的相对位置的固定,同时可以实现对待检测的曝光母版3的板面进行激光发射和接收,并对反射光线的位置进行记录,曝光母版固定装置2可将待检测的曝光母版3固定在特定位置,将激光计测装置4设置于能够沿空间直角坐标系的坐标轴进行移动的移动装置上实现了发光装置和接收装置在平行于待检测的曝光母版3的平面M内和垂直于平面M的方向上移动。
由此可知本发明所公开的曝光母版弯曲度的测量装置可通过激光发射器5向待检测曝光母版3发射入射光线,并由激光接收器6对待检测曝光母版3的反射光线进行接收,激光接收器6记录接收到的反射光线的接收位置,从而可以记录参考点A的反射光线的参考位置,同时移动装置可带动激光发射器5在平行于待检测曝光母版3的平面M内移动,同时可以实现向垂直于平面M的方向的移动,从而可以在确定最终检测点B之后测量得出曝光母版的弯曲度L。
为了进一步优化方案,使测量的精度更高,本实施例中还设置了与激光接收器6相连的显示器,该显示器可将激光接收器6不同位置所收到的反射光线以波峰的形式显示在显示器的不同位置,请参考图3,其中1为以波峰的形式显示的反射光的接收位置,即显示器将激光接收器6的接收面以坐标平面的形式显示,两个波峰的位置分别代表待检测的曝光母版3的上、下表面的两束反射光线在激光接收器6上的接收位置,当反射光线的接收位置在激光接收器6的接收面上发生变化时,这两个波峰就会沿坐标轴左右移动。
由此,将参考点A的反射光线的接收位置以波峰的形式显示在显示器上,最终检测点B的反射光线在激光接收器上的接收位置若有变化,将不会与参考点A的波峰位置重合,此时通过移动装置带动激光计测装置在垂直于平面M的方向移动,即可直观的观察到最终检测点B的波峰位置与参考点A的波峰位置重合,此时即可使移动装置停止移动,并进行测量。
上述实施例中的曝光母版固定装置2可以采用机械固定的方式将曝光母版进行固定,本实施例中为了进行自动化生产,将曝光母版固定装置2设置为气体吸附式固定装置,即在曝光母版固定装置2上设置有吸气孔将整块曝光母版吸附于曝光母版固定装置2上,当完成弯曲度的检测之后,即可停止吸气,曝光母版可在生产线上继续自动传输。
以上对本发明所提供的曝光母版弯曲度的测量装置及其测量方法进行了详细介绍。本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以对本发明进行若干改进和修饰,这些改进和修饰也落入本发明权利要求的保护范围内。

Claims (5)

