CN102698655A - 一种导热硅脂热处理设备 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种导热硅脂热处理设备，包括位于上部的真空罐(1)和下部的真空机组(6)和制冷机(7)；真空罐(1)内部固定安装支架(2)、冷凝管路(3)和收集盒(4)；支架(2)上放置用于盛放导热硅脂的加热托盘(5)；真空机组(6)通过管路用于对真空罐(1)抽真空；制冷机(7)对冷凝管路(3)进行制冷。本发明通过使用真空罐、真空机组和制冷机等部件的组合，使挥发出来的可凝挥发物一部分通过真空机组排出，另一部分冷凝在冷凝管路上，并最终收集到位于冷凝管路下方的收集盒中，大大减少了导热硅脂中可凝挥发物的含量，提高了导热硅脂的性能。
Description
技术领域
本发明属于导热硅脂加工技术领域，特别涉及一种提高导热硅脂性能的热处理设备。
背景技术
导热硅脂是一种高导热绝缘有机硅材料，广泛应用于器件之间的热传导。导热硅脂的爬油及可凝挥发物一直以来都是较为普遍的问题。由于可凝挥发物的存在，会破坏使用环境的洁净度，在使用环境要求严格的场合(如航天器热管的装配等)会造成其他元器件的失效，因此，需要对导热硅脂进行专门的处理，以尽量降低可凝挥发物的含量，使其在使用过程中尽量少的挥发。
目前，去除导热硅脂内可凝挥发物的处理工艺是：先将导热硅脂盛放于托盘中，再将托盘放入烘箱中，保持一定的温度，连续烘烤48小时以上，在烘烤过程中，每隔大约2小时打开烘箱门2分钟，使可凝挥发物排出烘箱。在这样的处理工艺中，大部分可凝挥发物可以被排出导热硅脂，但由于排出的可凝挥发物在烘箱内还处于气体状态并与导热硅脂直接接触，其中的一部分会重新进入导热硅脂，影响导热硅脂的质量。所以，处理后的导热硅脂内还有少部分的可凝挥发物，无法用于对环境要求极高的场合下使用，这样的处理工艺存在一定的缺陷需要改进。
发明内容
本发明的目的在于，克服现有技术的不足，提供一种高效率的导热硅脂热处理设备。
本发明的技术解决方案是，一种导热硅脂热处理设备，包括位于上部的真空罐和下部的真空机组和制冷机；所述的真空罐内部固定安装支架、冷凝管路和收集盒；所述的支架安装在真空罐中部，支架上放置加热托盘，加热托盘用于盛放导热硅脂并对其进行加热；真空机组通过管路与真空罐连接，用于对罐体进行抽真空；冷凝管路固定在真空罐内侧，收集盒位于冷凝管路的正下方；制冷机通过管路与冷凝管路连接，对冷凝管路进行制冷。
所述加热托盘根据真空罐的空间设置为多层。
所述真空罐的真空度小于0.1Pa。
所述加热托盘为底部银钎焊加热丝的不锈钢托盘，托盘中心位置的加热丝稀疏、四周位置加热丝密集。
所述加热托盘的加热温度为100-200℃。
所述冷凝管路的温度低于15℃。
本发明与现有技术相比的有益效果是：
1.本发明通过使用真空罐、真空机组和制冷机等部件的组合，用真空机组对真空罐抽真空，并使用冷凝管路和收集盒对导热硅脂加热产生的可凝挥发物进行收集，使挥发出来的可凝挥发物一部分通过真空机组排出，另一部分冷凝在冷凝管路上，并最终收集到位于冷凝管路下方的收集盒中，大大减少了导热硅脂中可凝挥发物的含量，提高了导热硅脂的性能。
2.考虑加热托盘面积较大时，托盘四周与中心温差较大的问题，本发明在托盘中心位置和四周位置采用不同密集度的加热丝分布，使整个托盘能对导热硅脂进行均匀加热。同时，采用银钎焊方式将加热丝固定在托盘底部，提高了托盘的导热效率。
3.本发明通过合理选择真空罐的真空度、加热温度、冷凝温度等参数，为可凝挥发物的排出和收集提供了良好的热处理条件，有效提高了导热硅脂的性能。
附图说明
图1为本发明的结构示意图。
具体实施方式
以下结合附图和具体实施方式对本发明做进一步说明。
如图1，本发明的一种导热硅脂热处理设备，包括位于上部的真空罐1和下部的真空机组6和制冷机7。
在真空罐1的内部固定支架2、冷凝管路3和收集盒4。支架2安装在真空罐1的中部，支架2上放置加热托盘5，加热托盘5用于盛放导热硅脂并对其进行加热。根据真空罐1的空间和支架2的高度，可以放置多层加热托盘5。本实施例中，加热托盘5的层数为5层。
真空机组6通过管路与真空罐1连接，用于对罐体进行抽真空。冷凝管路3固定在真空罐1的内侧，收集盒4位于冷凝管路3的正下方。制冷机7通过管路与冷凝管路3连接，对冷凝管路3进行制冷。
真空罐1为导热硅脂的热处理提供真空环境，真空度太低则导热硅脂内的可凝挥发物不能充分被抽出，因此，真空罐1内的真空度应小于0.1Pa。本实施例中，真空罐1的真空度为0.05Pa。
加热托盘5用于盛放导热硅脂并对其进行加热，加热温度太低，不能使导热硅脂中可凝挥发物充分挥发，加热温度过高则会破坏导热硅脂的性能，因此本发明的加热温度选择在100-200℃之间。本实施例中，加热托盘5的加热温度为150℃。
