CN102636900A - 显示面板及制造显示装置的方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种显示面板及制造显示装置的方法。具有液晶层的该显示面板包括彼此相对设置的第一和第二基板；滤色器偏振层，形成在第一基板和第二基板之一的位于第一基板与第二基板之间的表面上，并包括金属线形格子，金属线形格子以不同节距布置从而发射具有不同颜色的入射光的第一偏振分量；和偏振层，形成在与第一基板和第二基板之一的该表面相反的表面上。提供的显示面板和包括其的显示装置具有降低的制造成本和简化的制造工艺。

Description

显示面板及制造显示装置的方法
技术领域
根据示范实施方式的装置和方法涉及显示面板及包括其的显示装置，更具体地，涉及包括滤色器偏振层和偏振层的显示面板以及包括该显示面板的显示装置。
背景技术
液晶显示器(LCD)面板包括第一和第二基板(液晶层形成在其间)以及用于偏振入射到第一和第二基板上的光的偏振膜。而且，LCD面板包括滤色器层，从而用光表现颜色。随着入射光穿过偏振膜和滤色器层，光的光学效率变低。同时，LCD面板可以进一步包括在光入射侧的双重亮度增强膜(DBEF)，以补偿由于偏振导致的光损失。
偏振膜和DBEF增加LCD面板或显示装置的制造成本并且使得制造工艺复杂。
发明内容
一个或多个示范实施方式提供了显示面板和包括该显示面板的显示装置，其中降低了制造成本并简化了制造工艺。
根据示范实施方式的另一方面，提供了具有改善的光学效率的显示面板和包括该显示面板的显示装置。
上述和/或其他的方面可以通过提供一种具有液晶层的显示面板来实现，该显示面板包括：彼此相对设置的第一和第二基板；滤色器偏振层，形成在第一和第二基板之一的位于第一基板与第二基板之间的表面上，并包括金属线形格子，该金属线形格子以不同节距布置从而发射入射光的具有不同颜色的第一偏振分量；和偏振层，形成在与第一和第二基板之一的所述表面相反的表面上。
偏振层可以进一步包括透射不同于第一偏振分量的第二偏振分量的偏振膜。
显示面板可以进一步包括形成在第一和第二基板之一的表面上并且包括像素的像素层，该像素包括多个子像素，至少三个子像素的每个相应于金属线形格子的不同的布置节距。
金属线形格子可以包括红色金属线形格子、绿色金属线形格子和蓝色金属线形格子，红色金属线形格子的每个节距可以形成为使得每个节距小于红光波长的1/2，绿色金属线形格子形成为使得每个节距小于绿光波长的1/2，蓝色金属线形格子形成为使得每个节距小于蓝光波长的1/2。
金属线形格子可以包括依次堆叠的第一金属层、绝缘层和第二金属层。
金属线形格子的高度可以大于其宽度。
滤色器偏振层可以进一步包括堆叠在金属线形格子下面的介电层。
根据示范实施方式的另一方面，提供一种包括显示面板的显示装置，该显示面板具有液晶层，该显示装置包括显示面板和发射光到显示面板的背光组件，显示面板包括：彼此相对设置的第一和第二基板；滤色器偏振层，形成在第一和第二基板之一的位于第一基板与第二基板之间的表面上，并包括金属线形格子，该金属线形格子以不同节距布置从而发射入射光的具有不同颜色的第一偏振分量；以及形成在与第一和第二基板之一的所述表面相反的表面上的偏振层。
附图说明
由下文结合附图对示范实施方式的描述，上述和/或其他方面将变得明显且更易于理解，其中：
图1示出根据示范实施方式的显示面板的层结构；
图2是图1的显示面板的横截面图；
图3是显示图1的滤色器偏振层的视图；
图4A和图4B是显示子像素的金属线形格子的视图；
图5是图3的滤色器偏振层的横截面图；
图6是根据示范实施方式的另一滤色器偏振层的横截面图；
图7是根据示范实施方式的又一滤色器偏振层的横截面图；
图8A至图8E是用于解释根据示范实施方式的显示面板的制造方法的视图；
图9是显示根据另一示范实施方式的显示面板的层结构的视图；
图10是图9的显示面板的横截面图；
图11是显示根据又一示范实施方式的显示面板的层结构的视图；
图12是图11的显示面板的横截面图；
图13是根据示范实施方式的显示装置的示意图；
图14是根据示范实施方式的显示装置的控制方块图；和
