CN102443776A - 聚焦反射镜的镀膜夹具 - Google Patents
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Abstract
本发明揭示了一种聚焦反射镜的镀膜夹具，包括一夹具主体，夹具主体是由四个侧面及一个底面所围成的上方呈开放空间的方形盒体，夹具主体的内腔放置有待镀膜的聚焦反射镜；所述夹具主体的相邻两个侧面相交形成四条棱边，所述各棱边远离底面的一端分别具有一端角；夹具主体的四个端角处分别设置有一修正板，各修正板均为底边为内凹圆弧的近似等腰三角形，修正板可在夹具主体的上方相对夹具主体升降运动。本发明解决了聚焦反射镜上镀膜厚度不均匀的问题。
Description
技术领域
本发明涉及镀膜领域，尤其涉及一种用于太阳能光电器件聚焦反射镜的镀膜的装夹工具。
背景技术
太阳能光电器件聚焦反射镜2的结构为一球冠状，如图1所示，四周在平面上的投影为正方形，截面为圆弧形，中间为一圆孔101。在其内球面真空镀有一层厚度均匀的高反射膜，而外球面不允许镀膜。常用的镀膜方法是蒸发和磁控溅射镀膜技术，因磁控溅射镀膜具有均匀性好，沉积速度一致性好、可控性强的特点成为最佳选择。但是由于其镀膜面为一凹球面，镀膜面每个不同的圆周与溅射靶材的距离不同，单位时间内沉积的膜层厚度不同，因此解决膜层厚度均匀性是镀膜工艺的关键点。
发明内容
本发明的目的是提出一种用于太阳能光电器件聚焦反射镜的镀膜的夹装工具，解决了膜层厚度均匀性的问题。
本发明的目的将通过以下技术方案得以实现：
一种聚焦反射镜的镀膜夹具，包括一夹具主体，所述夹具主体是由四个侧面及一个底面所围成的上方呈开放空间的方形盒体，所述夹具主体的方形盒体内腔放置有待镀膜的聚焦反射镜，所述夹具主体的方形盒体内腔与所述聚焦反射镜轮廓匹配；所述夹具主体的相邻两个侧面相交形成四条棱边，所述各棱边远离底面的一端分别具有一端角；所述各端角处的上方分别设置有一向内延伸的修正板，所述修正板所在平面与所述底面平行，所述各修正板均为底边为内凹圆弧的近似等腰三角形，所述各修正板与所述夹具主体之间分别设有一个升降机构。
优选的，上述的聚焦反射镜的镀膜夹具，其中：所述各端角上分别固定连接一向内延伸的固定板，所述固定板用于限制所述聚焦反射镜于所述夹具主体内。
优选的，上述的聚焦反射镜的镀膜夹具，其中：所述各固定板上均一体成型有一与所述固定板垂直的直角板，所述各固定板分别通过对应的直角板固定连接于所述夹具主体的四个端角的内表面或者外表面。
优选的，上述的聚焦反射镜的镀膜夹具，其中：所述聚焦反射镜的结构为球冠状，所述聚焦反射镜的横截面为圆弧形，且其四周在平面上的投影为正方形；所述聚焦反射镜的中间设有一圆孔。
优选的，上述的聚焦反射镜的镀膜夹具，其中：所述聚焦反射镜的球冠状凹球面的深度为3cm～10cm，其对角距离为20cm～50cm，球面半径20cm～60cm；所述磁控溅射靶的靶基距为15cm～35cm；所述各修正板近似于一个底边为内凹圆弧的等腰三角形，所述圆弧的直径为6cm～26cm，等腰边的腰长为5cm～15cm，顶角为10°～60°，所述圆弧的端点和所述等腰边的相应端点之间的距离为0cm～10cm。
