CN102634759A

CN102634759A - 聚对二甲基苯沉积系统

Info

Publication number: CN102634759A
Application number: CN2011100350660A
Authority: CN
Inventors: 林明达
Original assignee: LA CHI ENTERPRISE CO Ltd
Current assignee: LA CHI ENTERPRISE CO Ltd
Priority date: 2011-02-09
Filing date: 2011-02-09
Publication date: 2012-08-15

Abstract

本发明的聚对二甲基苯沉积系统包括彼此依次连结的一蒸发管、一裂解管、一纯化储气槽、一沉积腔体、一冷凝机以及一真空泵，其中，裂解管与纯化储气槽彼此连结的位置具有一第一高度，纯化储气槽与沉积腔体彼此连结的位置具有一第二高度，且第一高度大于第二高度，纯化储气槽还设置有一载气导入口、一气体流量控制器、一热油循环加热装置及一泄压控制阀门，且气体流量控制器连结于载气导入口。由此，可达到方便控制气体流量并提高镀膜质量的目的。

Description

聚对二甲基苯沉积系统

技术领域

本发明涉及一种聚对二甲基苯沉积系统，尤其涉及一种可方便控制气体流量并提高镀膜质量的聚对二甲基苯沉积系统。

背景技术

高分子聚对二甲基苯沉积系统的原理是将一种二聚物置放于真空环境下，经由蒸发、高温裂解为单分子并重新键结后，将聚对二甲基苯以高分子的型态沉积于基材表面。

请参阅图1，其是现有的聚对二甲基苯沉积系统的架构图，如图所示的沉积系统9，首先是将聚对二甲基苯的粉末放入蒸发管91并启动机械式真空泵95使整个沉积系统9保持低真空状态，并开始加热到150℃以上，促使聚对二甲基苯蒸发为气态并进入裂解管92中；之后，裂解管92的温度达650℃以上，气态聚对二甲基苯进入时会被高温裂解为单分子型态的聚对二甲基苯；然后，高温的气态聚对二甲基苯会被喷射到沉积室的腔体93中，使得聚对二甲基苯开始重新键结成为高分子型态的聚对二甲基苯并附着于基材(图未示)表面上，但是此时的气态聚对二甲基苯并非已完全附着于腔体93或基材表面，所以在真空泵95前需设置一冷冻捕捉器94来捕捉残余的聚对二甲基苯并使其冷凝于冷却棒上，以避免残余的聚对二甲基苯气体沉积于真空泵95或影响泵油质量。

如上所述，传统高分子聚对二甲基苯沉积系统9因未对腔体93加热，所以腔体93温度大约在25℃左右，这使得聚对二甲基苯开始重新键结成为高分子型态的聚对二甲基苯并附着于基材表面上，此时气态聚对二甲基苯也会同时附着于腔体93，造成保养及撕取时影响制程的洁净度及维修时间。

此外，传统高分子聚对二甲基苯沉积系统9中，在高温的气态聚对二甲基苯被喷射到腔体93时，喷射的流场因无适当的导引而会呈现混乱状态，影响整个腔体93因为位置不同而造成附着于基材表面上的膜厚均匀性及粗糙度等的差异性。

再者，传统高分子聚对二甲基苯沉积系统9的沉积率及材料使用率会因为被镀物(基材)的温度而改变，换言之，当被镀物无适当的温度控制时，会影响被镀物的质量。

发明内容

本发明的聚对二甲基苯沉积系统包括彼此依次连结的一蒸发管、一裂解管、一纯化储气槽、一沉积腔体、一冷凝机以及一真空泵，其中，裂解管与纯化储气槽彼此连结的位置具有一第一高度，纯化储气槽与沉积腔体彼此连结的位置具有一第二高度，且第一高度大于第二高度，纯化储气槽还设置有一载气导入口、一气体流量控制器、一热油循环加热装置及一泄压控制阀门，且气体流量控制器连结于载气导入口。