图15是用于解释图13的显示装置的制造方法的视图。
具体实施方式
在下文，将参考附图详细描述示范实施方式，从而本领域普通技术人员易于实现。示范实施方式可以以各种形式实现而不限于这里阐述的示范实施方式。为了清楚，省略了对于公知的部分的描述，通篇相似的附图标记指代相似的元件。
图1显示根据示范实施方式的显示面板的层结构，图2是显示图1的显示面板的横截面图。
如在图中所示，在此示范实施方式中的显示面板1000包括彼此相对的第一基板100和第二基板200、依次布置在第一基板100和第二基板200之间的滤色器偏振层300、像素层400和液晶层500、以及布置在第二基板200的外表面上的偏振膜600。包括液晶层500的显示面板1000可以用于电视、诸如监视器的家用器具、便携式电话(cellular phone)、便携多媒体播放器(PMP)、网络本(netbook)、笔记本电脑、诸如电子书终端等的移动终端、用于展览和广告的显示装置等等。
滤色器偏振层300和像素层400依次形成在第一基板100上，偏振膜600形成在第二基板200上。如图2所示，第二基板200形成有在与第一基板100的TFT 411相应的区域中的黑矩阵200-1，以及与像素电极412相应的产生电压的公共电极200-3。液晶层500插入在第一基板100与第二基板200之间，通过施加电压调整液晶层500的配向。根据扭曲向列(TN)模式、垂直配向(VA)模式、图案化垂直配向(PVA)模式、共平面开关(IPS)模式等等显示面板1000的操作模式来控制液晶层500的排列。为了改善显示面板1000的光学视角，子像素被分割或图案化，液晶的折射率被均匀地调整，或者可以使用类似的技术。
滤色器偏振层300形成在第一基板100上，用于控制液晶阵列且显示图像的像素层400形成在滤色器偏振层300上。滤色器偏振层300包括以不同节距布置的金属线形格子310，使得入射光的第一偏振分量能够发射为不同颜色的光。偏振膜600透射不同于第一偏振分量的第二偏振分量的光。在金属线形格子310上形成平坦化层100-1，用于保护和整平金属线形格子310。下文将详细描述包括在滤色器偏振层300中的金属线形格子310。
形成在平坦化层100-1上的像素层400包括多个像素(未示出)，该多个像素用于根据从外部接收的控制信号来改变填充在液晶层500中的液晶阵列，每个像素包括多个子像素410。在此示范实施方式中，子像素410代表最小单元像素，在该最小单元像素中与红色、绿色和蓝色相应的视频信号值被输入，包括多个子像素410且表现一个视频信号的单元被当作像素。子像素410包括作为开关装置的薄膜晶体管(TFT)411，和像素电极412。子像素410具有二维空间概念以及包括TFT 411和像素电极412的物理概念。
在第一基板100的平坦化层100-1上形成栅电极411-1。栅电极411-1可以是包含金属的单层或多层。在与栅电极411-1相同的层上进一步形成连接到栅电极411-1并沿显示面板1000的横向布置的栅线(未示出)和连接到栅驱动器(未示出)并传输驱动信号到栅线的栅焊盘(未示出)。同样，在与栅电极411-1相同的层上形成维持电极413，用于建立电荷。
在第一基板100上，包含硅氮化物(SiNx)等等的栅绝缘层411-2覆盖栅电极411-1和维持电极413。
在栅电极411-1的栅绝缘层411-2上形成包含非晶硅等半导体的半导体层411-3。在半导体层411-3上形成包含n+氢化非晶硅等的高度掺杂硅化物或n型杂质的材料的欧姆接触层411-4。此外，在后面将描述的源电极411-5和漏电极411-6之间的沟道部分中去除欧姆接触层411-4。
在欧姆接触层411-4和栅绝缘层411-2上形成数据布线411-5和411-6。数据布线411-5和411-6也可以是包含金属的单层或多层。数据布线411-5和411-6包括沿竖直方向形成并交叉栅线(未示出)以形成子像素410的数据线(未示出)、从数据线分支并延伸到欧姆接触层411-4的上部的源电极411-5、以及与源电极411-5分离开并形成在欧姆接触层411-4的上部上与源电极411-5相对的漏电极411-6。
