CN102433533B

CN102433533B - 一种制备高分子功能薄膜的真空喷射镀膜机

Info

Publication number: CN102433533B
Application number: CN 201110441968
Authority: CN
Inventors: 李建昌; 宫兴; 简晓慧; 巴德纯
Original assignee: Northeastern University China
Current assignee: Northeastern University China
Priority date: 2011-12-26
Filing date: 2011-12-26
Publication date: 2013-08-28
Anticipated expiration: 2031-12-26
Also published as: CN102433533A

Abstract

一种制备高分子功能薄膜的真空喷射镀膜机，包括电控系统、喷射系统和系统支架，系统支架下部固定安装有抽气系统，抽气系统通过预抽管道和高真空管道连接一个带有观察窗和盲法兰的真空喷射室，真空喷射室内设置有可往复移动的移动基片加热转台，将溶液喷射到基片上实现喷射镀膜的喷射系统设置在真空喷射室侧部，喷射系统的喷嘴伸入真空喷射室内并对准固定在移动基片加热转台上的基片，电控系统通过导线与测量装置、基片加热转台相连。该镀膜机生产效率高，能实现高质量高分子功能薄膜的制备且成本低，可用于开发纳米级单层及多层功能薄膜、梯度薄膜、半导体薄膜、导电薄膜等。

Description

一种制备高分子功能薄膜的真空喷射镀膜机

技术领域

本发明涉及光电器件特别是聚合物光电器件功能薄膜的制备设备，具体涉及一种制备高分子功能薄膜的真空喷射镀膜机。

背景技术

近年来，有机光电器件特别是聚合物光电器件的应用和研究已十分广泛，如聚合物太阳能电池、电致发光器件、薄膜晶体管、光开关、光导纤维等，这些器件因应用性能优越的聚合物而受到人们的广泛关注。与无机材料或有机小分子材料相比，聚合物材料具有质量轻、柔韧性好、易于加工、成本低、成膜面积大、能调整半导体能隙等诸多优点。光电器件要求将聚合物制备成薄膜，常用的制备聚合物薄膜的方法有浸涂法、旋涂法、丝网印刷法、喷墨打印法和刮片法，这些方法需要将聚合物材料制成高浓度溶液，一般溶液中聚合物的质量分数要大于1%，而聚合物种类繁多，找到合适的溶解溶剂很困难，为了达到所需的溶液浓度，常常需加入一些有害溶剂，如苯、甲苯、己烷等，不利于其制备和使用。为了克服上述方法的缺点，研究人员又提出了喷雾法，该方法能够用浓度非常低的溶液制备出面积大而平整的薄膜，扩大了聚合物材料的选择范围，但与上述方法一样，喷雾法在制备聚合物薄膜时暴露在大气中，尘埃、空气不可避免地会残留在薄膜里，从而降低光电器件的性能。

发明内容

针对现有功能薄膜制备设备的不足，本发明提供一种结构合理、生产效率高、可用于开发纳米级单层及多层功能薄膜、梯度薄膜、半导体薄膜、导电薄膜等的真空喷射镀膜机，以满足光电器件特别是聚合物光电器件功能薄膜的制备。

为实现上述目的，本发明提供的技术方案为：一种制备高分子功能薄膜的真空喷射镀膜机，包括电控系统、喷射系统和系统支架，系统支架下部固定安装有抽气系统，抽气系统通过预抽管道和高真空管道连接一个带有观察窗和盲法兰的真空喷射室，真空喷射室内设置有可往复移动的移动基片加热转台，将溶液喷射到基片上实现喷射镀膜的喷射系统设置在真空喷射室侧部，喷射系统的喷嘴伸入真空喷射室内并对准固定在移动基片加热转台上的基片，电控系统通过导线与测量装置、基片加热转台相连。

