CN102534536B - 一种硅片台多轴运动装置 - Google Patents

一种硅片台多轴运动装置 Download PDF

Info

Publication number
CN102534536B
CN102534536B CN201010621900.XA CN201010621900A CN102534536B CN 102534536 B CN102534536 B CN 102534536B CN 201010621900 A CN201010621900 A CN 201010621900A CN 102534536 B CN102534536 B CN 102534536B
Authority
CN
China
Prior art keywords
silicon wafer
wafer stage
wafer table
pedestal
wheeling system
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201010621900.XA
Other languages
English (en)
Other versions
CN102534536A (zh
Inventor
伍三忠
胡宝富
彭立波
谢均宇
曹远翔
刘世勇
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Beijing Scintillation Section Zhongkexin Electronic Equipment Co ltd
Original Assignee
Beijing Zhongkexin Electronic Equipment Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Beijing Zhongkexin Electronic Equipment Co Ltd filed Critical Beijing Zhongkexin Electronic Equipment Co Ltd
Priority to CN201010621900.XA priority Critical patent/CN102534536B/zh
Publication of CN102534536A publication Critical patent/CN102534536A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN102534536B publication Critical patent/CN102534536B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

本发明公开了一种硅片台多轴运动装置,主要包括:硅片台自转机构(1)、硅片台倾斜机构(2)、竖直和摆动运动机构(3)和机架(4)。所述的硅片台自转机构(1)置于硅片台倾斜机构(2)上;所述的硅片台倾斜机构(2)置于竖直和摆动运动机构(3)上;所述的竖直和摆动运动机构(3)置于机架(4)上。其特征在于,硅片台自转机构(1)可以绕硅片台中心旋转;硅片台自转机构(1)可以垂直于硅片台面转动;硅片台倾斜机构(2)可以摆动旋转和竖直运动,从而实现硅片台的多角度运动扫描。

Description

一种硅片台多轴运动装置
技术领域
本发明涉及一种硅片台多轴运动装置,特别适合于半导体工艺设备中的离子注入机,属于半导体器件制造领域。
背景技术
离子注入机是半导体工艺中离子掺杂的典型设备,离子源产生需要掺杂的离子束,离子束再经过质量分析、校正、加速,传输到处于靶室终端工艺腔体的硅片表面。
为使掺杂离子能均匀分布在整个硅片上,并且使硅片上各部位的电路元件都得到相同程度的离子注入,离子注入设备通常需要采用一定的扫描方式。扫描是离子注入工艺中极为重要的一环,其原理是利用离子束和硅片相对运动使离子均匀注入硅片,它直接影响着表面掺杂均匀分布状况。
设计合理有效的扫描方式是离子注入机靶室设计必须解决的问题。
发明内容
针对现有半导体工艺设备硅片定位的要求,本发明设计一种硅片台多轴运动装置,可以实现离子注入设备中要求的硅片多角度扫描,满足硅片离子掺杂工艺的要求。
本发明通过以下技术方案来实现:
一种硅片台多轴运动装置,主要包括:硅片台自转机构(1)、硅片台倾斜机构(2)、竖直和摆动运动机构(3)和机架(4)。
所述的硅片台自转机构(1)置于硅片台倾斜机构(2)上。
所述的硅片台倾斜机构(2)置于竖直和摆动运动机构(3)上。
所述的竖直和摆动运动机构(3)置于机架(4)上。
本发明的一种硅片台多轴运动装置,其主要特征在于:硅片台自转机构(1)可以绕硅片台中心旋转;同时硅片台自转机构(1)可以垂直于硅片台面转动;硅片台倾斜机构(2)可以摆动旋转和竖直运动,从而实现硅片台的多角度运动扫描。
本发明具有如下显著优点:
1.除机架外,其他均为运动装置,实现三个轴四个运动方向,控制器控制运动速度和运动范围等。
2.多轴多运动方式组合,实现多角度注入。
3.采用新型的直线电机驱动取代传统的伺服电机加丝杠组合使用的方式,提高了竖直扫描响应速度和运动精度,同时运动更加平稳。
4.采用运动块组合,易于安装和拆卸。
附图说明
图1是硅片台多轴运动装置机构简图。
图2是硅片运动装置组件示意图。
具体实施方式:
下面结合附图和具体实施例对本发明作进一步介绍,但不作为对本发明专利的限定。
参考图1,一种硅片台多轴运动装置,主要包括::硅片台自转机构(1)、硅片台倾斜机构(2)、竖直和摆动运动机构(3)和机架(4)。所述的硅片台自转机构(1)置于硅片台倾斜机构(2)上;所述的硅片台倾斜机构(2)置于竖直和摆动运动机构(3)上;所述的竖直和摆动运动机构(3)置于机架(4)上。其特征在于,硅片台自转机构(1)可以绕硅片台中心旋转;硅片台自转机构(1)可以垂直于硅片台面转动;硅片台倾斜机构(2)可以摆动旋转和竖直运动,从而实现硅片台的多角度运动扫描。
参考图2,硅片台自转机构包括硅片台(13);硅片台倾斜机构包括硅片台基座(14)和连接轴(5);竖直和摆动运动机构包括运动轴(11)、倾斜支撑块(12)和驱动电机模块(7);机架包括基座(6)。所述运动轴(11)联接在倾斜支撑块(12)。所述倾斜支撑块(12)与基座(6)利用气浮密封轴承连接;所述硅片台(13)安装在硅片台基座(14)上,硅片台基座(14)内安装旋转电机与编码器;所述硅片台(13)用于夹持硅片;所述硅片台基座(14)固定于连接轴(5)上;所述连接轴(5)通过轴承连接在倾斜支撑块(12)上;所述倾斜支撑块(12)内置伺服电机与带轮等驱动连接轴(5)转动;所述驱动电机模块(7)置于运动轴(11)的下方以驱动运动轴(11)做竖直和旋转运动;所述驱动电机模块(7)采用直线电机驱动运动轴(11)上下运动。
本发明的特定实施例已对本发明的内容做了详尽说明。对本领域一般技术人员而言,在不背离本发明精神的前提下对它所做的任何显而易见的改动,都构成对本发明专利的侵犯,将承担相应的法律责任。