在数据布线411-5和411-6以及没有被数据布线411-5和411-6覆盖的半导体层411-3上形成钝化层411-7。此时，硅氮化物等的无机绝缘膜可以进一步形成在钝化层411-7与TFT 411之间，由此保证TFT 411的可靠性。
典型地，形成在钝化层411-7上的像素电极412包含铟锡氧化物(ITO)或铟锌氧化物(IZO)等透明导电材料。像素电极412电连接到源电极411-5。
在第二基板200的平坦化层100-1上，黑矩阵200-1形成在与第一基板100的TFT 411相应的区域中。通常，黑矩阵200-1用来划分子像素410并且防止TFT 411暴露于外部光。黑矩阵200-1包含具有黑染料的感光有机材料。碳黑、钛氧化物等用作黑染料。
在黑矩阵200-1上形成外覆层200-2，用于整平且保护黑矩阵200-1。丙烯酸环氧材料典型地用作外覆层200-2。
在外覆层200-2上形成公共电极200-3。公共电极200-3由诸如铟锡氧化物(ITO)、铟锌氧化物(IZO)等等的透明导电材料制成。公共电极200-3与第一基板100的像素电极412一起直接施加电压到液晶层500。
图3是显示图1的滤色器偏振层的视图。图4A和图4B是用于解释子像素的金属线形格子的视图，图5是图3的滤色器偏振层的横截面图。
如图中所示，金属线形格子310成形为类似于在第一基板100上沿特定方向布置的条。金属线形格子310以特定高度(H)和宽度(W)周期地布置。该周期，即，金属线形格子310的节距根据期望的光的颜色而被不同地控制。
如果衍射光栅的节距调整为等于或小于光的波长的1/2，则不形成衍射波而仅存在透射光和反射光。如这里所示，当入射光穿过成形为类似狭缝的金属线形格子310时，入射光的垂直于金属线形格子310的第一偏振分量透过第一基板100，但入射光的平行于金属线形格子310的第二偏振分量变成被再一次反射的反射光。也就是说，穿过滤色器偏振层300的入射光相对于特定方向被偏振。同时，空气可以形成在金属线形格子310之间。
图4A是显示像素I和构成像素I的子像素410-R、410-G和410-B的视图。在此示范实施方式中，像素I包括形成在发射红光的区域中的红色子像素410-R、形成在发射绿光的区域中的绿色子像素410-G以及形成在发射蓝光的区域中的蓝色子像素410-B。与这样的像素层400相应的滤色器偏振层300形成有金属线形格子310，该金属线形格子310具有根据子像素410-R、410-G和410-B而不同的节距。
图4B是显示与子像素410-R、410-G和410-B相应的金属线形格子310的视图。金属线形格子310包括形成在与红色子像素410-R相应的区域中的红色金属线形格子310-R、形成在与绿色子像素410-G相应的区域中的绿色金属线形格子310-G、形成在与蓝色子像素410-B相应的区域中的蓝色金属线形格子310-B。
红色金属线形格子310-R布置为使得每个节距小于红光波长的1/2，绿色金属线形格子310-G布置为使得每个节距小于绿光波长的1/2，蓝色金属线形格子310-B布置为使得每个节距小于蓝光波长的1/2。因此，金属线形格子310-R、310-G和310-B的每个节距根据子像素410-R、410-G和410-B而调整，使得入射光的波长能够被控制，由此允许子像素410分别发射不同颜色的光。
红色金属线形格子310-R的节距小于红光波长的1/2，即，大约330～390nm，入射光被分离成具有第一偏振分量同时穿过红色金属线形格子310-R的红色光谱。绿色金属线形格子310-G的节距小于绿光波长的1/2，即，大约250～290nm，入射光被分离成具有第一偏振分量的绿色光谱。蓝色金属线形格子310-B的节距可以设置为小于蓝光波长的1/2，即，大约220～240nm。穿过蓝色金属线形格子310-B的光被分离成具有第一偏振分量的蓝色光谱。换句话说，金属线形格子310的节距按照红色金属线形格子310-R、绿色金属线形格子310-G和蓝色金属线形格子310-B的顺序减小。金属线形格子310的节距可以根据期望从显示面板1000发出的颜色的光波长而调整，可以发射黄色、青色和洋红色的光来取代前述的红色、绿色、蓝色的光。
