CN102659395A - 一种高白度纯色通体抛光砖及其生产方法与应用 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种高白度纯色通体抛光砖及其生产方法与应用,该抛光砖是由20-30%的长石、10-28%的高温砂、20-27%的高白粘土、0-12%的石英砂、10-20%的铝粉、8-18%的煅烧滑石粉、0.5%的三聚磷酸钠和0.1-0.15%的甲基纤维素经过1180℃、45min的烧成后得到。本发明高白度纯色通体抛光砖的白度高(达68-75°)、产品放射性接近零辐射、吸水率低<0.1%、抗污能力达4级;生产中采用低温快烧,大幅降低生产成本,真正做到节能减排;配方中尽量减少含有氧化钙和氧化镁的原料用量,改善因含钙和镁较多的配方在烧成后光度差,烧成范围窄等生产缺陷问题。

Description

一种高白度纯色通体抛光砖及其生产方法与应用
技术领域
本发明属于陶瓷建材领域,具体涉及一种陶瓷砖,特别涉及一种高白度纯色通体抛光砖及其生产方法与应用。
背景技术
高白度纯色通体抛光砖的白度要远高于普通的陶瓷砖,其外观洁白无瑕、柔润素雅,是一种高档的瓷砖,并且呈现出瓷砖白度越高市场需求越好的趋势。但目前市面上的超白砖主要是通过在陶瓷砖原料配方中引入硅酸锆(一种带有放射性物质的化工原料)的方法来提高陶瓷砖的白度,以此生产出来的超白砖会对人体的健康和环境带来一定程度的危害;此外,还有一种方法是通过对砖面施釉来增加陶瓷砖白度,但施釉砖的耐磨性又比较差,一旦釉面磨损后,砖面就会吸污,影响美观。
现陶瓷业内也有很多白度较高的砖,但都是采用高镁配方(MgO含量在8-60%),墙地砖特别是抛光砖引入过多的MgO白度虽然达到了,但MgO含量过高烧成范围窄不利于生产、烧成后成品强度很难达到要求、对陶瓷砖砖面的光度影响很大,而且防污性能也很差,很难形成批量生产,就是生产也是很难控制产品品质,产量也非常低。
现有陶瓷砖的生产中,烧成温度通常在1200-1250℃之间或者更高,烧成时间通常在60-80min之间或者更长,这样高的烧成温度和如此长的烧成时间不仅造成生产成本的大幅提高,也与我国政府提出的“节能减排”目标背道而驰。
发明内容
针对现有陶瓷砖白度低,引用硅酸锆带来放射性危害,施釉砖耐磨性不佳,高镁陶瓷砖光度低防污差以及难以形成批量生产等缺点和问题,本发明的首要目的在于提供一种无放射性的高白度纯色通体抛光砖。
针对现有陶瓷砖生产中烧成温度高、烧成时间长的问题,本发明的另一目的在于提供上述高白度纯色通体抛光砖的生产方法,其烧成温度降至1180℃以下、烧成时间缩短至45min以内。
本发明的再一目的在于提供上述高白度纯色通体抛光砖的用途。
本发明的目的通过以下技术方案实现:
一种高白度纯色通体抛光砖,由以下质量百分比的原料制备得到;
长石:20-30%
高温砂:10-28%
高白粘土:20-27%
石英砂:0-12%
铝粉:10-20%
煅烧滑石粉:8-18%
三聚磷酸钠:0.5%
甲基纤维素:0.1-0.15%;
上述配方中,通过引入煅烧滑石粉来降低长石原料的用量,过多的长石会导致砖体白度降低;适当增加铝粉用量,可以提高砖体的白度和拓宽配方烧成范围。
所述的高白度纯色通体抛光砖烧成后含有以下质量百分比的成分:
氧化铝(Al2O3):18-24%
氧化硅(SiO2):55-65%
氧化铁(Fe2O3):﹤0.5%
氧化钙(CaO):﹤2.0%
氧化镁(MgO):2-7%
氧化钾(K2O):1.5-2.0%
氧化钠(Na2O):2.0-3.0%
氧化钛(TiO2):﹤0.15%;
所述高白度纯色通体抛光砖的烧失量(IL)小余9.0%。
上述高白度纯色通体抛光砖的生产方法,包括以下步骤:
(1)将各原料送入球磨机中,加入占原料质量1/2的水,研磨12-13h,研磨细度为250目筛余0.5-0.8%,该细度要求能使砖体白度更均匀、质感更细腻、品质更卓越,经研磨后得到有一定流速并且均匀的浆料;
