CN102608864A - 一种制作纳米尺度大高宽比器件的方法 - Google Patents
一种制作纳米尺度大高宽比器件的方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN102608864A CN102608864A CN2012100306094A CN201210030609A CN102608864A CN 102608864 A CN102608864 A CN 102608864A CN 2012100306094 A CN2012100306094 A CN 2012100306094A CN 201210030609 A CN201210030609 A CN 201210030609A CN 102608864 A CN102608864 A CN 102608864A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- substrate
- photoresist
- polyimide
- height
- large ratio
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Abstract
本发明公开了一种制作纳米尺度大高宽比器件的方法,包括:制作掩模A;制作基底B;以及将掩模板A与基底B进行键合,形成纳米尺度大高宽比器件。本发明提供的制作纳米尺度大高宽比器件的方法,能制造出大高宽比的X射线衍射光学元器件。本发明提供的制作纳米尺度大高宽比器件的方法,制作工艺简单,成本低廉,能大批量制作,避免了二次电子束直写的复杂,避免了对准不精确问题,能更好的形成精确的大高宽比光学元器件线条。
Description
技术领域
本发明属于纳米尺度元件技术领域,尤其涉及一种制作纳米尺度大高宽比器件的方法。
背景技术
众所周知,随着纳米加工领域的不断发展,所需要的元件越来越精密,并且高宽比要求越来越大。通常情况下,在整个器件中特征图形尺寸的高宽比大于4的衍射光学元件被称作大高宽比衍射光学元件。
使用普通的制作工艺,很难制作出高宽比大于4的大高宽比的X射线衍射光栅,其原因在于表面张力的影响使得细线条的光刻胶极易倒塌,大高宽比的光刻胶,其表面张力大于光刻胶的内部应力,很容易粘黏到一块,从而限制了其工艺的进一步发展。
因此,如何克服表面张力的影响,制作出纳米尺度大高宽比器件就成为了迫切需要解决的问题。
发明内容
(一)要解决的技术问题
针对大高宽比的光刻胶容易产生倒塌、粘黏的问题,本发明的主要目的在于提供一种制作纳米尺度大高宽比器件的方法。
(二)技术方案
为达到上述目的,本发明提供了一种制作纳米尺度大高宽比器件的方法,该方法采用电子束蒸发的方法来制作纳米尺度大高宽比器件,包括:制作掩模A;制作基底B;以及将掩模板A与基底B进行键合,形成纳米尺度大高宽比器件。
上述方案中,所述制作掩模A具体包括:在硅衬底正面旋涂一层聚酰亚胺PI,从该硅衬底背面对该硅衬底进行湿法腐蚀,直至该聚酰亚胺PI,形成镂空的聚酰亚胺PI薄膜,然后在该聚酰亚胺PI薄膜上电子束蒸发一层Cr/Au作为电镀种子层,形成掩模A的基片;在掩模A的基片正面旋涂一层电子束光刻胶,对该电子束光刻胶进行电子束光刻并显影,形成由该电子束光刻胶构成的光刻胶线条图形;刻蚀掩模A基片正面光刻胶图形区域的残胶,并在硅片边缘刻蚀光刻胶,暴露出电镀种子层中的金形成电极,然后进行将硅片的图形区域置于电镀溶液中,在电极上加电压,进行电镀形成金层,至金层与光刻胶厚度齐平时,将硅片置于去胶溶液中,去除光刻胶,形成掩膜板A。
上述方案中,所述在聚酰亚胺PI上蒸发的Cr/Au层中,Cr的厚度为5nm,Au的厚度为10nm。所述在掩模板A的基片正面旋涂的电子束光刻胶为ZEP-520,厚度为300nm,所述光刻胶线条的宽度为50nm。所述掩模板A是用电子束进行直写,电镀金的厚度能挡住X射线即可,占空比大于1∶1。
上述方案中,所述制作基底B具体包括:在石英片正面蒸发一层Cr/Au,然后旋涂一层聚酰亚胺PI并烘烤,之后在聚酰亚胺PI上蒸发一层Cr/Au,然后旋涂一层光刻胶PMMA,形成基底B。