考虑到加热托盘5的面积较大，托盘四周与中心温差较大，本发明在加热托盘5中心位置和四周位置采用了不同密集度的加热丝分布，托盘中心位置加热丝稀疏，托盘四周位置加热丝密集。在本实施例中，加热托盘5为480mm×350mm的矩形，因此，在加热托盘中心位置加热丝间距为40mm，而加热托盘四周位置加热丝的间距为20mm。
同时，本发明采用银钎焊方式将加热丝固定在加热托盘5底部，提高了托盘的导热效率。
本发明中，冷凝管路的温度不能太高，温度高则冷凝效果不明显，而温度太低则成本较高，因此，冷凝管路温度低于15℃为宜。本实施例中，冷凝管路3的温度为10℃。
本发明的工作过程是：首先将导热硅脂放置在加热托盘5内，再将加热托盘5放置在支架2上，关闭真空罐1；其次通过真空机组6对真空罐1进行抽真空，达到设定的真空度；最后对加热托盘5进行加热，同时制冷机7对冷凝管路3进行制冷。当加热托盘5的温度上升时，导热硅脂的可凝挥发物开始挥发，到设定温度时保持一段时间(0.5-2小时)，使挥发效果最好。
真空机组6维持设定的真空度不断排出可凝挥发物；同时冷凝管路3将部分可凝挥发物凝结为液态，并回收于收集盒4中。
通过本发明的装置，使得导热硅脂在加热过程中挥发出来的可凝挥发物与导热硅脂分离，大大减少了可凝挥发物的含量，提高了导热硅脂的性能。
当然，对本发明的各组成部件、位置关系及连接方式在不改变其功能的情况下，进行的等效变换或替代，也落入本发明的保护范围。
本发明说明书未公开的技术属本领域公知技术。
Claims (6)
1.一种导热硅脂热处理设备，其特征在于：包括位于上部的真空罐(1)和下部的真空机组(6)和制冷机(7)；所述的真空罐(1)内部固定安装支架(2)、冷凝管路(3)和收集盒(4)；所述的支架(2)安装在真空罐(1)中部，支架(2)上放置加热托盘(5)，加热托盘(5)用于盛放导热硅脂并对其进行加热；真空机组(6)通过管路与真空罐(1)连接，用于对罐体进行抽真空；冷凝管路(3)固定在真空罐(1)内侧，收集盒(4)位于冷凝管路(3)的正下方；制冷机(7)通过管路与冷凝管路(3)连接，对冷凝管路(3)进行制冷。
2.根据权利要求1的一种导热硅脂热处理设备，其特征在于：所述加热托盘(5)根据真空罐(1)的空间设置为多层。
3.根据权利要求1的一种导热硅脂热处理设备，其特征在于：所述真空罐(1)的真空度小于0.1Pa。
4.根据权利要求1的一种导热硅脂热处理设备，其特征在于：所述加热托盘(5)为底部银钎焊加热丝的不锈钢托盘，托盘中心位置的加热丝稀疏、四周位置加热丝密集。
5.根据权利要求1的一种导热硅脂热处理设备，其特征在于：所述加热托盘(5)的加热温度为100-200℃。
6.根据权利要求1的一种导热硅脂热处理设备，其特征在于：所述冷凝管路(3)的温度低于15℃。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN2012101563226A CN102698655A (zh) | 2012-05-18 | 2012-05-18 | 一种导热硅脂热处理设备 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| CN2012101563226A CN102698655A (zh) | 2012-05-18 | 2012-05-18 | 一种导热硅脂热处理设备 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
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| CN102698655A true CN102698655A (zh) | 2012-10-03 |
Family
ID=46891879
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN2012101563226A Pending CN102698655A (zh) | 2012-05-18 | 2012-05-18 | 一种导热硅脂热处理设备 |
Country Status (1)
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|---|---|
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Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2012
- 2012-05-18 CN CN2012101563226A patent/CN102698655A/zh active Pending
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