CN102479869A - 纳米结构柔性薄膜太阳电池制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种纳米结构柔性薄膜太阳电池制备方法,包括以下制备过程:①将纳米孔膜粘贴在柔性铝箔衬底上;②在纳米孔膜中生成纳米柱:③在生成纳米柱的纳米孔膜上生成CIGS吸收层;④在CIGS吸收层上沉积顶电极层。本发明的采用n型纳米柱部分生长于纳米孔膜中,部分位于纳米孔膜的上面;p型CIGS吸收层部分生长在纳米孔膜上面的纳米柱上面和纳米柱之间,形成太阳电池的pn结的立柱结构,更加利于光生载流子传输,减少复合的几率,进而增加太阳电池光电转换效率,同时在满足太阳能电池板可卷曲的前提下,降低了电池的制造成本。
Description
技术领域
本发明属于太阳电池制造技术领域,特别是涉及一种纳米结构柔性薄膜太阳电池制备方法。
背景技术
太阳电池是将太阳能转化为电能的装置。在传统太阳能电池中,硅吸收光并产生自由电子,这些电子必须在受困于材料的缺陷或杂质前到达电路。这就要求使用极为纯净、昂贵的晶体硅来制造高效光伏装置。
经过检索发现申请号为:200910080138.6,公开号为CN1403379A,名称为:硅基纳米柱阵列异质结薄膜太阳能电池及其制备方法的发明专利,其说明书中公开了硅基纳米柱阵列异质结薄膜太阳能电池,在下接触电极与上接触电极之间依次为硅纳米柱阵列、本征非晶硅层、N型非晶硅层以及透明导电薄膜层。该结构是将下接触电极上的硅衬底腐蚀出部分纳米柱,再在纳米柱上依次沉积本征非晶硅层和N型非晶硅层形成异质结。该电池与传统太阳能电池相比,具有电池转化效率高、成本低的有点,但该电池无法折叠,难以用于一些需要弯曲的特殊的场合。
发明内容
本发明的目的是克服现有技术的不足之处,提供一种纳米结构柔性薄膜太阳电池制备方法,该方法制成的太阳电池具有光电转换效率高、制造成本低的同时,还具有电池板可卷曲等特点。
本发明薄膜太阳电池采用如下技术方案:
纳米结构柔性薄膜太阳电池制备方法,选用孔密度为108-1010nm、孔径为5-200nm的通孔柔性铝箔作为纳米孔膜,其特征在于:包括以下制备过程:
①将纳米孔膜粘贴在柔性铝箔衬底上;
②在纳米孔膜中生成纳米柱:将①中的纳米孔膜为阳极,以铂片为辅助电极,电解液为0.001-0.01M的(CH3COO)2Cd,0.01-0.1M的SC(NH2)2,0.003-0.03M的CH3COONH4的混合溶液,以氨水调节PH范围在10.5~11之间,电流密度0.5~1.5mA/cm2,将电解槽置于70~80℃的恒温水浴中,沉积15~30min,在纳米孔膜的孔中生长出CdS层作为纳米柱;或将①中的纳米孔膜为阳极,以铂片为辅助电极,电解液为0.05mol//L的Zn(NO3)2溶液,电流密度0.1~1.0mA/cm2,将电解槽置于60~70℃的恒温水浴中,沉积30~60min,在纳米孔膜的孔中生长出ZnO层作为纳米柱ZnO层作为纳米柱;
③在生成纳米柱的纳米孔膜上生成CIGS吸收层:将②中生有纳米柱的纳米孔膜置入蒸发室,温度升至250-300℃时,蒸发In、Ga和Se的时间为0.1-5小时,形成(In0.7Ga0.3)2Se3预置层;继续升温至400-450℃,蒸发Cu、Se0.1-5小时,形成的薄膜微富Cu;保温0.1-1小时后,降低蒸发室温度至250-300℃,继续蒸发In、Ga、Se的时间为0.1-5小时,生成1.5~2μ厚的CuIn0.7Ga0.3Se2薄膜作为p型CIGS吸收层;
④在CIGS吸收层上沉积顶电极层:将透明导电材料氧化铟锡ITO或铝掺杂氧化锌ZnO:Al作为顶电极层通过磁控溅射沉积在p型CIGS吸收层上,即制成纳米结构柔性薄膜太阳电池。
而且:所述①中衬底的厚度为25~50μm。
而且:所述②中生成的纳米柱厚度为50~70nm。
而且:所述③中生成的CIGS吸收层总厚度为1.5~2μm。
而且:所述④中顶电极层的厚度为300~600nm。
本发明具有的优点和积极效果:
1、本发明采用的n型纳米柱部分生长于纳米孔膜中,部分位于纳米孔膜的上面;p型CIGS吸收层部分生长在纳米孔膜上面的纳米柱之间和纳米柱上面,形成太阳电池的pn结的立柱结构,更加利于光生载流子传输,减少复合的几率,进而增加太阳电池光电转换效率,同时在满足太阳能电池板可卷曲的前提下,降低了电池的制造成本。
