CN102381034B - 双向清洗液保护装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种双向清洗液保护装置;该装置设置二个清洗组件,分别安装在二个平行的移动副上,随着车头及其上面的喷头工作模式不同,二个清洗组件能够沿二个平行的移动副相向运到某个靠近的位置,或分离到原来的位置;清洗组件和喷头分别有导液管与清洗泵连接,清洗泵装在废墨瓶上。在二个清洗组件旁边分别设置有防光、防尘保护装置。本发明的优点是,将清洗组件分解成左、右二组,在移动副上分别相向运动,使清洗组件同时分开或组合,可大幅缩短运行时间。通过双向机构,能使清洗装置高速进入工作维护状态,具有高速免维护特性,同时本发明装置加入了防光、防尘装置,极大地保护了清洗组件的清洁性。

Description

双向清洗液保护装置
技术领域
本发明涉及一种双向清洗液保护装置。
背景技术
数码喷绘机上,清洗装置一般功能单一,工作维护时间较长,不能适应高节奏的流水线工作,通常清洗组件为一体,移动副仅为一个,同时设有防光、防尘保护组件。由于整体式清洗组件的宽幅较大,则在移动副上就要作长距离运动,花费时间较长。
发明内容
为解决前述存在的问题,本发明提供一种双向清洗液保护装置。该装置设置二个清洗组件,分别安装在二个平行的移动副上,随着车头及其上面的喷头工作模式不同,二个清洗组件能够沿二个平行的移动副相向运到某个靠近的位置,或分离到原来的位置;清洗组件和喷头分别有导液管与清洗泵连接,清洗泵装在废墨瓶上。
在二个清洗组件旁边分别设置有防光、防尘保护装置。
本发明的优点是:将清洗组件分解成左、右二组,在移动副上分别相向运动,使清洗组件同时分开或组合,可大幅缩短运行时间。通过双向机构,能使清洗装置高速进入工作维护状态,具有高速免维护特性,同时本发明装置加入了防光、防尘装置,极大地保护了清洗组件的清洁性,最大程度防止清洗组件受外界不利因素的影响。
附图说明
附图1是本发明总体结构示意图;
附图2是在专业工作模式状态下车头上升至最高位置,同时防光、防尘装置也上升至某个位置的示意图;
附图3是二个清洗组件移至某个靠近位置的示意图;
附图4是车头下除至某个位置受二个清洗组清洗的示意图;
附图5是清洗结束后,车头上升至最高位置示意图;
附图6是车头、防光防尘装置和清洗组件回到原来位置的示意图;
图中部件标号说明:
1—喷头;2—车头;
3—右保护组件;4—右清洗组件;
5—右移动副,6—左移动副;
7—-废墨瓶;8—清洗泵;
9—导液管;10—左清洗组件;
11—左保护组件。
具体实施方式
本发明设置二个清洗组件为右清洗组件4和左清洗组件10,分别安装在二个平行的移动副上,即左移动副6和右移动副5;随着车头2及其上面的喷头1工作模式不同,二个清洗组件4、10能够沿二个平行的移动副5、6相向运到某个靠近的位置,或分离到原来的位置;清洗组件4、10和喷头1分别有导液管9与清洗泵8连接,清洗泵8装在废墨瓶7上。
在二个清洗组件4、10旁边分别设置有右保护组件3和左右保护组件11,该保护组件是防光、防尘保护装置。
下面说明在不同工作模式下,喷头清洗和保护的工作过程。
本发明在普通工作模式时即清洗组件的防尘、防光功能,如图1所示,件喷头1、车2头组合体在图示位置S1(最低位)进行喷印工作,左清洗、右清洗组件4、10在A1、B1位置,防光、防尘装置3、11在低位C1、D1位置,保护清洗组件4、10。
本发明工作进入专业工作模式时如图2至图5所示,这时具有清洗、液保护功能、喷头的防尘、防光功能:喷头1,车头2组合体上升至S3位置,同时防光、防尘装置3、11从C1、D1上升至C2、D2,如图2所示;然后左清洗、右清洗组件4、10从A1、B1位置运动到A2、B2位置,如图3所示;然后,喷头1,车2头组合体下降至S2位置与左清洗、右清洗组件4、10贴合,清洗泵工作,进行喷头清洗,防止喷头堵点,如图4所示;清洗后,清洗泵8停止工作,进入液保护状态,保护喷头防止环境光、粉尘影响,保持喷头状态良好;清洗、液保护功能结束后,喷头1,车2头组合体上升至S3位置,左清洗、右清洗组件4、10 从A2、B2位置运动到A1、B1位置,防光、防尘装置件3、11从C2、D2下降至低位C1、D1位置,保护清洗组件4、10,如图6所示。

Claims (1)

1.一种双向清洗液保护装置,其特征在于,设置二个清洗组件,分别安装在二个平行的移动副上,随着车头及其上面的喷头工作方式不同,二个清洗组件能够沿二个平行的移动副相向运动到某个靠近的位置,或分离到原来的位置;清洗组件和喷头分别有导液管与清洗泵连接,清洗泵装在废墨瓶上;所述二个清洗组件旁边分别设置有防光、防尘保护装置。
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