(2)将浆料过筛后放入放浆池中,再将浆料除铁并过60-80目筛,然后将浆料混匀均化;
(3)再次将浆料除铁并过80-100目筛,然后将浆料陈腐处理,排出浆料中的残余气体,陈腐处理能使浆料中的有机质变成腐殖质,提高浆料颗粒表面的塑性,改善浆料的均一性;
(4)再一次将浆料除铁并过100-120目筛,然后经喷雾塔喷制成粉料放入粉料仓中陈腐24-36h,陈腐能使粉料中的有机质进一步转变成腐殖质,增加粉料的可塑性,提高粉料水份的均匀性,改善粉料的流动性;
(5)将陈腐后的粉料压制成砖坯,然后干燥,使砖坯中的水份降至0.5%以下;
(6)将干燥后的砖坯传送至窑炉进行烧成,烧成温度为1180℃、烧成时间为45min,待砖体冷却后进行抛光处理,得到高白度纯色通体抛光砖;该步骤的低温快速烧成(现有技术烧成温度一般在1200℃以上,烧成时间一般在60min以上)能使产品吸水率低、防污性能好、发色力强、白度高,更能节省能耗,减少废气废水的排放,也使产品成本大幅降低,达到节能减排。
步骤(2)所述的将浆料过筛是过8目筛;
步骤(2)-(4)中所述的将浆料除铁是用自动除铁机除铁;
步骤(3)所述的将浆料陈腐处理是将浆料在常温下放置12-24h;
步骤(4)所述的由喷雾塔喷制的粉料,其中水分的百分含量为6.5-7.0%;颗粒级配控制在20目上:﹤0.2%、40目上:35-40%、60目上:45-50%、100目上:15-20%、100目下:﹤2%;
步骤(5)所述的干燥是在150-250℃下干燥60-80min。
上述的高白度纯色通体抛光砖可广泛应用于地面、墙面及建筑物表面的装饰。
本发明相对于现有技术具有如下的优点及其效果:
1、本发明的高白度纯色通体抛光砖的白度高达68-75°,色泽自然柔和,砖面细腻顺滑,品质时尚卓越。
2、本发明的高白度纯色通体抛光砖是精选超白环保陶瓷原料,不添加任何增白化工原料,产品放射性接近零辐射,保证陶瓷砖的“脱俗之白”。
3、本发明的高白度纯色通体抛光砖致密度高、吸水率低<0.1%、抗污能力达4级。
4、本发明的高白度纯色通体抛光砖制备方法采用行业一直追求的低温快烧,能大幅度降低生产成本,真正做到节能减排。
5、本发明的高白度纯色通体抛光砖尽量减少含有氧化钙和氧化镁的原料用量,改善因含钙和镁较多的配方在烧成后光度差,烧成范围窄等生产缺陷问题。
6、本发明高白度纯色通体抛光砖的配方成份中各个氧化物的比例控制在一定的比例范围内,使砖体配方在高温烧成时所产生的莫来石相、堇青石相、斜顽辉石相等晶相能够达到合理优化组合,使砖体在高温烧成时形成强而有力的骨架,确保坯体不易变形,烧成范围宽,热稳定性好,白度高。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明作进一步详细的描述,但本发明的实施方式不限于此。
实施例1-5
一种高白度纯色通体抛光砖,其原料配方如表1所示:
表1    实施例1-5的高白度纯色通体抛光砖的原料配方(单位:%)
  原料名称  实施例1  实施例2  实施例3  实施例4  实施例5
  长石  20  24.4  30  21  30
  高温砂  17.35  10  28  19  10
  高白粘土  20  27  23.38  22.35  22
  石英砂  4  12  0  6  8
  铝粉  20  11  10  18  15
  煅烧滑石粉  18  15  8  13  14.35
  三聚磷酸钠  0.5  0.5  0.5  0.5  0.5
  甲基纤维素  0.15  0.1  0.12  0.15  0.15
其生产方法包括以下步骤:
(1)按表1配方称取各原料,将各原料送入球磨机中,再加入占原料质量1/2的水,原料与水一起研磨12-13h,研磨细度为250目筛余0.5-0.8%,经研磨后得到有一定流速并且均匀的浆料;