2、本发明采用p型层CIGS吸收层材料采用低温工艺制备,不会对纳米孔膜上面的纳米柱造成破坏,纳米材料与吸收层材料可以更好的融合,使得pn结发挥极佳的作用,进一步提高太阳电池的重量比功率。
附图说明
图1是本发明的纳米结构柔性薄膜太阳电池制备方法结构示意图;
其中,1-柔性铝箔衬底,2-纳米孔膜,3-n型纳米柱,4-p型CIGS吸收层,5-顶电极层。
具体实施方式
下面结合附图并通过具体实施例对本发明作进一步详述,以下实施例只是描述性的,不是限定性的,不能以此限定本发明的保护范围。
纳米结构柔性薄膜太阳电池制备方法,选用孔密度为108-1010nm、孔径为5-200nm的通孔柔性铝箔作为纳米孔膜。
本发明的创新点是:
①将纳米孔膜粘贴在柔性铝箔衬底上;
②在纳米孔膜中生成纳米柱:将①中的纳米孔膜为阳极,以铂片为辅助电极,电解液为0.001-0.01M的(CH3COO)2Cd,0.01-0.1M的SC(NH2)2,0.003-0.03M的CH3COONH4的混合溶液,以氨水调节PH范围在10.5~11之间,电流密度0.5~1.5mA/cm2,将电解槽置于70~80℃的恒温水浴中,沉积15~30min,在纳米孔膜的孔中生长出CdS层作为纳米柱;或将①中的纳米孔膜为阳极,以铂片为辅助电极,电解液为0.05mol//L的Zn(NO3)2溶液,电流密度0.1~1.0mA/cm2,将电解槽置于60~70℃的恒温水浴中,沉积30~60min,在纳米孔膜的孔中生长出ZnO层作为纳米柱ZnO层作为纳米柱;
③在生成纳米柱的纳米孔膜上生成CIGS吸收层:将②中生有纳米柱的纳米孔膜置入蒸发室,温度升至250-300℃时,蒸发In、Ga和Se的时间为0.1-5小时,形成(In0.7Ga0.3)2Se3预置层;继续升温至400-450℃,蒸发Cu、Se0.1-5小时,形成的薄膜微富Cu;保温0.1-1小时后,降低蒸发室温度至250-300℃,继续蒸发In、Ga、Se的时间为0.1-5小时,生成1.5~2μ厚的CuIn0.7Ga0.3Se2薄膜作为p型CIGS吸收层;
④在CIGS吸收层上沉积顶电极层:将透明导电材料氧化铟锡ITO或铝掺杂氧化锌ZnO:Al作为顶电极层通过磁控溅射沉积在p型CIGS吸收层上,即制成纳米结构柔性薄膜太阳电池。
所述①中衬底的厚度为25~50μm;所述②中生成的纳米柱厚度为50~70nm;所述③中生成的CIGS吸收层总厚度为1.5~2μm;所述④中顶电极层的厚度为300~600nm。
实施例1:参照附图1。
1.纳米孔膜的制作
在厚度为25~50μm的柔性铝箔上用丙酮除去表面油脂,用NaoH除去氧化膜,然后将其置于70℃的抛光液中,施加10V电压进行电化学抛光约5min,抛光液的组成为磷酸∶硫酸∶甘油(v/v/v)=115∶0.5∶85;采用3%(wt)H3PO4为电解液,在60V电压下进行一次阳极氧化15min,用15%(wt)磷酸和5%(wt)铬酸的混合溶液在60℃除膜至表面露出铝基体,然后进行二次氧化和除膜,条件与第一次相同;得到孔密度108-1010nm、孔径为5-200nm的通孔柔性铝箔作为纳米孔膜,将纳米孔膜粘贴在柔性铝箔衬底。
2.纳米柱的生成
以纳米孔膜为阳极,以铂片为辅助电极,电解液为0.001M的(CH3COO)2Cd,0.01M的SC(NH2)2,0.003M的CH3COONH4的混合溶液250ml,以氨水调节PH范围在10.5~11之间,电流密度0.5~1.5mA/cm2,将电解槽置于70~80℃的恒温水浴中,沉积15~30min,在纳米孔膜的孔中生长出厚度50~70nm的CdS层作为纳米柱;
3.CIGS吸收层的生成
在生长有纳米柱的纳米孔膜上制备p型CIGS吸收层:先将衬底置入蒸发室,温度升至250-300℃时,蒸发In、Ga和Se的时间为0.1-5小时,形成(In0.7Ga0.3)2Se3预置层;继续升温至400-450℃,蒸发Cu、Se0.1-5小时,形成薄膜稍微富Cu;保温0.1-1小时后,降低蒸发室温度至250-300℃,继续蒸发In、Ga、Se的时间为0.1-5小时,直至得到1.5~2μ厚的CuIn0.7Ga0.3Se2薄膜,即生成生长在纳米柱上厚度为1.5~2μm的p型CIGS吸收层。
4.厚度为300~600nm透明导电材料氧化铟锡ITO或铝掺杂氧化锌ZnO:Al作为顶电极层通过磁控溅射沉积在p型CIGS吸收层上,即制成纳米结构柔性薄膜太阳电池制备方法。