如图5所示，在此示范实施方式中的金属线形格子310包括依次堆叠的第一金属层311、绝缘层313和第二金属层315。第一金属层311和第二金属层315可以由诸如Al、Ag等的金属制成，并且可以具有小于约100nm的高度。在此示范实施方式中，第一金属层311和第二金属层315中每个可以形成为具有约40nm的高度。堆叠在第一金属层311和第二金属层315之间的绝缘层313可以包括介电材料，诸如ZnSe和TiO2，并且可以形成为具有小于约150nm的高度。金属线形格子310的高度大于其宽度，高度与宽度之比可以是2～4，例如，3。在金属线形格子310中，宽度、高度、节距、高度与宽度之比以及节距与宽度之比可以根据形成金属线形格子310的材料而改变。也就是说，通过考虑金属的种类、介电材料的高度等等来实施关于光学透射比(optical transmittance)的模拟，并且可以选择最优条件。同样，金属线形格子310的宽度、高度、节距、高度与宽度之比以及节距与宽度之比可以根据发射的光的颜色，即，每个子像素410，而改变。
从金属线形格子310的金属层311、315发出彩色光的原理是基于等离子体激元(plasmon)，在该等离子体激元中在金属中的自由电子共同振荡。纳米尺寸的金属由于自由电子的振荡导致显示出在金属表面上的等离子体激元共振。表面等离子体激元共振是在金属薄膜表面上的电子的共同电荷密度振荡，由表面等离子体激元共振所引起的表面等离子激元波是沿着金属与邻近于金属的介电材料之间的分界面传播的表面电磁波。作为沿着金属与介电材料之间的分界面传播的一种表面电磁波，表面等离子激元波相应于当入射到金属表面且具有特定波长的光没有被全反射并且引起表面波时所产生的波。如果包括第一金属层311、绝缘层313和第二金属层315的金属线形格子310以狭缝形式按特定周期布置，发射光的颜色根据周期而改变。
根据此示范实施方式，金属线形格子310被配置为将白光过滤成遍及可见光区域的单独的颜色。这将实现用于在特定振荡波长内的量子-等离子体激元-量子转换的纳米振荡器，其提高通过带宽(pass bandwidth)并且与其他颜色过滤法相比能够实现紧凑。而且，过滤的光已经被自然地偏振，使得能够直接地应用于LCD面板等而没有任何单独的偏振层。
因此，显示面板100能够通过一个滤色器偏振层300，取代现有的偏振膜和滤色器，来产生偏振彩色光。而且，没有透过第一基板100的光没有被吸收而是从金属线形格子310的第一金属层311反射，使得它能够被再次反射朝向显示面板1000。也就是说，总光学效率被提高使得能够省略传统的双重亮度增强膜(DBEF)。
如果光经由第一基板100的底部进入并且经由第二基板200射出，仅第一偏振分量的光进入液晶层500，第二偏振分量的光从第一基板100被反射。典型地，在显示面板1000下面发射光的背光组件(未示出)包括反射板，其将从第一基板100反射的光再次反射朝向显示面板1000。包含在金属线形格子310中的金属可以具有高反射率，使得更多光能够通过反射板被再循环并且进入第一基板100，即，更多第二偏振分量的光能够进入反射板。例如，金属线形格子310可以包括具有高反射率的金属，诸如，Al、Ag、Cu等。因此，如果高反射金属导致金属线形格子310的反射率，省略常规显示面板中使用的双重亮度增强膜(DBEF)是可能的。因此，具有降低显示面板1000的生产成本的作用，并且使得包括显示面板1000的显示装置薄且重量轻是可能的。
图6是根据示范实施方式的另一滤色器偏振层的横截面图。
如图中所示，滤色器偏振层300可以还包括形成在金属线形格子310下面的介电层320。介电层320可以由与第一基板100相似的材料制成，并且可以包含MgF2。介电层320可以以耦接到第一基板100的膜的形式提供。这里，介电层320可以取代第一基板100或者可以被省略。
图7是根据示范实施方式的又一滤色器偏振层的横截面图。
如这里所示，显示面板1000可以还包括形成在金属线形格子310上并吸收光的光吸收层330，该金属线形格子310包括在第一基板100中。如果外部光进入显示面板1000并且被再次反射，存在如下问题：显示面板1000的对比度会降低并且图片质量会由于光的该反射而恶化。为了防止这些问题，根据此示范实施方式的第一基板100包括在金属线形格子310上的光吸收层330，用于吸收不期望的外部光。