所述真空喷射室包括圆筒形的真空室和真空室两端封装的LF法兰组件，真空室前侧设有第一CF超高真空观察窗，真空室上方安装有复合式真空规、膜厚测量装置预留法兰、备用CF超高真空盲法兰、灯丝组件、激光测量装置预留法兰，膜厚测量装置预留法兰和激光测量装置预留法兰分别连接膜厚测量装置和激光测量装置，用于镀膜过程中监测镀膜的厚度、喷射束的喷射角度和雾滴直径，真空室后侧设有烘烤用电极引线、CF超高真空盲法兰和第二CF超高真空观察窗，真空室下方安装有两个连接抽气系统的法兰；右LF法兰上方焊接有第三CF超高真空观察窗，中部连接有喷射系统安装法兰和第二超高真空转动引入件，下部安装有第二CF超高真空电极和超高真空放气阀；左LF法兰上方安装有第一CF超高真空电极和备用CF超高真空电极，中部左右对称安装有两个铠装热电偶和把手，铠装热电偶用来测量真空室温度，下部安装有第一超高真空转动引入件，第一超高真空转动引入件两端分别连接真空室外的手动摇杆和真空室内的一根丝杠，丝杠上配合设置有丝母，丝母安装在移动支架下方，丝杠上方设有一个转台支撑架，转台支撑架左端焊接在真空室左LF法兰内侧，转台支撑架上方丝杠对应位置的两侧对称设置有两根光杠，每根光杠上安装有一个直线轴承，移动基片加热转台的移动支架固定安装在直线轴承上，转台支撑架下方套装在丝杠两端的光杆部分，转台支撑架下方对称安装有两个定向轮和两个万向轮，真空室门为抽拉式，左LF法兰下端左右对称安装有两个定向轮，拉动把手时，可将样品一并拉出。

所述喷射系统包括烧杯、喷射溶液、变截面流量计、角形隔膜阀、喷嘴、VCR管件和喷嘴挡板，烧杯设置在系统支架上，烧杯内的溶液由VCR管件引出，VCR管件引出端依次连接变截面流量计、角形隔膜阀、喷嘴，喷嘴对准基片；右LF法兰中部安装有可旋转的喷嘴挡板，喷嘴挡板平行于右LF法兰，在喷嘴喷射不稳定时或者停止喷射时，喷嘴挡板挡住喷嘴防止溶液喷射到基片上。由于真空室内为真空环境，而溶液表面为大气压，所以在压差作用下溶液被吸入到VCR管件中。

所述移动基片加热转台包括真空步进电机、移动支架、旋转台、辐板、基片加热器、隔热板、基片固定架和基片挡板，移动支架左端设有一个第一真空步进电机，电机动力输出轴与旋转台连接，第一真空步进电机带动旋转台旋转实现基片的公转，旋转台内部设置有第二真空步进电机，第二真空步进电机连接一级齿轮传动副，齿轮传动副的输出轴中部通过轴承固定在辐板上，以支撑齿轮传动副的小齿轮轴，输出轴末端安装有基片加热器和正方形的基片固定架，第二真空步进电机、第三真空步进电机及基片加热器通过导线与安装在旋转台左端的电刷连接，电刷通过导线与左LF法兰上的第一CF超高真空电极连接，基片加热器靠近齿轮轴的一侧设有隔热板。

所述辐板中部固定安装有第三真空步进电机，电机输出轴轴端固定有基片挡板，基片挡板上开有一个圆孔，通过电机带动基片挡板转动使圆孔转至对应的基片位置即可对该基片进行镀膜，而另外的基片固定架被基片挡板挡住，因此镀膜时不会污染其它基片。

所述抽气系统采用复合分子泵作为主泵，机械泵作为前级泵和预抽泵，真空室下方的其中一个法兰连接预抽管道，预抽管道中设有第一插板阀，另一个法兰连接高真空管道，高真空管道中依次设有第二插板阀、共轴吸附阱、复合分子泵以及第一高真空手动挡板阀，预抽管道和高真空管道汇合在一起后依次连接分子筛吸附阱、第二高真空手动挡板阀以及机械泵。

本发明的有益效果是：

1）真空喷雾法兼具普通喷雾法和物理气相沉积的优点，在制备聚合物薄膜过程中，雾化后的液滴中溶剂在真空中可更快蒸发，所用溶液的浓度非常低，这使难溶聚合物的使用成为可能；