因此，通过纯化储气槽的设计可实现储蓄功能，并可由此实时提供源源不绝的纯净与稳定的聚对二甲基苯气体以供应沉积腔体，达到连续快速大面积的镀膜需求。

此外，通过纯化储气槽及其载气导入口、气体流量控制器、热油循环加热装置与泄压控制阀门的结构设计，可达到方便控制聚对二甲基苯气体流量并提高镀膜质量的目的。换言之，载气导入口与气体流量控制器可用于管理载气流量及控制推动纯化储气槽内的聚对二甲基苯气体，从而达到控制聚对二甲基苯的气体流量以精准控制被镀物(基材)上沉积膜厚的目的；通过热油循环加热装置，可防止聚对二甲基苯的单体分子在纯化储气槽内进行沉积；通过泄压控制阀门，当压力过大时其可自动打开并将多余的聚对二甲基苯气体导入冷凝机进行捕捉及收集。

再者，裂解管与纯化储气槽彼此连结的位置所具有的第一高度大于纯化储气槽与沉积腔体彼此连结的位置所具有的第二高度，亦即相对于整体聚对二甲基苯沉积系统的安装面(例如地面)而言，裂解管与纯化储气槽彼此连结的位置(进气口)在纯化储气槽上方，纯化储气槽与沉积腔体彼此连结的位置(出气口)在纯化储气槽低于裂解管与纯化储气槽彼此连结的位置(进气口)，例如在纯化储气槽的中间以下位置，因此，在整个气化系统中所产生的沉积物或是较大的分子在经过纯化储气槽时会留置在纯化储气槽底部，如此可实现聚对二甲基苯气体的纯化功能。

上述的纯化储气槽与沉积腔体之间可连结有一控制阀门，其可实现管路断开功能，以便纯化储气槽进行维护。

上述的结构还可包括附接于沉积腔体的一冷凝器，其可产生低温现象而将设置于沉积腔体内的被镀物(基材)低温化处理，如此可增加沉积率及材料使用率，达到快速成膜及节省材料的效果。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。

图1为现有聚对二甲基苯沉积系统的架构图；

图2为本发明较佳实施例的系统架构图；

图3为本发明较佳实施例的纯化储气槽的侧视图；

其中，附图标记为：1、聚对二甲基苯沉积系统；11、蒸发管；12、裂解管；13、纯化储气槽；131、载气导入口；132、气体流量控制器；133、热油循环加热装置；134、泄压控制阀门；14、沉积腔体；15、冷凝机；16、真空泵；17、另一蒸发管；18、冷凝器；191、控制阀门；192、控制阀门；193、控制阀门；194、控制阀门；2、安装面；9、沉积系统；91、蒸发管；92、裂解管；93、腔体；94、冷冻捕捉器；95、真空泵；H、第一高度；h、第二高度。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。

请同时参阅图2及图3，其中图2为本发明较佳实施例的系统架构图，图3为本发明较佳实施例的纯化储气槽的侧视图。

于图式中显示有一聚对二甲基苯沉积系统1，且此聚对二甲基苯沉积系统1包括彼此依次连结的一蒸发管11、一裂解管12、一纯化储气槽13、一沉积腔体14、一冷凝机15以及一真空泵16。

如图3所示，裂解管12与纯化储气槽13彼此连结的位置具有一第一高度H，纯化储气槽13与沉积腔体14彼此连结的位置具有一第二高度h，且第一高度H大于第二高度h，亦即相对于整体聚对二甲基苯沉积系统1的安装面2(例如地面)而言，裂解管12与纯化储气槽13彼此连结的位置(进气口)在纯化储气槽13上方，纯化储气槽13与沉积腔体14彼此连结的位置(出气口)在纯化储气槽13低于裂解管12与纯化储气槽13彼此连结的位置(进气口)，例如在纯化储气槽13的中间以下位置。

此外，纯化储气槽13还设置有一载气导入口131、一气体流量控制器132、一热油循环加热装置133及一泄压控制阀门134，且气体流量控制器132连结于载气导入口131。

于本实施例中，上述的结构还包括附接于沉积腔体14的一冷凝器18，且蒸发管11与裂解管12之间还连结有一控制阀门191，同样地，裂解管12与纯化储气槽13之间还连结有一控制阀门192，纯化储气槽13与沉积腔体14之间还连结有一控制阀门193。