光吸收层330可以包含具有低反射率的金属，和/或可以包括或配置有碳、铬氧化物等，用于吸收光。
可替换地，光吸收层330可以不形成在第一基板100上而是在第二基板200下面。也就是说，外部光被光吸收层拦截并由此被防止进入显示面板1000。
图8A至图8E是用于解释根据示范实施方式的显示面板的制造方法的视图。
如图8A所示，通过溅射方法等依次堆叠第一金属层311、绝缘层313和第二金属层315，从而在第一基板100上形成滤色器偏振层300。
然后，如图8B所示，执行一般的构图工艺。换句话说，沉积光致抗蚀剂，通过掩模将光致抗蚀剂暴露于光，显影和蚀刻光致抗蚀剂以由此形成金属线形格子310。也就是说，第一金属层311、绝缘层313和第二金属层315不是各自地形成而是依次堆叠并且被一次构图以形成金属线形格子310。形成金属线形格子310的工艺可以通过任何公知或不被公知的构图技术来实现。
在形成金属线形格子310之后，如图8C所示，形成平坦化层100-1，用于保护并且整平金属线形格子310的表面。平坦化层100-1可以包含硅氮化物SiNx。
然后，如图8D所示，TFT 411和电连接到TFT 411的像素电极412形成在平坦化层100-1上。像素电极412可以通过溅射法沉积金属并且对其构图来形成。
图8E是用于解释第二基板200的制造方法的视图。如图所示，黑矩阵200-1形成在第二基板200上与TFT 411相应的区域中，形成外覆层200-2，用于整平黑矩阵200-1。此外，包含透明导电材料的公共电极200-3通过溅射法形成。
此后，如果图8D和图8E被耦接，然后偏振膜600附着到第二基板200的外表面，则完成了如图2所示的显示面板1000。
图9是显示根据另一示范实施方式的显示面板的层结构的视图，图10是图9的显示面板的横截面图。
如图中所示，根据此示范实施方式的显示面板1000包括形成在第一基板100的外表面上的偏振膜600和形成在第二基板200上的滤色器偏振层300。换句话说，滤色器偏振层300可以没有布置在像素层400上而是布置在形成有黑矩阵200-1的基板上。如果光经由第一基板100的底部进入，穿过偏振膜600的第二偏振分量的光穿过液晶层500，然后在穿过滤色器偏振层300时发射为具有不同颜色的第一偏振分量的光。滤色器偏振层300和偏振膜600的每个可以选择性地形成在与像素电极400相同或不同的基板上。当然，光可以经由第二基板200进入并经由第一基板100射出。
在此示范实施方式中，由于金属线形格子310形成在光经由其射出的第二基板200上，所以金属线形格子310可以包含具有低反射率的金属以抑制外部光的反射并且吸收光。金属线形格子310可以经受用于降低金属反射率的附加工艺，或者可以包括或配置有碳、铬氧化物等，用于吸收光。
同时，考虑到外部冲击，根据另一示范实施方式的金属线形格子310可以包括具有高强度的金属。例如，第二金属线形格子610可以包含MoW或类似合金，或者可以包含能够执行与金属层基本相同的功能的导电聚合物。
图11是显示根据又一示范实施方式的显示面板的层结构的视图，图12是图11的显示面板的横截面图。
如图中所示，在此示范实施方式中的显示面板1000还包括在滤色器偏振层300下面的附加偏振层700以透射第一偏振分量。附加偏振层700可以包括附加金属线形格子710，该附加金属线形格子710包含与金属线形格子310中所包含的金属基本相同的金属并且沿与金属线形格子310相同的方向布置。附加金属线形格子710沿着与金属线形格子310相同的方向布置，并由此透射第一偏振分量。穿过附加偏振层700的第一偏振分量的光在穿过滤色器偏振层300时发出红色、蓝色和绿色。
附加金属线形格子710中所包含的金属层可以包含高反射金属，例如，Al、Ag和Cu中至少一个。此外，光吸收层可以进一步提供在金属层上并且吸收外部光。
显示面板1000可以进一步包括安装有栅驱动集成芯片(IC)和数据芯片膜封装(虽然没有示出)的印刷电路板。同样，补偿膜(未示出)可以进一步提供在第一基板100和第二基板200的外部。