2）真空环境大大降低了镀膜过程的污染程度，可制备高质量的聚合物薄膜；

3）真空喷雾法可用于制备聚合物梯度膜或多层膜，较传统的旋涂法、气相输运法等可提高工作效率，减少制备成本。

附图说明

图1是本发明实施例的系统整体结构示意图；

图2是本发明实施例的真空喷射室结构示意图；

图3是图2的左视图；

图4是左LF法兰结构示意图；

图5是图4的左视图；

图6是图4的俯视图；

图7是右LF法兰结构示意图；

图8是本发明实施例的喷射系统结构示意图；

图9是本发明实施例的移动基片加热转台结构示意图；

图10是本发明实施例的基片固定架安装示意图；

图11是本发明实施例的抽气系统原理图；

图中：1真空喷射室，1-1真空室，1-1-1复合式真空规，1-1-2膜厚测量装置预留法兰，1-1-3备用CF超高真空盲法兰，1-1-4灯丝组件，1-1-5激光测量装置预留法兰，1-1-6第一CF超高真空观察窗，1-1-7小径法兰，1-1-8大径法兰，1-1-9烘烤用电极引线，1-1-10CF超高真空盲法兰，1-1-11第二CF超高真空观察窗，1-2左LF法兰，1-2-1第一CF超高真空电极，1-2-2备用CF超高真空电极，1-2-3左右铠装热电偶，1-2-4第一超高真空转动引入件，1-2-4-1手动摇杆，1-2-4-2丝杠，1-2-5转台支撑架，1-2-5-1光杠，1-2-5-2直线型轴承，1-2-6-1第一定向轮，1-2-6-2第二定向轮，1-2-6-3万向轮，1-3右LF法兰，1-3-1第三CF超高真空观察窗，1-3-2第二超高真空转动引入件，1-3-3法兰，1-3-4第二CF超高真空电极，1-3-5超高真空放气阀；

2喷射系统，2-1烧杯，2-2变截面流量计，2-3角形隔膜阀，2-4喷嘴，2-5VCR管件，2-6喷嘴挡板；

3移动基片加热转台，3-1第一真空步进电机，3-2移动支架，3-2-1丝母，3-3旋转台，3-3-1电刷，3-4第二真空步进电机，3-4-1主动齿轮，3-4-2从动齿轮，3-5辐板，3-6基片加热器，3-7隔热板，3-8基片固定架，3-8-1簧片，3-9第三真空步进电机，3-10基片挡板；

4抽气系统，4-1复合分子泵，4-2机械泵，4-3第一插板阀，4-4第二插板阀，4-5共轴吸附阱，4-6第一高真空手动挡板阀，4-7分子筛吸附阱，4-8第二高真空手动挡板阀；

5系统支架。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明进一步说明：

如图1所示，本发明的制备高分子功能薄膜的真空喷射镀膜机，包括电控系统、喷射系统2和系统支架5，系统支架5下部固定安装有抽气系统，抽气系统4通过预抽管道和高真空管道连接一个带有观察窗和盲法兰的真空喷射室1，真空喷射室1内设置有可往复移动的移动基片加热转台3，将溶液喷射到基片上实现喷射镀膜的喷射系统2设置在真空喷射室1侧部，喷射系统2的喷嘴2-4伸入真空喷射室1内并对准固定在移动基片加热转台3上的基片。

如图2、图3所示，所述真空喷射室1包括圆筒形的真空室1-1和真空室两端封装的左LF法兰1-2、右LF法兰1-3，真空室1-1由不锈钢钢板巻制、氩弧焊焊接而成，真空室1-1上方安装有复合式真空规1-1-1、膜厚测量装置预留法兰1-1-2、备用CF超高真空盲法兰1-1-3、灯丝组件1-1-4、激光测量装置预留法兰1-1-5，膜厚测量装置预留法兰1-1-2和激光测量装置预留法兰1-1-5分别连接膜厚测量装置和激光测量装置，用于镀膜过程中监测镀膜的厚度、喷射束的喷射角度和雾滴直径，真空室1-1前侧设有第一CF超高真空观察窗1-1-6，真空室1-1下方焊接有连接抽气系统的小径法兰1-1-7和大径法兰1-1-8，真空室1-1后侧设有烘烤用电极引线1-1-9、CF超高真空盲法兰1-1-10和第二CF超高真空观察窗1-1-11；如图4、图5、图6所示，左LF法兰1-2上方安装有第一CF超高真空电极1-2-1和备用CF超高真空电极1-2-2，中部左右对称安装有两个铠装热电偶1-2-3并焊接有把手，铠装热电偶1-2-3用来测量真空室1-1温度，下部安装有第一超高真空转动引入件1-2-4，第一超高真空转动引入件1-2-4两端分别连接真空室1-1外的手动摇杆1-2-4-1和真空室1-1内的一根丝杠1-2-4-2，手动摇杆1-2-4-1通过联轴器连接丝杠1-2-4-2，丝杠1-2-4-2上配合设置有丝母3-2-1，丝母3-2-1安装在移动支架3-2下方，丝杠1-2-4-2上方设有一个转台支撑架1-2-5，转台支撑架1-2-5焊接在左CF法兰1-2内侧，转台支撑架1-2-5上方对称焊接有四个立柱，立柱上有圆孔，两根光杠1-2-5-1分别穿入立柱的圆孔中且两端设有细槽，槽上安装有卡簧，通过卡簧对光杠1-2-5-1限位；每根光杠1-2-5-1上安装有一个直线轴承1-2-5-2，移动基片加热转台3的移动支架3-2固定安装在直线轴承上1-2-5-2，转台支撑架1-2-5下方通过深沟球轴承套装在丝杠1-2-4-2两端的光杆部分，保证丝杠1-2-4-2的转动，转台支撑架1-2-5下方靠近左LF法兰1-2一侧对称安装有两个第二定向轮1-2-6-2和两个万向轮1-2-6-3，真空室内部下侧水平焊接一平板，两个第二定向轮1-2-6-1和两个万向轮1-2-6-2可在平板上滚动，真空喷射室1门为抽拉式，左LF法兰1-2下端左右对称安装有两个第一定向轮1-2-6-1，拉动把手时，可将样品一并拉出；如图7所示，右LF法兰1-3上方焊接有第三CF超高真空观察窗1-3-1，中部连接有第二超高真空转动引入件1-3-2、喷射系统安装法兰1-3-3，下部安装有第二CF超高真空电极1-3-4和超高真空放气阀1-3-5。

