CN102477532A - 镀膜件及其制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种镀膜件及该镀膜件的制作方法。该镀膜件包括基体及形成于基体表面的抗指纹层，该抗指纹层为一纳米级二氧化锡层，其表面形成有纳米级的乳突结构。该镀膜件的制作方法包括如下步骤：提供一基体；采用真空溅镀法在该基体的表面溅镀抗指纹层，该抗指纹层为一纳米级二氧化锡层，其表面形成有纳米级的乳突结构。

Description

镀膜件及其制作方法
技术领域
本发明涉及一种镀膜件及其制作方法，尤其涉及一种具有抗指纹功能的镀膜件及该镀膜件的制作方法。
背景技术
传统技术中，早期抗指纹化处理一般是采用在不锈钢的镀锌层上形成铬酸盐层及特殊的树脂层。该方法首先需要在不锈钢板上电镀一层锌，然后施以铬酸盐处理，最后以滚压的方式涂上一层树脂，其工艺繁锁，且需要使用铬酸盐处理，环境污染严重，成本较高。
因此，为避免污染，降低成本，人们开始研究新的抗指纹材料。目前工业上使用较多的是在基体上喷涂一层有机化学物质，如抗指纹涂料和抗指纹油等，通过加热干燥使其附着在基体上。但是这种涂层的制备工艺也较复杂，而且掺杂于抗指纹涂料和抗指纹油中的有些填料还存在游离甲醛等，不利于环保和人体健康。且，这种有机涂层耐磨性能差，使用一段时间后容易磨损，使得基体被暴露出来，防腐蚀性能大幅下降且影响美观。此外，抗指纹油的使用会使涂层表面看起来很油腻，大大降低了视觉美感。
发明内容
鉴于此，有必要提供一种环保、耐磨且易于制备的具有抗指纹功能的镀膜件。
另外，还有必要提供一种上述镀膜件的制作方法。
一种镀膜件，其包括基体及形成于基体表面的抗指纹层，该抗指纹层为一纳米级二氧化锡层，其表面形成有纳米级的乳突结构。
一种镀膜件的制作方法，其包括如下步骤：
提供一基体；
采用真空溅镀法在该基体的表面溅镀抗指纹层，该抗指纹层为一纳米级二氧化锡层，其表面形成有纳米级的乳突结构。
相较于现有技术，所述的镀膜件采用真空溅镀的方法在基体表面形成一表面具有纳米级乳突结构的二氧化锡层得以实现抗指纹的功能，方法简单易行，避免了现有技术中繁杂的工序，效率得以大大提高。同时该方法不需要使用有毒的有机物，对环境及人体健康无害。另外，由于二氧化锡与基体的结合力较强，使得该抗指纹层可牢固地附着于基体上，提高了该抗指纹层的耐磨性及使用寿命。且该以真空溅射的方式形成的抗指纹层具有更加优雅的外观。
附图说明
图1是本发明一较佳实施方式的镀膜件的剖视示意图。
主要元件符号说明
镀膜件                  10
基体                    11
抗指纹层                13
具体实施方式
请参阅图1，本发明一较佳实施方式的镀膜件10包括基体11、及形成于基体11表面的抗指纹层13。
基体11可由金属材料或非金属材料制成。该金属材料可包括不锈钢、铝、铝合金、铜、铜合金等。该非金属材料主要为塑料。所述基体11具有一粗糙面，该粗糙面直接与抗指纹层13相结合。该粗糙面的粗糙度为0.1～0.2μm。
抗指纹层13为一纳米级二氧化锡(SnO2)层，其可以真空溅镀的方法制成，如磁控溅射。抗指纹层13的厚度在2微米(μm)以下，优选为0.1～0.5μm。该抗指纹层13直接形成于基体11的粗糙面上，与所述基体11之间具有较强的结合力。该抗指纹层13为透明状。
所述的二氧化锡在抗指纹层13的表面形成众多的纳米级乳突结构(图未示)，且所述基体11的粗糙面进一步增强了该乳突结构，该众多纳米级乳突结构均匀分布。该纳米级乳突结构会形成众多的纳米量级的气孔，当水或油铺展在抗指纹层13的表面上时，气孔被水或油封住形成气封，该气封进而“拖住”水珠或油珠，使其不与抗指纹层13表面润湿，达到抗指纹效果。
本发明一较佳实施方式的制作上述镀膜件10的方法包括如下步骤：
提供一基体11，并对该基体11进行前处理。该前处理可包括以下步骤：
将基体11放入盛装有乙醇或丙酮溶液的超声波清洗器中进行超声波清洗，以除去基体11表面的杂质和油污等。
将经超声波清洗后的铝合金基体11放入一真空溅镀机(图未示)的镀膜室中，装入金属锡(Sn)靶，抽真空该镀膜室至真空度为3.0×10-3Pa，然后通入流量为300～500sccm(标准毫升每分)的工作气体氩气(纯度为99.999％)，对基体11施加-300～-500V的偏压，使镀膜室中产生高频电压，使所述氩气发生离子化产生氩气等离子体，对基体11的表面进行物理轰击约20～30min，使基体11形成粗糙度约0.1～0.2μm的粗糙面。
所述氩气等离子体轰击完成后，继续在所述镀膜室中以溅镀法在基体11的粗糙面溅镀一抗指纹层13，该抗指纹层13为一纳米级二氧化锡层。
溅镀该抗指纹层13时，使镀膜室温度在20～200℃之间(即溅镀温度为20～200℃)，调节氩气的流量为300～400sccm，调节基体11的偏压至-100～-300V，开启Sn靶的电源，然后通入氧气，于基体11的粗糙面溅镀抗指纹层13。所述氧气的流量可为15～120sccm。溅镀该抗指纹层13的时间可为5～60分钟。
经测试，所述的抗指纹层13的润湿角在95°以上，说明该抗指纹层13具有抗指纹效果。
相较于现有技术，所述的镀膜件10采用真空溅镀的方法在基体11表面形成一表面具有纳米级乳突结构的二氧化锡层得以实现抗指纹的功能，方法简单易行，避免了现有技术中繁杂的工序，效率得以大大提高。同时该方法不需要使用有毒的有机物，对环境及人体健康无害。另外，由于二氧化锡与基体11的结合力较强，使得该抗指纹层13可牢固地附着于基体11上，提高了该抗指纹层13的耐磨性及使用寿命。且该以真空溅射的方式形成的抗指纹层13具有更加优雅的外观。