图13是根据示范实施方式的显示装置的示意图，图14是根据示范实施方式的显示装置的控制方块图。
如图中所示，显示装置1包括显示面板1000、背光组件2000、容纳显示面板1000和背光组件2000的容纳壳3100、3200、3300、以及视频供应器4000。
显示面板1000包括第一基板100、与第一基板100相对的第二基板200、插置在第一基板100与第二基板200之间的液晶层(未示出)以及用于驱动像素层400以显示视频信号的面板驱动器800。面板驱动器800可以包括栅驱动IC 810、数据芯片膜封装820和印刷电路板830。
第一基板100和第二基板200可以形成有像素层400、滤色器偏振层300、偏振膜600、黑矩阵200-1、公共电极200-3等等。滤色器偏振层300偏振进入第一基板100的入射光，偏振膜600偏振经由显示面板1000射出的光。
显示面板1000接收外部光并且控制穿过液晶层的光的强度，由此显示图像，该液晶层插置在第一基板100与第二基板200之间。
栅驱动IC 810集成和形成在第一基板100上，并且连接到形成在第一基板100上的每个栅线(未示出)。此外，数据芯片膜封装820可以连接到形成在第一基板100上的每个数据线(未示出)。这里，数据芯片膜封装820可以包括带自动接合(TAB)带，在其中半导体芯片通过TAB技术附着到形成在基膜上的布线图案。作为芯片膜封装的例子，可以使用带载封装(TCP)、膜上芯片(COF)等。
同时，印刷电路板830可以安装有驱动部件，用于输入栅驱动信号到栅驱动IC 931和用于输入数据驱动信号到数据芯片膜封装820。
背光组件2000可以包括用于引导光的光导板2200、用于发射光的第一和第二光源2300a和2300b、安置在光导板2200下面的反射片2400以及一个或多个光学片2100。
光导板2200用来引导光以供应到显示面板1000。光导板2200可以由透明塑料面板诸如压克力(acryl)制成，并且引导从第一和第二光源2300a和2300b发出的光以朝向形成在光导板2200上的显示面板1000行进。在光导板2200的背面上，可能有各种图案，用于改变进入光导板2200内部的光的行进方向以朝向显示面板1000。
如图所示，第一光源2300a和第二光源2300b可以包括作为点光源的发光二极管(LED)。光源不限于LED，可以包括线光源，诸如，冷阴极荧光灯(CCFL)或热荧光灯(HCFL)。第一光源2300a和第二光源2300b与供给电源的逆变器(未示出)电连接，并接收该电源。
反射片2400提供在光导板2200下面并且将在光导板2200下面发射的光朝上反射。具体地，没有被形成在光导板2200的背部上的纤细点图案反射的光被再次反射朝向光导板2200，由此降低进入显示面板1000的光损失并且提高透过光导板2200的出射表面的光的均匀性。
一个或多个光学片2100提供在光导板2200的顶部并用来散射和聚集从光导板2200透射的光。光学片2100可以进一步包括漫射片、棱镜片、保护片等。漫射片可以安置在光导板2200与棱镜片之间，漫射来自光导板2200的入射光，由此防止光被局部地集中。棱镜片可以包括规则地排列在其顶部上的三棱柱(triangular prism)，并用来沿垂直于显示面板1000的方向聚集被漫射片漫射的光。保护片可以形成在棱镜片上，以保护棱镜片的表面，并漫射光和由此均匀地分布光。
容纳壳可以包括下容纳壳3100、中间容纳壳3200和上容纳壳3300。下容纳壳3100可以容纳反射片2400、第一和第二光源2300a和2300b、光导板2200和一个或多个光学片2100。下容纳壳3100可以由具有能够抵挡外部冲击的强度且具有接地能力的金属制成。
视频供应器4000与显示面板1000连接并提供视频信号。虽然图13未示出，但是视频供应器4000可以布置在反射片2400和下容纳壳3100上，或者可以安置在下容纳壳3100的后部上。
图15是用于解释图13的显示装置的制造方法的视图。