优选的，上述的聚焦反射镜的镀膜夹具，其中：所述升降机构包括一调节板，所述各修正板的近似等腰三角形的顶角分别与所述调节板连接，所述调节板的中间为铣空，所述铣空的纵向距离为修正板的升降距离；一紧固组件穿过所述铣空将所述调节板固定在所述夹具主体上。
优选的，上述的聚焦反射镜的镀膜夹具，其中：所述紧固组件为螺栓和螺母，所述夹具主体的侧面靠近端角处开设有通孔，所述螺栓穿过所述调节板的铣空和通孔，通过对应的螺母将所述调节板固定于所述夹具主体上。
优选的，上述的聚焦反射镜的镀膜夹具，其中：所述夹具主体置于多边形的真空腔内，所述真空腔的侧面上设有至少一个的平面矩形磁控溅射靶。
本发明利用磁控溅射镀膜技术，在夹具主体的四个端角设置修正板，来修正由于工件表面距离溅镀靶材距离不同而导致的膜层厚度不均的技术问题，本发明结构简单、紧凑，可以在聚焦反射镜上镀出符合镀膜工艺要求的、膜厚度均匀的高反射膜。
以下便结合实施例附图，对本发明的具体实施方式作进一步的详述，以使本发明技术方案更易于理解、掌握。
附图说明
图1是聚焦反射镜的结构示意图；
图2是本发明实施例1的结构立体图；
图3是本发明实施例1的俯视图；
图4是本发明实施例1的U-U面的剖视图；
图5a是本发明实施例1的修正板的俯视图；
图5b是本发明实施例1的局部侧视图；
图5c是本发明实施例1的局部结构示意图。
具体实施方式
实施例1
本实施例的一种聚焦反射镜的镀膜夹具，如图1～图4所示，包括一夹具主体1，夹具主体1是由四个侧面11及一个底面12所围成的上方呈开放空间的方形盒体，夹具主体1的内腔放置有待镀膜的聚焦反射镜2，聚焦反射镜2的结构为球冠状，如图1所示，聚焦反射镜2的横截面为圆弧形，且其四周在平面上的投影为正方形，聚焦反射镜2的中间设有一圆孔101；夹具主体1的内腔与聚焦反射镜2轮廓匹配，以刚好将聚焦反射镜2装入为准；夹具主体1的相邻两个侧面11相交形成四条棱边，各棱边远离底面12的一端分别具有端角13，四个端角13上分别固定连接一向内延伸的固定板3，固定板3用于限制聚焦反射镜2于夹具主体1内；各固定板3上均一体成型有与固定板3垂直的直角板4，各固定板3分别通过对应的直角板4固定连接于夹具主体1的四个端角13的外表面。夹具主体1的四个端角13处分别设置有一向内延伸的修正板5，如图5a～图5b所示，各修正板5所在平面与底面12平行，均为底边为内凹圆弧的近似等腰三角形，修正板5可在夹具主体1的上方相对夹具主体1升降运动。夹具主体1置于多边形的真空腔内，真空腔的侧面上设有至少一个的平面矩形磁控溅射靶。聚焦反射镜2的球冠状凹球面的深度为3cm～10cm，其对角距离为20cm～50cm，球面半径20cm～60cm；磁控溅射靶的靶基距为15cm～35cm；各修正板5近似于一个底边为内凹圆弧的等腰三角形，圆弧的直径为6cm～26cm，等腰边的腰长为5cm～15cm，顶角为10°～60°，圆弧的端点和等腰边的相应端点之间的距离为0cm～10cm。各修正板5的近似等腰三角形的顶角分别与一调节板6连接，调节板6的中间为铣空61，铣空61的纵向距离为修正板5的升降距离；一紧固组件7为螺栓和螺母，夹具主体1的侧面11靠近端角13处开设有通孔，螺栓穿过调节板的铣空61和通孔，通过对应的螺母将调节板6固定于夹具主体1上。