(2)将浆料过8目筛后放入放浆池中,再把浆料经过自动除铁机除铁并过60-80目筛,然后混匀均化;
(3)再次将浆料经过自动除铁机除铁并过80-100目筛,然后在常温下对浆料进行12-24h的陈腐处理,排出浆料中的残余气体,使浆料中的有机质变成腐殖质,提高浆料颗粒表面的塑性,改善浆料的均一性;
(4)再一次将浆料经过自动除铁机除铁并过100-120目筛,然后经喷雾塔喷制成有一定水份和一定颗粒级配的粉料放入粉料仓中陈腐24-36h,使粉料中的有机质进一步转变成腐殖质,增加粉料的可塑性,提高粉料水份的均匀性,改善粉料的流动性;
所述的由喷雾塔喷制的粉料,其中水分的百分含量为6.5-7.0%;颗粒级配控制在20目上:﹤0.2%、40目上:35-40%、60目上:45-50%、100目上:15-20%、100目下:﹤2%;
(5)将陈腐后的粉料压制成砖坯,然后经150-250℃的温度干燥60-80min,使砖坯中的水份降至0.5%以下;
(6)将干燥后的砖坯传送至窑炉进行烧成,烧成温度为1180℃、烧成时间为45min,待砖体冷却后进行抛光处理,得到高白度纯色通体抛光砖。
烧成后,实施例1-5所得到的高白度纯色通体抛光砖其成分和烧失量如表2所示:
表2  实施例1-5的高白度纯色通体抛光砖的成份组成和烧失量(单位:%):
Figure BDA00001614357900051
实施例1-5所得到的高白度纯色通体抛光砖其其他性能指标如下:
实施例1:收缩率为11.3%,吸水率为0.1%,防污等级4级,白度达73-75°,解决了传统超白砖引入硅酸锆等化工料来增白所带来的放射性危害。
实施例2:收缩率为9.3%,吸水率为0.08%,防污等级4级,白度达69-71°,解决了传统超白砖引入硅酸锆等化工料来增白所带来的放射性危害。
实施例3:收缩率为8.9%,吸水率为0.08%,防污等级4级,白度达67-69°,解决了传统超白砖引入硅酸锆等化工料来增白所带来的放射性危害。
实施例4:收缩率为10.5%,吸水率为0.09%,防污等级4级,白度达69-71°,解决了传统超白砖引入硅酸锆等化工料来增白所带来的放射性危害。
实施例5:收缩率为9.8%,吸水率为0.06%,防污等级4级,白度达68-70°,解决了传统超白砖引入硅酸锆等化工料来增白所带来的放射性危害。
以上性能和数据均依照国标GB/T 3810《陶瓷砖试验方法》(2006)测试得到。
上述实施例为本发明较佳的实施方式,但本发明的实施方式并不受上述实施例的限制,其他的任何未背离本发明的精神实质与原理下所作的改变、修饰、替代、组合、简化,均应为等效的置换方式,都包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种高白度纯色通体抛光砖,其特征在于:是由以下质量百分比的原料制备得到;
长石:20-30%
高温砂:10-28%
高白粘土:20-27%
石英砂:0-12%
铝粉:10-20%
煅烧滑石粉:8-18%
三聚磷酸钠:0.5%
甲基纤维素:0.1-0.15%。
2.根据权利要求1所述的高白度纯色通体抛光砖,其特征在于:所述的高白度纯色通体抛光砖烧成后含有以下质量百分比的成分:
氧化铝:18-24%
氧化硅:55-65%
氧化铁:﹤0.5%
氧化钙:﹤2.0%
氧化镁:2-7%
氧化钾:1.5-2.0%
氧化钠:2.0-3.0%
氧化钛:﹤0.15%。
3.根据权利要求1所述的高白度纯色通体抛光砖,其特征在于:所述高白度纯色通体抛光砖的烧失量小余9.0%。
4.权利要求1-3任一项所述的高白度纯色通体抛光砖的生产方法,其特征在于包括以下步骤:
(1)将各原料送入球磨机中,加入占原料质量1/2的水,研磨12-13h,研磨细度为250目筛余0.5-0.8%,得到浆料;
(2)将浆料过筛后放入放浆池中,再将浆料除铁并过60-80目筛,然后将浆料混匀均化;