又于本实施例中，上述的聚对二甲基苯沉积系统1还具有另一蒸发管17，此另一蒸发管17连结于裂解管12，且此另一蒸发管17与裂解管12之间还连结有一控制阀门194。因此，利用前述设计，可采取并联方式及多口方式将聚对二甲基苯的材料进行气化，换言之，蒸发管11与另一蒸发管17各自具有独立的控制阀门191、194，如此可不断的装填聚对二甲基苯的材料进行气化，得到可连续的气化源。

如上所述，聚对二甲基苯沉积系统1设计有一纯化储气槽13，其可实现储蓄功能，并可由此实时提供源源不绝的纯净与稳定的聚对二甲基苯气体以供应沉积腔体14，达到连续快速大面积的镀膜需求。

此外，通过纯化储气槽13及其载气导入口131、气体流量控制器132、热油循环加热装置133与泄压控制阀门134的结构设计，可达到方便控制聚对二甲基苯气体流量并提高镀膜质量的目的。换言之，载气导入口131与气体流量控制器132可用于管理载气流量及控制推动纯化储气槽13内的聚对二甲基苯气体，从而达到控制聚对二甲基苯的气体流量以精准控制被镀物(基材)上沉积膜厚的目的；通过热油循环加热装置133，可防止聚对二甲基苯的单体分子在纯化储气槽13内进行沉积；通过泄压控制阀门134，当压力过大时其可自动打开并将多余的聚对二甲基苯气体导入冷凝机15进行捕捉及收集。

再者，裂解管12与纯化储气槽13彼此连结的位置所具有的第一高度H大于纯化储气槽13与沉积腔体14彼此连结的位置所具有的第二高度h，亦即相对于整体聚对二甲基苯沉积系统1的安装面2(例如地面)而言，裂解管12与纯化储气槽13彼此连结的位置(进气口)在纯化储气槽13上方，纯化储气槽13与沉积腔体14彼此连结的位置(出气口)在纯化储气槽13低于裂解管12与纯化储气槽13彼此连结的位置(进气口)，例如在纯化储气槽13的中间以下位置，因此，在整个气化系统中所产生的沉积物或是较大的分子在经过纯化储气槽13时会留置在纯化储气槽13底部，如此可实现聚对二甲基苯气体的纯化功能。

上述的纯化储气槽13与沉积腔体14之间连结有控制阀门193，其可实现管路断开功能，以便纯化储气槽13进行维护。

上述的结构还具有附接于沉积腔体14的冷凝器18，其可产生低温现象而将置放于沉积腔体14内的被镀物(基材)低温化处理，如此可增加沉积率及材料使用率，达到快速成膜及节省材料的效果。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims

1.一种聚对二甲基苯沉积系统，包括彼此依次连结的一蒸发管、一裂解管、一纯化储气槽、一沉积腔体、一冷凝机以及一真空泵，其中，该裂解管与该纯化储气槽彼此连结的位置具有一第一高度，该纯化储气槽与该沉积腔体彼此连结的位置具有一第二高度，且该第一高度大于该第二高度，该纯化储气槽还设置有一载气导入口、一气体流量控制器、一热油循环加热装置及一泄压控制阀门，且该气体流量控制器连结于该载气导入口。

2.根据权利要求1所述的聚对二甲基苯沉积系统，其中还包括一冷凝器，其附接于该沉积腔体。

3.根据权利要求1所述的聚对二甲基苯沉积系统，其中该蒸发管与该裂解管之间还连结有一控制阀门。

4.根据权利要求1所述的聚对二甲基苯沉积系统，其中该裂解管与该纯化储气槽之间还连结有一控制阀门。

5.根据权利要求1所述的聚对二甲基苯沉积系统，其中该纯化储气槽与该沉积腔体之间还连结有一控制阀门。

6.根据权利要求1所述的聚对二甲基苯沉积系统，其中还包括一另一蒸发管，其连结于该裂解管。

7.根据权利要求6所述的聚对二甲基苯沉积系统，其中该另一蒸发管与该裂解管之间还连结有一控制阀门。