上述方案中,所述在石英片正面蒸发的Cr/Au层中,Cr的厚度为5nm,Au的厚度为10nm;所述在Cr/Au层之上旋涂的聚酰亚胺PI厚度为1μm;所述烘烤是在120℃下烘烤30分钟;在聚酰亚胺PI上蒸发的Cr/Au层中,Cr的厚度为5nm,Au的厚度为50nm~80nm;所述旋涂的光刻胶PMMA层厚度为400nm。
上述方案中,所述将掩模板A与基底B进行键合,形成纳米尺度大高宽比器件具体包括:将掩模板A倒扣于基底B上,置于卡具中压紧,使用X射线从掩模板A背面进行曝光,曝光完成后移除掩模A,将基底B置于显影溶液中进行显影,定影,吹干后形成由光刻胶PMMA形成的光刻胶线条;干法刻蚀中间的金层,然后用氧气刻蚀下层的聚酰亚胺PI直至底层的金,此时上层的光刻胶PMMA已经被刻蚀掉,形成图形;在基底B边缘区域刻蚀聚酰亚胺,露出金层,形成电极,将基底B上的图形置于电镀溶液中,进行电镀,直至金层与聚酰亚胺齐平,然后将其置于AZ5214的碱性溶液中去除聚酰亚胺,完成器件的制作。
上述方案中,所述将基底B置于显影溶液中进行显影的步骤中,使用两层光刻胶,且光刻胶之间使用金层间隔,金层在显影时起支撑的作用,防止大高宽比的光刻胶倒塌。
(三)有益效果
从上述技术方案可以看出,本发明具有以下有益效果:
1、相对于普通的光栅,本发明提供的制作纳米尺度大高宽比器件的方法,能制造出大高宽比的X射线衍射光学元器件。
2、本发明提供的制作纳米尺度大高宽比器件的方法,制作工艺简单,成本低廉,能大批量制作。
3、本发明提供的制作纳米尺度大高宽比器件的方法,避免了二次电子束直写的复杂,避免了对准不精确问题,能更好的形成精确的大高宽比光学元器件线条。
附图说明
图1为依照本发明实施例掩模A的基片示意图;
图2为依照本发明实施例电子束光刻后的图形示意图;
图3为依照本发明实施例电镀后掩模A示意图;
图4为依照本发明实施例X射线光刻基底B示意图;
图5为依照本发明实施例X射线光刻示意图;
图6为依照本发明实施例显影后示意图;
图7为依照本发明实施例刻蚀PI后的示意图;
图8为依照本发明实施例最终完成的器件的示意图。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明白,以下结合具体实施例,并参照附图,对本发明进一步详细说明。
本发明提供的制作纳米尺度大高宽比器件的方法,不形成大高宽比的光刻胶,使用薄胶形成光学图形,然后用刻蚀的方法在聚酰亚胺上形成大高宽比的图形,从而实现高线宽度要求的元器件,具体包括以下步骤:
步骤1:在清洁的硅衬底正面旋涂一层聚酰亚胺PI,从该硅衬底背面对该硅衬底进行湿法腐蚀,直至该聚酰亚胺PI,形成镂空的聚酰亚胺PI薄膜,然后在该聚酰亚胺PI薄膜上电子束蒸发一层5nmCr/10nmAu作为电镀种子层,形成掩模A的基片,如图1所示;
步骤2:在掩模A的基片正面旋涂一层电子束光刻胶ZEP-520,厚度为300nm,对该电子束光刻胶ZEP-520进行电子束光刻并显影,形成由该电子束光刻胶ZEP-520构成的光刻胶线条图形,最小线条宽度为50nm,如图2所示;在本步骤中,掩模板A需要用电子束进行直写,电镀金的厚度只要能挡住X射线就行,占空比要略大于1∶1。
步骤3:刻蚀掩模A基片正面光刻胶图形区域的残胶,并在硅片边缘刻蚀光刻胶,暴露出电镀种子层中的金形成电极,然后进行将硅片的图形区域置于电镀溶液中,在电极上加电压,进行电镀形成金层,至金层与光刻胶厚度齐平时,将硅片置于去胶溶液ZDMAC中,去除光刻胶,形成所需的掩膜板A,如图3所示。
步骤4:在清洁的石英片正面蒸发一层5nmCr/10nmAu之后旋涂一层1μm后的聚酰亚胺PI,在120℃下烘烤30分钟,之后又蒸发一层5nmCr/50nm~80nm Au,然后旋涂一层400nm的PMMA,形成基底B,如图4所示。
步骤5:将掩模板A倒扣于基底B上,置于卡具中压紧,使用X射线从掩模板A背面进行曝光,如图5所示,曝光完成后移除掩模A,将基底B置于显影溶液中进行显影,定影,吹干后形成由光刻胶PMMA形成的光刻胶线条,如图6所示;在图6所示显影中,使用两层光刻胶,且光刻胶之间使用金层间隔,金层在显影时起到了支撑的作用,防止大高宽比的光刻胶倒塌。
步骤6:干法刻蚀中间的金层,然后用氧气刻蚀下层的聚酰亚胺PI直至底层的金,此时上层的光刻胶PMMA已经被刻蚀掉,形成图形,如图7所示;