Claims (2)

1.一种硅片台多轴运动装置,其特征在于:包括硅片台自转机构(1)、硅片台倾斜机构(2)、竖直和摆动运动机构(3)和机架(4);机架包括基座(6);所述的硅片台自转机构(1)置于硅片台倾斜机构(2)上;所述的硅片台倾斜机构(2)置于竖直和摆动运动机构(3)上;所述的竖直和摆动运动机构(3)置于机架(4)上;所述硅片台自转机构(1)包括用于夹持硅片的硅片台(13);所述硅片台(13)安装在硅片台基座(14)上;所述硅片台基座(14)内安装有旋转电机和编码器;所述硅片台基座(14)固定在连接轴(5)上;所述连接轴(5)通过轴承与倾斜支撑块(12)连接;所述倾斜支撑块(12)安装在运动轴(11)顶端;所述倾斜支撑块(12)通过气浮密封轴承与基座(6)连接;所述运动轴(11)下端安装有用于驱动所述运动轴(11)竖直和旋转运动的驱动电机模块(7);所述倾斜支撑块(12)内置伺服电机与带轮驱动连接轴(5)转动。
2.如权利要求1所述的一种硅片台多轴运动装置,其特征在于:硅片台自转机构(1)可以绕硅片台中心旋转;硅片台自转机构(1)可以垂直于硅片台面转动;硅片台倾斜机构(2)可以摆动旋转和竖直运动,从而实现硅片台的多角度运动。
CN201010621900.XA 2010-12-27 2010-12-27 一种硅片台多轴运动装置 Active CN102534536B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201010621900.XA CN102534536B (zh) 2010-12-27 2010-12-27 一种硅片台多轴运动装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201010621900.XA CN102534536B (zh) 2010-12-27 2010-12-27 一种硅片台多轴运动装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN102534536A CN102534536A (zh) 2012-07-04
CN102534536B true CN102534536B (zh) 2016-06-08

Family

ID=46342535

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201010621900.XA Active CN102534536B (zh) 2010-12-27 2010-12-27 一种硅片台多轴运动装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN102534536B (zh)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107058966B (zh) * 2016-12-12 2019-10-15 苏州求是真空电子有限公司 一种真空镀膜衬底底座
CN109244032A (zh) * 2018-10-12 2019-01-18 苏州晋宇达实业股份有限公司 一种离子注入机的硅片公转盘
CN111128665A (zh) * 2018-10-31 2020-05-08 北京中科信电子装备有限公司 一种离子注入载片装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101510505A (zh) * 2008-02-12 2009-08-19 日新离子机器株式会社 离子注入方法及设备

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3149798B2 (ja) * 1996-09-06 2001-03-26 日新電機株式会社 イオン注入装置のプラテン支持駆動機構

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101510505A (zh) * 2008-02-12 2009-08-19 日新离子机器株式会社 离子注入方法及设备

Also Published As

Publication number Publication date
CN102534536A (zh) 2012-07-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN105653999B (zh) 二维码扫描设备的性能测试装置及其使用方法
CN102534536B (zh) 一种硅片台多轴运动装置
CN1573159A (zh) 机械装置
CN1961401A (zh) 用于扫描通过离子束的工件的往复驱动系统
CN1937202A (zh) 一种硅片预对准装置
CN2847524Y (zh) 晶片顶起装置
CN210210398U (zh) 一种末端被动保持水平的摆臂机构
CN203245140U (zh) 一种芯片分选机的双摆臂系统
CN1943011A (zh) 利用弹簧和平衡重的具有往复旋转运动的晶片扫描系统
JPH0582998A (ja) 部品取付装置
CN106230201A (zh) 一种电机自动组装生产线
CN113572337A (zh) 一种晶元切割机用气浮平台
JP3221382U (ja) 回転アークセンサ
CN209657166U (zh) 可调节振动幅度装置
CN2922117Y (zh) 晶片台角度调整装置
CN208645080U (zh) 一种抛光工具修整装置及其系统
CN203622233U (zh) 喷砂机的小转盘驱动机构
CN105642172B (zh) 一种摆动式药学实验溶解装置
CN109571224B (zh) 曲面玻璃抛光机
CN105859327A (zh) 一种旋转顶升防水工作台
CN2912932Y (zh) 晶片传输机械手装置
CN209133483U (zh) 一种晶圆类产品的翻转和水平搬运装置
CN108489664A (zh) 用于自驱动转子平衡机的自动定位方法
CN108161744A (zh) 一种抛光工具修整系统及其修整方法
CN209649320U (zh) 一种注塑机自动吸料上料装置

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
TR01 Transfer of patent right
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20220507

Address after: 101111 1st floor, building 1, 6 Xingguang 2nd Street, Tongzhou District, Beijing

Patentee after: Beijing Scintillation Section Zhongkexin Electronic Equipment Co.,Ltd.

Address before: 101111 No. 6, Xingguang Second Street, Tongzhou Park optical electromechanical integration industrial base, Zhongguancun Science Park, Beijing

Patentee before: BEIJING ZHONGKEXIN ELECTRONICS EQUIPMENT Co.,Ltd.