(3)再次将浆料除铁并过80-100目筛,然后将浆料陈腐处理;
(4)再一次将浆料除铁并过100-120目筛,然后经喷雾塔喷制成粉料放入粉料仓中陈腐24-36h;
(5)将陈腐后的粉料压制成砖坯,然后干燥,使砖坯中的水份降至0.5%以下;
(6)将干燥后的砖坯传送至窑炉进行烧成,烧成温度为1180℃、烧成时间为45min,待砖体冷却后进行抛光处理,得到高白度纯色通体抛光砖。
5.根据权利要求4所述的高白度纯色通体抛光砖的生产方法,其特征在于:步骤(2)所述的将浆料过筛是过8目筛。
6.根据权利要求4所述的高白度纯色通体抛光砖的生产方法,其特征在于:步骤(2)-(4)中所述的将浆料除铁是用自动除铁机除铁。
7.根据权利要求4所述的高白度纯色通体抛光砖的生产方法,其特征在于:步骤(3)所述的将浆料陈腐处理是将浆料在常温下放置12-24h。
8.根据权利要求4所述的高白度纯色通体抛光砖的生产方法,其特征在于:步骤(4)所述的由喷雾塔喷制的粉料,其中水分的百分含量为6.5-7.0%;颗粒级配控制在20目上:﹤0.2%、40目上:35-40%、60目上:45-50%、100目上:15-20%、100目下:﹤2%。
9.根据权利要求4所述的高白度纯色通体抛光砖的生产方法,其特征在于:步骤(5)所述的干燥是在150-250℃下干燥60-80min。
10.权利要求1-3任一项所述的高白度纯色通体抛光砖在地面砖或墙面砖中的应用。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103708811A (zh) * 2013-12-16 2014-04-09 广州锦盈新型材料有限公司 抛光砖及其制备方法和应用
CN103848617A (zh) * 2014-01-22 2014-06-11 沈阳顺鑫陶瓷有限公司 一种超白抛光瓷砖及其生产工艺
CN103880400A (zh) * 2014-02-20 2014-06-25 沈阳五洲震耀陶瓷有限公司 一种超白耐磨瓷砖及其生产工艺
CN104788078A (zh) * 2015-04-14 2015-07-22 岑溪市新建球陶瓷有限公司 墙面砖的生产方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101070240A (zh) * 2006-05-11 2007-11-14 霍镰泉 一种超白抛光砖

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101070240A (zh) * 2006-05-11 2007-11-14 霍镰泉 一种超白抛光砖

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103708811A (zh) * 2013-12-16 2014-04-09 广州锦盈新型材料有限公司 抛光砖及其制备方法和应用
CN103708811B (zh) * 2013-12-16 2015-09-30 广州锦盈新型材料有限公司 抛光砖及其制备方法和应用
CN103848617A (zh) * 2014-01-22 2014-06-11 沈阳顺鑫陶瓷有限公司 一种超白抛光瓷砖及其生产工艺
CN103880400A (zh) * 2014-02-20 2014-06-25 沈阳五洲震耀陶瓷有限公司 一种超白耐磨瓷砖及其生产工艺
CN103880400B (zh) * 2014-02-20 2015-07-29 沈阳五洲震耀陶瓷有限公司 一种超白耐磨瓷砖及其生产工艺
CN104788078A (zh) * 2015-04-14 2015-07-22 岑溪市新建球陶瓷有限公司 墙面砖的生产方法

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