步骤7:在基底B边缘区域刻蚀聚酰亚胺,露出金层,形成电极,将基底B上的图形置于电镀溶液中,进行电镀,直至金层与聚酰亚胺齐平,然后将其置于AZ5214的碱性溶液中去除聚酰亚胺,如图8所示,完成器件的制作。
在本发明上述实施例中,使用X射线光刻复制形成所需的衍射光学元器件,并且大部分被金层挡住。使用的光刻胶都非常薄,可以制作非常精细的线条。使用光刻胶做掩模刻蚀金,形成图形,然后用金层做掩模刻蚀聚酰亚胺形成图形。聚酰亚胺的加温温度应低于120℃,从而在AZ5214的碱性溶液中能够很快的被溶解掉。
以上所述的具体实施例,对本发明的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明,所应理解的是,以上所述仅为本发明的具体实施例而已,并不用于限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内,所做的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (9)
1.一种制作纳米尺度大高宽比器件的方法,其特征在于,包括:
制作掩模A;
制作基底B;以及
将掩模板A与基底B进行键合,形成纳米尺度大高宽比器件。
2.根据权利要求1所述的制作纳米尺度大高宽比器件的方法,其特征在于,所述制作掩模A具体包括:
在硅衬底正面旋涂一层聚酰亚胺PI,从该硅衬底背面对该硅衬底进行湿法腐蚀,直至该聚酰亚胺PI,形成镂空的聚酰亚胺PI薄膜,然后在该聚酰亚胺PI薄膜上电子束蒸发一层Cr/Au作为电镀种子层,形成掩模A的基片;
在掩模A的基片正面旋涂一层电子束光刻胶,对该电子束光刻胶进行电子束光刻并显影,形成由该电子束光刻胶构成的光刻胶线条图形;
刻蚀掩模A基片正面光刻胶图形区域的残胶,并在硅片边缘刻蚀光刻胶,暴露出电镀种子层中的金形成电极,然后进行将硅片的图形区域置于电镀溶液中,在电极上加电压,进行电镀形成金层,至金层与光刻胶厚度齐平时,将硅片置于去胶溶液中,去除光刻胶,形成掩膜板A。
3.根据权利要求2所述的制作纳米尺度大高宽比器件的方法,其特征在于,所述在聚酰亚胺PI上蒸发的Cr/Au层中,Cr的厚度为5nm,Au的厚度为10nm。
4.根据权利要求2所述的制作纳米尺度大高宽比器件的方法,其特征在于,所述在掩模板A的基片正面旋涂的电子束光刻胶为ZEP-520,厚度为300nm,所述光刻胶线条的宽度为50nm。
5.根据权利要求2所述的制作纳米尺度大高宽比器件的方法,其特征在于,所述掩模板A是用电子束进行直写,电镀金的厚度能挡住X射线即可,占空比大于1∶1。
6.根据权利要求1所述的制作纳米尺度大高宽比器件的方法,其特征在于,所述制作基底B具体包括:
在石英片正面蒸发一层Cr/Au,然后旋涂一层聚酰亚胺PI并烘烤,之后在聚酰亚胺PI上蒸发一层Cr/Au,然后旋涂一层光刻胶PMMA,形成基底B。
7.根据权利要求6所述的制作纳米尺度大高宽比器件的方法,其特征在于,
所述在石英片正面蒸发的Cr/Au层中,Cr的厚度为5nm,Au的厚度为10nm;
所述在Cr/Au层之上旋涂的聚酰亚胺PI厚度为1μm;
所述烘烤是在120℃下烘烤30分钟;
在聚酰亚胺PI上蒸发的Cr/Au层中,Cr的厚度为5nm,Au的厚度为50nm~80nm;
所述旋涂的光刻胶PMMA层厚度为400nm。
8.根据权利要求1所述的制作纳米尺度大高宽比器件的方法,其特征在于,所述将掩模板A与基底B进行键合,形成纳米尺度大高宽比器件具体包括:
将掩模板A倒扣于基底B上,置于卡具中压紧,使用X射线从掩模板A背面进行曝光,曝光完成后移除掩模A,将基底B置于显影溶液中进行显影,定影,吹干后形成由光刻胶PMMA形成的光刻胶线条;
干法刻蚀中间的金层,然后用氧气刻蚀下层的聚酰亚胺PI直至底层的金,此时上层的光刻胶PMMA已经被刻蚀掉,形成图形;
在基底B边缘区域刻蚀聚酰亚胺,露出金层,形成电极,将基底B上的图形置于电镀溶液中,进行电镀,直至金层与聚酰亚胺齐平,然后将其置于AZ5214的碱性溶液中去除聚酰亚胺,完成器件的制作。