本实施例利用磁控溅射镀膜技术，在夹具主体1的四个端角13设置修正板5，来修正由于聚焦反射镜2表面距离溅镀靶材距离不同而导致的膜层厚度不均的技术问题。由于离磁控溅射靶近的圆周面接收膜材多，需要将多的膜材挡掉。修正板5和聚焦反射镜2距离越近，挡的越多，所以修正板5越靠近聚焦反射镜2边缘其对应部位面积越小，越靠近聚焦反射镜2中心其对应部位面积越大，这就是修正板5的结构和工作特点。其能将膜料按照聚焦反射镜2凹球面的特殊结构挡掉，达到凹球面各处膜层厚度一致，从而实现表面颜色一致。聚焦反射镜上镀出的高反射膜平均反射率高达99％。本实施例结构简单、紧凑，可以在聚焦反射镜上镀出符合镀膜工艺要求的、膜厚度均匀的高反射膜。
本发明尚有多种实施方式，凡采用等同变换或者等效变换而形成的所有技术方案，均落在本发明的保护范围之内。
Claims (8)
1.一种聚焦反射镜的镀膜夹具，其特征在于：
包括一夹具主体，所述夹具主体是由四个侧面及一个底面所围成的上方呈开放空间的方形盒体，所述夹具主体的方形盒体内腔放置有待镀膜的聚焦反射镜，所述夹具主体的方形盒体内腔与所述聚焦反射镜轮廓匹配；
所述夹具主体的相邻两个侧面相交形成四条棱边，所述各棱边远离底面的一端分别具有一端角；
所述各端角处的上方分别设置有一向内延伸的修正板，所述修正板所在平面与所述底面平行，所述各修正板均为底边为内凹圆弧的近似等腰三角形，所述各修正板与所述夹具主体之间分别设有一个升降机构。
2.根据权利要求1所述的聚焦反射镜的镀膜夹具，其特征在于：所述各端角上分别固定连接一向内延伸的固定板，所述固定板用于限制所述聚焦反射镜于所述夹具主体内。
3.根据权利要求2所述的聚焦反射镜的镀膜夹具，其特征在于：所述各固定板上均一体成型有一与所述固定板垂直的直角板，所述各固定板分别通过对应的直角板固定连接于所述夹具主体的四个端角的内表面或者外表面。
4.根据权利要求1所述的聚焦反射镜的镀膜夹具，其特征在于：所述聚焦反射镜的结构为球冠状，所述聚焦反射镜的横截面为圆弧形，且其四周在平面上的投影为正方形；所述聚焦反射镜的中间设有一圆孔。
5.根据权利要求3所述的聚焦反射镜的镀膜夹具，其特征在于：所述聚焦反射镜的球冠状凹球面的深度为3cm～10cm，其对角距离为20cm～50cm，球面半径20cm～60cm；所述磁控溅射靶的靶基距为15cm～35cm；所述各修正板近似于一个底边为内凹圆弧的等腰三角形，所述圆弧的直径为6cm～26cm，等腰边的腰长为5cm～15cm，顶角为10°～60°，所述圆弧的端点和所述等腰边的相应端点之间的距离为0cm～10cm。
6.根据权利要求1所述的聚焦反射镜的镀膜夹具，其特征在于：所述升降机构包括一调节板，所述各修正板的近似等腰三角形的顶角分别与所述调节板连接，所述调节板的中间为铣空，所述铣空的纵向距离为修正板的升降距离；一紧固组件穿过所述铣空将所述调节板固定在所述夹具主体上。
7.根据权利要求5所述的聚焦反射镜的镀膜夹具，其特征在于：所述紧固组件为螺栓和螺母，所述夹具主体的侧面靠近端角处开设有通孔，所述螺栓穿过所述调节板的铣空和通孔，通过对应的螺母将所述调节板固定于所述夹具主体上。
8.根据权利要求1所述的聚焦反射镜的镀膜夹具，其特征在于：所述夹具主体置于多边形的真空腔内，所述真空腔的侧面上设有至少一个的平面矩形磁控溅射靶。
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