1.一种曝光母版弯曲度的测量方法,其特征在于,包括步骤:
1)确定待检测的曝光母版(3)上的检测点;
2)在待测的曝光母版(3)的边缘选取参考点A,并由发光装置向已经固定的待检测的曝光母版(3)的参考点A发射一束激光线作为入射光线,通过接收装置接收参考点A处的反射光线,且所述入射光线与所述反射光线的夹角0°<α<180°,记录反射光线在接收装置上的接收位置为参考位置;
3)保持所述发光装置和接收装置的相对位置并在平行于所述待检测曝光母版(3)的平面M内同时移动所述发光装置和接收装置,使所述发光装置分别向各个检测点发射入射光线,并将反射光线在所述接收装置上的接收位置与参考位置距离最大的检测点确定为最终检测点B;
4)在平面M内同时移动所述发光装置和接收装置并使入射光线照射到最终检测点B上,然后沿垂直于平面M的坐标轴同时移动所述发光装置和接收装置,当所述最终检测点B的反射光线在所述接收装置上的接收位置与所述参考位置重合时,记录所述发光装置和接收装置在垂直于平面M的坐标轴上的移动距离L。
2.根据权利要求1所述的曝光母版弯曲度的测量方法,其特征在于,所述步骤1)中确定待检测曝光母版(3)上的检测点的具体步骤为:
垂直于所述待检测的曝光母版(3)的长边和宽边分别均匀绘制多条直线,取这些直线的交点为检测点。
3.一种曝光母版弯曲度的测量装置,用于等离子显示器制作过程中对曝光母版弯曲度的检测,其特征在于,包括:
曝光母版固定装置(2);
激光计测装置(4),所述激光计测装置(4)上设置有用于向待检测的曝光母版(3)提供入射光线的激光发射器(5)和用于接收由所述待检测的曝光母版(3)反射回来的反射光线的激光接收器(6),所述激光接收器(6)可感知反射光线的位置变化,所述入射光线与所述反射光线的夹角0°<α<180°;
移动装置,所述激光计测装置(4)设置于所述移动装置上,且所述移动装置可使所述激光计测装置(4)沿空间直角坐标系的X轴、Y轴和Z轴移动,且所述空间直角坐标系的X轴、Y轴或者Z轴与所述待检测的曝光母版(3)垂直。
4.根据权利要求3所述的曝光母版弯曲度的测量装置,其特征在于,还包括与所述激光接收器(6)相连的显示器,所述显示器可将所述激光接收器(6)不同位置所收到的反射光线以波峰的形式显示在显示器的不同位置。
5.根据权利要求3所述的曝光母版弯曲度的测量装置,其特征在于,所述曝光母版固定装置(2)为气体吸附式固定装置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109708594A (zh) * 2018-12-28 2019-05-03 上海创功通讯技术有限公司 一种检测触摸屏挠度的方法及装置
CN113124772A (zh) * 2021-03-25 2021-07-16 广东电网有限责任公司 一种抱杆弯曲度检测预警装置及抱杆
CN116295037A (zh) * 2023-04-11 2023-06-23 广东省水利水电建设有限公司 一种生态坡体监控方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN201724658U (zh) * 2010-08-02 2011-01-26 山东师范大学 利用电子散斑相移技术测量物体三维面形的系统
CN102278958A (zh) * 2011-06-24 2011-12-14 上海瑞伯德智能系统科技有限公司 铝板平面度视觉检测系统
CN102305593A (zh) * 2011-05-20 2012-01-04 西安迈瑞测控技术有限公司 一种高精度大量程tft基板玻璃几何要素测量方法及装置
CN102506747A (zh) * 2011-10-08 2012-06-20 苏州赛琅泰克高技术陶瓷有限公司 陶瓷基板平面轮廓扫描系统及扫描方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN201724658U (zh) * 2010-08-02 2011-01-26 山东师范大学 利用电子散斑相移技术测量物体三维面形的系统
CN102305593A (zh) * 2011-05-20 2012-01-04 西安迈瑞测控技术有限公司 一种高精度大量程tft基板玻璃几何要素测量方法及装置
CN102278958A (zh) * 2011-06-24 2011-12-14 上海瑞伯德智能系统科技有限公司 铝板平面度视觉检测系统
CN102506747A (zh) * 2011-10-08 2012-06-20 苏州赛琅泰克高技术陶瓷有限公司 陶瓷基板平面轮廓扫描系统及扫描方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109708594A (zh) * 2018-12-28 2019-05-03 上海创功通讯技术有限公司 一种检测触摸屏挠度的方法及装置
CN109708594B (zh) * 2018-12-28 2020-12-04 上海创功通讯技术有限公司 一种检测触摸屏挠度的方法及装置
CN113124772A (zh) * 2021-03-25 2021-07-16 广东电网有限责任公司 一种抱杆弯曲度检测预警装置及抱杆
CN116295037A (zh) * 2023-04-11 2023-06-23 广东省水利水电建设有限公司 一种生态坡体监控方法
CN116295037B (zh) * 2023-04-11 2023-11-14 广东省水利水电建设有限公司 一种生态坡体监控方法

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