9.根据权利要求8所述的制作纳米尺度大高宽比器件的方法,其特征在于,所述将基底B置于显影溶液中进行显影的步骤中,使用两层光刻胶,且光刻胶之间使用金层间隔,金层在显影时起支撑的作用,防止大高宽比的光刻胶倒塌。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN2012100306094A CN102608864A (zh) | 2012-02-10 | 2012-02-10 | 一种制作纳米尺度大高宽比器件的方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN2012100306094A CN102608864A (zh) | 2012-02-10 | 2012-02-10 | 一种制作纳米尺度大高宽比器件的方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN102608864A true CN102608864A (zh) | 2012-07-25 |
Family
ID=46526335
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN2012100306094A Pending CN102608864A (zh) | 2012-02-10 | 2012-02-10 | 一种制作纳米尺度大高宽比器件的方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN102608864A (zh) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108877961A (zh) * | 2018-06-22 | 2018-11-23 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 一种x光宽带选能器件及其制作方法 |
CN110806496A (zh) * | 2019-10-10 | 2020-02-18 | 上海应用技术大学 | 一种全金属微惯性系统器件及其加工方法 |
CN112582333A (zh) * | 2019-09-27 | 2021-03-30 | 中芯长电半导体(江阴)有限公司 | 一种重新布线层及其制备方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1799986A (zh) * | 2004-12-30 | 2006-07-12 | 中国科学院微电子研究所 | 高高宽比深亚微米、纳米金属结构的三层制作工艺 |
CN101017214A (zh) * | 2006-02-08 | 2007-08-15 | 中国科学院微电子研究所 | 一种高分辨率自支撑全镂空透射光栅的制作方法 |
CN101452203A (zh) * | 2007-12-05 | 2009-06-10 | 中国科学院微电子研究所 | 基于双层胶工艺制作x射线曝光掩膜的方法 |
CN101520600A (zh) * | 2008-02-27 | 2009-09-02 | 中国科学院微电子研究所 | 基于x射线曝光技术制作透光纳米压印模板的方法 |
CN101566799A (zh) * | 2008-04-23 | 2009-10-28 | 中国科学院微电子研究所 | 一种制备镂空的聚酰亚胺蒸发掩模漏版的方法 |
CN102289015A (zh) * | 2011-09-21 | 2011-12-21 | 中国科学院微电子研究所 | 一种制作大高宽比x射线衍射光栅的方法 |
-
2012
- 2012-02-10 CN CN2012100306094A patent/CN102608864A/zh active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1799986A (zh) * | 2004-12-30 | 2006-07-12 | 中国科学院微电子研究所 | 高高宽比深亚微米、纳米金属结构的三层制作工艺 |
CN101017214A (zh) * | 2006-02-08 | 2007-08-15 | 中国科学院微电子研究所 | 一种高分辨率自支撑全镂空透射光栅的制作方法 |