如图8所示，所述喷射系统2包括烧杯2-1、喷射溶液、变截面流量计2-2、角形隔膜阀2-3、喷嘴2-4、VCR管件2-5和喷嘴挡板2-6，烧杯2-1设置在系统支架上，烧杯2-1内的溶液由VCR管件2-5引出，VCR管件2-5引出端依次连接变截面流量计2-2、角形隔膜阀2-3、喷嘴2-4，喷嘴2-4对准基片；右LF法兰1-3中部安装有可旋转的喷嘴挡板2-6，喷嘴挡板2-6通过两个螺栓固定在第二超高真空转动引入件1-3-2的前端并平行于右LF法兰1-3，在喷嘴2-4喷射不稳定时或者停止喷射时，喷嘴挡板2-6挡住喷嘴2-4防止溶液喷射到基片上，由于真空喷射室1内为真空环境，而溶液表面为大气压，所以在压差作用下溶液被吸入到VCR管件2-5中；右LF法兰1-3上共均匀布置有三个喷嘴2-4，所述喷嘴2-4采用专利号为201020661111.4的实用新型专利提供的喷嘴。

如图9、图10所示，所述移动基片加热转台3包括第一真空步进电机3-1、移动支架3-2、旋转台3-3、第二真空步进电机3-4，辐板3-5、基片加热器3-6、隔热板3-7、基片固定架3-8、第三真空步进电机3-9和基片挡板3-10，移动支架3-2下端中部通过螺栓与丝母3-2-1固定，可在丝杠1-2-4-2的带动下往复移动，移动支架3-2下端两侧分别通过螺栓与转台支撑架1-2-5上的直线轴承1-2-5-2相连，移动支架3-2左端通过螺栓固定有第一真空步进电机3-1，电机3-1动力输出轴通过联轴器与旋转台3-3连接，旋转台3-3左端通过两个轴承套装在移动支架3-2上的圆筒内，第一真空步进电机3-1带动旋转台3-3旋转实现基片的公转，旋转台3-3内部设置有第二真空步进电机3-4，电机3-4输出轴连接一个一级齿轮传动副，齿轮副的主动齿轮3-4-1周围均匀布置三个小从动齿轮3-4-2，从动齿轮轴中部通过轴承固定在辐板3-5上，辐板3-5用于支撑从动齿轮轴，从动齿轮轴的末端固定安装一盒状壳，壳内部安装有基片加热器3-6，壳外壁安装有正方形的基片固定架3-8，从动齿轮轴为空心轴，基片加热器3-6的导线经过小齿轮轴内部与安装在旋转台3-3左端的电刷3-3-1连接，电刷3-3-1给第二真空步进电机3-4、第三真空步进电机3-9、基片加热器3-6供电，基片加热器3-6右侧的壳外壁通过三个与壳相连的簧片3-8-1固定正方形基片固定架3-8的三边，基片固定架3-8的第四边有一个与基片固定架3-8取用装置配合的钩状结构，方便取下基片固定架3-8，基片加热器3-6靠近齿轮轴的一侧设有隔热板3-7。

