CN102729004A - 一种内齿圈加工工艺 - Google Patents

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胡建东
潘培道
赵永芹
陈平
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Abstract

本发明公开的一种内齿圈加工工艺,该工艺方法为先用磨床加工出符合尺寸和精度要求的齿条,然后将齿条切割成单个轮齿;接下来在轮圈内表面涂上高强度金属胶,并将切割好的单个轮齿依次粘贴在轮圈上,直到形成一个齿圈;接下来再用对应齿形的齿轮低速跑合一次,跑合后在相邻轮齿缝隙处再涂上金属胶,然后再跑合一次,以实现轮齿的自定位;待金属胶完全固化后,再在每个轮齿上钉上定位销;这样一个内齿圈就制作完成了。采用该工艺制造的内齿圈在机械手关节上使用后,传动可靠,回转误差优于原有线切割工艺加工的,且噪声明显降低,运转平稳,使机械手整体运转效果得以提升。

Description

一种内齿圈加工工艺
技术领域
本发明涉及齿轮技术领域范畴,特别涉及一种用于机器人关节中的高精度内齿圈的加工工艺。
背景技术
高精度内齿圈是机器人关节中的重要部件,是实现机械手稳定运行的关键之一,常用的加工工艺是采用线切割或者拉削加工的方法,但由于齿圈内有上百个齿,对分度精度要求高,往往出现齿距不均匀、粗糙度差,传动性能差等问题。为了生产制造出高精度的内齿圈,需要改进现有加工工艺。
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于针对现有技术中的技术缺陷而提出的一种新的高精度内齿圈的加工工艺。这种加工工艺是采用导轨磨床加工高精度齿条,切断后拼接成型,利用高强度金属胶粘接入齿圈后进行跑合,使各个齿实现自定位,达到较高的分度精度。
本发明所要求解决的技术问题可以通过以下技术方案来实现:
一种内齿圈加工工艺,所述工艺的步骤为:
1)在导轨磨床上加工高精度齿条;
2)用线切割机将加工好的齿条切割成单个齿;
3)在内齿圈的轮圈内表面涂抹高强度金属胶,然后将步骤2)中切割好的单个齿依次粘贴在内齿圈内表面,直到形成齿圈,相邻齿间留有缝隙;
4)将步骤3)中制作好的内齿圈与对应齿形的齿轮啮合以98-103r/min的速度跑合8-10分钟;
5)继续在各齿间隙内打入金属胶,继续以98-103r/min的速度跑合20-30分钟;
6)待金属胶完全固化后,在轮齿上打上定位销。
在每个轮齿上打上三个定位销,并且三个定位销不在一条直线上。
由于采用了如上的技术方案,本发明与现有技术相比,具有如下特点:采用该工艺制造的内齿圈在机械手关节上使用后,传动可靠,回转误差优于原有线切割工艺加工的,且噪声明显降低,运转平稳,使机械手整体运转效果得以提升。
附图说明
图1为本发明工艺制作的内齿圈结构示意图。
图2为内齿圈单个轮齿截面示意图。
具体实施方式
为了使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面进一步阐述本发明。
首先用导轨磨床加工出高精度齿条,符合规定的尺寸和精度要求后,用线切割机切割成单个轮齿,单个轮齿的截面形状如图2所示;在轮圈内表面涂上高强度金属胶,然后将单个轮齿依次装入形成轮齿齿圈,相邻的两个齿间留有间隙,;接下来与对应齿形的齿轮以98-103r/min的速度跑合8-10分钟;继续在各齿间隙内打入金属胶,继续以98-103r/min的速度跑合20-30分钟;待金属胶完全固化后,在每个轮齿上打上定位销,一般打三个定位销为佳,且三个定位销不在一条直线上为佳。内齿圈的结构如图1所示。
以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解,本发明不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理,在不脱离本发明精神和范围的前提下本发明还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等同物界定。

Claims (2)

1.一种内齿圈加工工艺,其特征在于,所述工艺的步骤为:
1)在导轨磨床上加工高精度齿条;
2)用线切割机将加工好的齿条切割成单个齿;
3)在内齿圈的轮圈内表面涂抹高强度金属胶,然后将步骤2)中切割好的单个齿依次粘贴在内齿圈内表面,直到形成齿圈,相邻齿间留有缝隙;
4)将步骤3)中制作好的内齿圈与对应齿形的齿轮啮合以98-103r/min的速度跑合8-10分钟;
5)继续在各齿间隙内打入金属胶,继续以98-103r/min的速度跑合20-30分钟;
6)待金属胶完全固化后,在轮齿上打上定位销。
2.如权利要求1所述的一种内齿圈加工工艺,其特征在于,在每个轮齿上打上三个定位销,并且三个定位销不在一条直线上。
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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