首先，在操作S10中，包括金属线形格子310的滤色器偏振层300形成在第一基板100上，该金属线形格子310以不同节距布置，使得光的第一偏振分量射出显示装置并带有不同颜色。此时，金属线形格子310可以包括布置为使得每个节距小于红光波长的1/2的红色金属线形格子、布置为使得每个节距小于绿光波长的1/2的绿色金属线形格子、以及布置为使得每个节距小于蓝光波长的1/2的蓝色金属线形格子。当然，金属线形格子可以根据光的颜色布置或形成有不同于上述的节距。金属线形格子310可以通过依次堆叠第一金属层311、绝缘层313和第二金属层315并且对其应用溅射工艺而形成。
在金属线形格子310下面可以提供介电层320，在金属线形格子310上可以提供光吸收层330，用于抑制光的反射。
形成金属线形格子310的金属的特性，即，金属的反射率或强度可以根据金属线形格子310是形成在基板上用于入射光还是形成在基板上用于出射光而改变。
在操作S20，在滤色器偏振层300上形成包括多个子像素410的像素层400。可替换地，像素层400可以形成在与滤色器偏振层300不同的基板即第二基板200上。
在没有像素层400的第二基板上形成黑矩阵200-1、外覆层200-2和公共电极200-3。
然后，在操作S30，第一基板100和第二基板200被包封，液晶注入第一基板100与第二基板200之间。
在操作S40，偏振膜600附着到没有滤色器偏振层300的第二基板200的外表面，由此透射光的不同于第一偏振分量的第二偏振分量。完成这个工艺，完成了显示面板1000。
然后，能够将视频数据供应到子像素410和用于驱动像素层400的面板驱动器800的视频供应器4000连接到基板，并且视频供应器4000装配到包括光源2300a和2300b的背光组件2000，由此完成如图13所示的显示装置1。
如上所述，根据示范实施方式，提供了一种显示面板和包括该显示面板的显示装置，其中降低了制造成本并简化了制造工艺。
根据另一示范实施方式，提供了一种具有改善的光学效率的显示面板及包括该显示面板的显示装置。
虽然已经显示和描述了一些示范实施方式，但是将理解，本领域技术人员可以对这些示范实施方式进行改变而没有脱离发明构思的原理和精神，发明构思的范围由权利要求书及其等价物定义。

Claims (8)

1.一种显示面板，具有液晶层，所述显示面板包括：
第一基板和第二基板，彼此相对地设置；
滤色器偏振层，形成在所述第一基板和所述第二基板之一的位于所述第一基板与所述第二基板之间的表面上，并包括以不同节距布置以发射入射光的具有不同颜色的第一偏振分量的金属线形格子；和
偏振层，形成在所述第一基板和所述第二基板中另一个的外表面上。
2.如权利要求1所述的显示面板，其中所述偏振层包括透射不同于所述第一偏振分量的第二偏振分量的偏振膜。
3.如权利要求1所述的显示面板，还包括形成在所述第一基板和所述第二基板之一的所述表面上并且包括像素的像素层，该像素包括多个子像素，
其中至少三个子像素以所述金属线形格子的相应的三个不同节距来布置。
4.如权利要求1所述的显示面板，其中所述金属线形格子包括红色金属线形格子、绿色金属线形格子和蓝色金属线形格子，所述红色金属线形格子布置为使得每个节距小于红光波长的1/2，所述绿色金属线形格子布置为使得每个节距小于绿光波长的1/2，所述蓝色金属线形格子布置为使得每个节距小于蓝光波长的1/2。
5.如权利要求1所述的显示面板，其中所述金属线形格子包括依次堆叠的第一金属层、绝缘层和第二金属层。
6.如权利要求1所述的显示面板，其中所述金属线形格子的高度大于其宽度。
7.如权利要求1所述的显示面板，其中所述滤色器偏振层还包括形成在所述金属线形格子与所述第一基板和所述第二基板之一之间的介电层。
8.一种制造显示装置的方法，包括：
在第一基板的位于所述第一基板与第二基板之间的表面上形成包括金属线形格子的滤色器偏振层；
在所述滤色器偏振层上形成包括多个子像素的像素层；
包封所述第一基板和所述第二基板并在所述第一基板与所述第二基板之间的空间中注入液晶；和
在所述第二基板的与位于所述第一基板和所述第二基板之间的表面相反的表面上形成偏振膜。
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