CN101452203A (zh) * | 2007-12-05 | 2009-06-10 | 中国科学院微电子研究所 | 基于双层胶工艺制作x射线曝光掩膜的方法 |
CN101520600A (zh) * | 2008-02-27 | 2009-09-02 | 中国科学院微电子研究所 | 基于x射线曝光技术制作透光纳米压印模板的方法 |
CN101566799A (zh) * | 2008-04-23 | 2009-10-28 | 中国科学院微电子研究所 | 一种制备镂空的聚酰亚胺蒸发掩模漏版的方法 |
CN102289015A (zh) * | 2011-09-21 | 2011-12-21 | 中国科学院微电子研究所 | 一种制作大高宽比x射线衍射光栅的方法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108877961A (zh) * | 2018-06-22 | 2018-11-23 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 一种x光宽带选能器件及其制作方法 |
CN112582333A (zh) * | 2019-09-27 | 2021-03-30 | 中芯长电半导体(江阴)有限公司 | 一种重新布线层及其制备方法 |
CN110806496A (zh) * | 2019-10-10 | 2020-02-18 | 上海应用技术大学 | 一种全金属微惯性系统器件及其加工方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5359430B2 (ja) | パターン形成方法、インプリントモールド及びフォトマスク | |
CN101436528A (zh) | 制造半导体器件的方法 | |
CN102289015A (zh) | 一种制作大高宽比x射线衍射光栅的方法 | |
JP4407770B2 (ja) | パターン形成方法 | |
CN102122113A (zh) | 光刻方法 | |
CN102466967B (zh) | 一种大高宽比衍射光学元件的制作方法 | |
CN108563099A (zh) | 一种纳米压印模板制备方法 | |
CN102608864A (zh) | 一种制作纳米尺度大高宽比器件的方法 | |
CN104849783A (zh) | 基于纳米压印工艺的可见与近红外光吸收体及其加工方法 | |
TWI650619B (zh) | 光柵的製備方法 | |
JP2005070650A (ja) | レジストパターン形成方法 | |
CN102508411A (zh) | 制备x射线衍射光学元件的方法 | |
CN104698742A (zh) | 纳米pss结构制造方法 | |
JP2012023242A (ja) | パターン製造方法およびパターン形成体 | |
CN101431025B (zh) | 一种制作薄膜晶体管沟道区以及源、漏电极的新方法 | |
CN114460819B (zh) | 用于电子束曝光的对准标记及其制备方法 | |
JP2009231324A (ja) | ステンシルマスクおよびその製造方法 | |
TWI345656B (en) | Method of manufacturing master of light-guide plates | |
CN102590915A (zh) | 一种制作大高宽比x射线衍射光栅的方法 | |
KR100855851B1 (ko) | 반도체 소자 및 그 제조 방법 | |
CN102736432B (zh) | 一种对纳米尺度元件进行套刻的方法 | |
CN102466832A (zh) | 一种制作大高宽比光子筛的方法 | |
JP2005236188A (ja) | 導体パターンの製造方法 | |
JP2008227337A (ja) | 近接場露光方法 | |
JP2013251431A (ja) | ナノインプリントモールドおよびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20120725 |