Claims (10)

1.一种镀膜件，其包括一基体及形成于基体表面的抗指纹层，其特征在于：该抗指纹层为一纳米级二氧化锡层，其表面形成有纳米级的乳突结构。
2.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：所述抗指纹层的厚度在2微米以下。
3.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：所述抗指纹层的厚度为0.1～0.5微米。
4.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：所述基体与所述抗指纹层直接相结合的表面的粗糙度为0.1～0.2微米。
5.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：所述基体由金属材料或非金属材料制成。
6.一种镀膜件的制作方法，其包括如下步骤：
提供一基体；
采用真空溅镀法在该基体的表面溅镀一抗指纹层，该抗指纹层为一纳米级二氧化锡层，其表面形成有纳米级的乳突结构。
7.如权利要求6所述的镀膜件的制作方法，其特征在于：溅镀所述抗指纹层以金属锡为靶材，对基体设置-100～-300V的偏压，溅镀温度为20～200℃，以氧气为反应气体，氧气的流量为15～120sccm，以氩气为工作气体，氩气的流量为300～400sccm，溅镀时间为5～60分钟。
8.如权利要求6所述的镀膜件的制作方法，其特征在于：所述制作方法还包括在溅镀抗指纹层前对基体进行前处理的步骤。
9.如权利要求8所述的镀膜件的制作方法，其特征在于：所述前处理包括对基体进行超声波清洗及氩气等离子体轰击的步骤。
10.如权利要求9所述的镀膜件的制作方法，其特征在于：所述氩气等离子体轰击的时间为20～30min，该氩气等离子体轰击后所述基体的表面粗糙度为0.1～0.2μm。
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