所述辐板3-7中部固定安装有第三真空步进电机3-9，电机3-9输出轴轴端固定有基片挡板3-10，基片挡板3-10上开有一个圆孔，通过电机3-9带动基片挡板3-10转动使圆孔转至对应的基片位置即可对该基片进行镀膜，而另外的基片固定架3-8被基片挡板3-10挡住，因此镀膜时不会污染其它基片。辐板3-5上共均匀布置有三个基片固定架3-8。

如图1、图11所示，所述抽气系统4中采用复合分子泵4-1作为主泵，机械泵4-2作为前级泵和预抽泵，真空室1-1下方的小径法兰1-1-7连接预抽管道，预抽管道中设有第一插板阀4-3，大径法兰1-1-8连接高真空管道，高真空管道中依次设有第二插板阀4-4、共轴吸附阱4-5、第一高真空手动挡板阀4-6以及复合分子泵4-1，第一插板阀4-3出口端B1连接第一高真空手动挡板阀4-6出口端B2，预抽管道和高真空管道汇合在一起后依次连接分子筛吸附阱4-7、第二高真空手动挡板阀4-8以及机械泵4-2，机械泵4-2入口端A1连接第二高真空手动挡板阀4-8出口端A2。

本发明镀膜机的具体工作过程为：

在大气状态下第一次抽真空时，首先打开第二高真空手动挡板阀4-8、第一插板阀4-3，启动机械泵4-2；然后打开复合分子泵4-1出口处的第一高真空手动挡板阀4-6，打开复合式真空规1-1-1，当复合式真空规1-1-1指针指示低于复合分子泵4-1出口允许的最大排气压力时，打开第二插板阀4-4，打开复合分子泵4-1启动按钮，关闭第一插板阀4-3；当复合式真空规1-1-1低真空计已指示偏满时，打开高真空计，测量高真空，复合分子泵4-1连续抽气；真空喷射室1经连续烘烤后，真空度达到极限真空度。

（1）放入样品：达到极限真空度后，依次关闭第二插板阀4-4、复合分子泵4-1、第一高真空手动挡板阀4-6、第二高真空手动挡板阀4-8，机械泵4-2和高真空计，打开超高真空放气阀1-3-5，向真空喷射室1内充入干燥氮气。待真空喷射室1内氮气压力与大气压力平衡后打开真空喷射室1的门即左LF法兰1-2。将清洗好的样品固定在基片固定架3-8的适当位置。然后再将真空喷射室1门锁紧，此时打开第二高真空手动挡板阀4-8、第一插板阀4-3，启动机械泵4-2；然后打开复合分子泵4-1出口处的第一高真空手动挡板阀4-6，打开复合式真空规1-1-1，当复合式真空规1-1-1指针指示低于复合分子泵4-1出口允许的最大排气压力时，打开第二插板阀4-4，打开复合分子泵4-1启动按钮，关闭第一插板阀4-3，复合分子泵4-1连续抽气。

（2) 试喷射：用复合式真空规1-1-1监测真空度，待本底真空达到实验所预期的要求后，稍关闭第二插板阀4-4，不关死，摇动手动摇杆1-2-4-1将基片固定架3-8调至制膜位置，用计算机控制第一真空步进电机3-1使基片和喷嘴2-4对齐，控制第三真空步进电机3-9使基片挡板3-10的圆孔旋转到所需镀膜的基片位置，旋转喷嘴挡板2-6至能够挡住喷嘴2-4，打开喷射系统2的角形隔膜阀2-3，并调节该阀门至喷射状态稳定，然后将喷嘴挡板2-6旋回原位置，开始制备薄膜。通过适当调节第二插板阀4-4关闭的大小来调节喷射工作压强。

(3) 半控制制膜：通过计算机控制第二真空步进电机3-4按要求速度带动样品自转，使基片镀膜更加均匀。镀膜过程中可用激光照射雾化区域，通过高速摄像机接受散射图像，并将信息传输给计算机，采集雾化信息。

(4) 停止喷射制膜：镀膜完成后，迅速用喷嘴挡板2-6挡住喷嘴2-4喷射区域，然后手动关闭喷射系统角形隔膜阀2-3，关闭真空步进电机电源。

(5) 取出样品：当样品冷却到允许温度后，依次关闭第二插板阀4-4、复合分子泵4-1、第一高真空手动挡板阀4-6、第二高真空手动挡板阀4-8，机械泵4-2和复合式真空规1-1-1，手动将移动基片加热转台3移动到最左端的极限位置，然后打开接钢瓶的充气阀，向真空室充入干燥氮气。从左LF法兰1-2处拉开真空喷射室1，戴上洁净手套，从基片固定架3-8取出镀好的各块样品。如果需要对新样品进行镀膜，则马上装入新的样品，重复以上各项工作。