实施例2:参照附图1。
1.纳米孔膜的制作
在厚度为25~50μm的柔性铝箔上用丙酮除去表面油脂,用NaoH除去氧化膜,然后将其置于70℃的抛光液中,施加10V电压进行电化学抛光约5min,抛光液的组成为磷酸∶硫酸∶甘油(v/v/v)=115∶0.5∶85;采用3%(wt)H3PO4为电解液,在60V电压下进行一次阳极氧化15min,用15%(wt)磷酸和5%(wt)铬酸的混合溶液在60℃除膜至表面露出铝基体,然后进行二次氧化和除膜,条件与第一次相同;得到孔密度108-1010nm、孔径为5-200nm的通孔柔性铝箔作为纳米孔膜,将纳米孔膜粘贴在柔性铝箔衬底。
2.纳米柱的生成
以纳米孔膜为阳极,以铂片为辅助电极,电解液为0.05mol//L的Zn(NO3)2溶液,电流密度0.1~1.0mA/cm2,将电解槽置于60~70℃的恒温水浴中,沉积30~60min,在纳米孔膜的孔中生长出厚度50~70nm的ZnO层作为纳米柱。
3.CIGS吸收层的生成
在生长有纳米柱的纳米孔膜上制备p型CIGS吸收层:先将衬底置入蒸发室,温度升至250-300℃时,蒸发In、Ga和Se的时间为0.1-5小时,形成(In0.7Ga0.3)2Se3预置层;继续升温至400-450℃,蒸发Cu、Se0.1-5小时,形成薄膜稍微富Cu;保温0.1-1小时后,降低蒸发室温度至250-300℃,继续蒸发In、Ga、Se的时间为0.1-5小时,直至得到1.5~2μ厚的CuIn0.7Ga0.3Se2薄膜,即生成生长在纳米柱上厚度为1.5~2μm的p型CIGS吸收层。
4.厚度为300~600nm透明导电材料氧化铟锡ITO或铝掺杂氧化锌ZnO:Al作为顶电极层通过磁控溅射沉积在p型CIGS吸收层上,即制成纳米结构柔性薄膜太阳电池制备方法。
纳米结构太阳电池适用于铜铟硒族(包括铜铟硒、铜镓硒、铜铝硒、铜铟镓硒、铜铟硫)太阳电池,碲化镉太阳电池,硫化铜太阳电池或硫化镉太阳电池。
Claims (5)
1.纳米结构柔性薄膜太阳电池制备方法,选用孔密度为108-1010nm、孔径为5-200nm的通孔柔性铝箔作为纳米孔膜,其特征在于:包括以下制备过程:
①将纳米孔膜粘贴在柔性铝箔衬底上;
②在纳米孔膜中生成纳米柱:将①中的纳米孔膜为阳极,以铂片为辅助电极,电解液为0.001-0.01M的(CH3COO)2Cd,0.01-0.1M的SC(NH2)2,0.003-0.03M的CH3COONH4的混合溶液,以氨水调节PH范围在10.5~11之间,电流密度0.5~1.5mA/cm2,将电解槽置于70~80℃的恒温水浴中,沉积15~30min,在纳米孔膜的孔中生长出CdS层作为纳米柱;或将①中的纳米孔膜为阳极,以铂片为辅助电极,电解液为0.05mol//L的Zn(NO3)2溶液,电流密度0.1~1.0mA/cm2,将电解槽置于60~70℃的恒温水浴中,沉积30~60min,在纳米孔膜的孔中生长出ZnO层作为纳米柱ZnO层作为n型纳米柱;
③在生成纳米柱的纳米孔膜上生成CIGS吸收层:将②中生有纳米柱的纳米孔膜置入蒸发室,温度升至250-300℃时,蒸发In、Ga和Se的时间为0.1-5小时,形成(In07Ga03)2Se3预置层;继续升温至400-450℃,蒸发Cu、Se0.1-5小时,形成的薄膜微富Cu;保温0.1-1小时后,降低蒸发室温度至250-300℃,继续蒸发In、Ga、Se的时间为0.1-5小时,生成1.5~2μ厚的CuIn0.7Ga0.3Se2薄膜作为p型CIGS吸收层;
④在CIGS吸收层上沉积顶电极层:将透明导电材料氧化铟锡ITO或铝掺杂氧化锌ZnO:Al作为顶电极层通过磁控溅射沉积在p型CIGS吸收层上,即制成纳米结构柔性薄膜太阳电池。
2.根据权利要求1所述的纳米结构柔性薄膜太阳电池制备方法,其特征在于:所述①中衬底的厚度为25~50μm。
3.根据权利要求1所述的纳米结构柔性薄膜太阳电池制备方法,其特征在于:所述②中生成的纳米柱厚度为50~70nm。
4.根据权利要求1所述的纳米结构柔性薄膜太阳电池制备方法,其特征在于:所述③中生成的CIGS吸收层总厚度为1.5~2μm。
5.根据权利要求1所述的纳米结构柔性薄膜太阳电池制备方法,其特征在于:所述④中顶电极层的厚度为300~600nm。
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