全部样品镀膜完成后，重复上述放入样品后的抽气过程，将真空喷射室1抽至一定的真空度并关闭阀门，使系统保持真空。然后关闭各路电源及各路仪表电源，镀膜机即进入停机阶段。

Claims

1.一种制备高分子功能薄膜的真空喷射镀膜机，包括电控系统、喷射系统和系统支架，所述系统支架下部固定安装有抽气系统，抽气系统通过预抽管道和高真空管道连接一个带有观察窗和盲法兰的真空喷射室，其特征在于：真空喷射室内设置有可往复移动的移动基片加热转台，将溶液喷射到基片上实现喷射镀膜的喷射系统设置在真空喷射室侧部，喷射系统的喷嘴伸入真空喷射室内并对准固定在移动基片加热转台上的基片，电控系统通过导线与测量装置、基片加热转台相连；

所述喷射系统包括烧杯、变截面流量计、角形隔膜阀、喷嘴、VCR管件和喷嘴挡板，烧杯设置在系统支架上，烧杯内的溶液由VCR管件引出，VCR管件引出端依次连接变截面流量计、角形隔膜阀、喷嘴，喷嘴对准基片；右LF法兰中部安装有可旋转的喷嘴挡板，喷嘴挡板平行于右LF法兰，其中，喷嘴有三个；

所述移动基片加热转台包括真空步进电机、移动支架、旋转台、辐板、基片加热器、隔热板、基片固定架和基片挡板，移动支架左端设有第一真空步进电机，电机动力输出轴与旋转台连接，旋转台内部设置有第二真空步进电机，第二真空步进电机连接一级齿轮传动副，齿轮传动副的输出轴中部通过轴承固定在辐板上，以支撑齿轮传动副的小齿轮轴，输出轴末端安装有基片加热器和正方形的基片固定架，第二真空步进电机、第三真空步进电机及基片加热器通过导线与安装在旋转台左端的电刷连接，电刷通过导线与左LF法兰上的第一CF超高真空电极连接，基片加热器靠近齿轮轴的一侧设有隔热板。

2.根据权利要求1所述的制备高分子功能薄膜的真空喷射镀膜机，其特征在于所述真空喷射室包括圆筒形的真空室和真空室两端封装的LF法兰组件，真空室前侧设有第一CF超高真空观察窗，真空室上方安装有复合式真空规、膜厚测量装置预留法兰、备用CF超高真空盲法兰、灯丝组件、激光测量装置预留法兰，膜厚测量装置预留法兰和激光测量装置预留法兰分别连接膜厚测量装置和激光测量装置，真空室后侧设有烘烤用电极引线、CF超高真空盲法兰和第二CF超高真空观察窗，真空室下方安装有两个连接抽气系统的法兰；右LF法兰上方焊接有第三CF超高真空观察窗，中部连接有喷射系统安装法兰和第二超高真空转动引入件，下部安装有第二CF超高真空电极和超高真空放气阀；左LF法兰上方安装有第一CF超高真空电极和备用CF超高真空电极，中部左右对称安装有两个铠装热电偶和把手，下部安装有第一超高真空转动引入件，第一超高真空转动引入件两端分别连接真空室外的手动摇杆和真空室内的一根丝杠，丝杠上配合设置有丝母，丝母安装在移动支架下方，丝杠上方设有一个转台支撑架，转台支撑架左端焊接在真空室左LF法兰内侧，转台支撑架上方丝杠对应位置的两侧对称设置有两根光杠，每根光杠上安装有一个直线轴承，移动基片加热转台的移动支架固定安装在直线轴承上，转台支撑架下方套装在丝杠两端的光杆部分，转台支撑架下方对称安装有两个定向轮和两个万向轮，真空室门为抽拉式，左LF法兰下端左右对称安装有两个定向轮，拉动把手时，可将样品一并拉出。

3.根据权利要求1所述的制备高分子功能薄膜的真空喷射镀膜机，其特征在于所述辐板中部固定安装有第三真空步进电机，电机输出轴轴端固定有基片挡板，基片挡板上开有一个圆孔。