CN102334058B - 用于小型成像装置的磁体结构 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种可挠式光学膜及其制作方法。所述可挠式光学膜包含：二氧化钛及硅胶；其中二氧化钛与硅胶是以0.01至20％的重量比例混合。此可挠式光学膜具有良好的弹性，因此不会因为曲折即形成折痕。同时，相较于传统的光学膜，本发明的可挠性光学膜应用于有机发光二极管背光或照明系统中具有较优的光学性质。当另外加入荧光粉或磷光粉，则具有更良好的光学性质与光演色性。

Description

用于小型成像装置的磁体结构

【技术领域】

在此披露的本发明涉及小型成像装置中电磁力的产生。

【背景技术】

许多便携式电子装置，如手机和/或个人数字助理(PDA)，都有一个小型相机模块。该模块可包含一个图像感应器、一个成像透镜组件和/或一个用以调整成像透镜组件相对于图像感应器的位置的致动器。当设计者倾力于推出更纤巧、更小型、和/或更轻便的便携式电子装置时，小型相机模块的制造商就面对这样的挑战：需要提供更小型相机模块去配合装置中有限的空间。

【发明内容】

一种小型成像装置，包括：一个包括一个或多个透镜的透镜组件；一个用来接受来自所述透镜组件的光线的图像感应器；和一个用于调整所述透镜位置的致动器；所述致动器包括至少一个磁体和一个线圈以产生电磁力作用在所述透镜组件上，其中所述至少一个磁体的磁极是与所述透镜组件的光轴为镜像对称的，其中所述至少一个磁体的几何平面和所述线圈的几何平面，垂直于所述光轴，其中所述至少一个磁体的所述磁极的对齐直线垂直于所述光轴。

所述致动器可以提供一个相当精确的运动控制给透镜组件。该小型成像模块的一个优点是：其俯视面积接近或小于图像感应器的俯视面积，因此该小型成像模块的俯视面积非常小。并且，这样的小型模块的生产可以适用于晶圆级的量产过程，有非常高的生产效率，可以降低相机的生产成本。

【附图说明】

将参照以下附图描述本发明的非限制性和非穷尽性的实施例，其中在整个说明书里相同参照码是指相同部件，除非特别加以说明。

图1和图2是一个实施例的小型成像模块的各组件的透视图和截面图。

图3是一个实施例的小型成像模块的俯视图。

图4是一个实施例的致动器的透视图。

图5是一个实施例的致动器的一部分的透视图。

图6是一个实施例的致动器的截面图。

图7和图8是一个实施例的磁体和磁体支架的俯视图。

图9是一个实施例的小型成像模块的各组件的透视图。

图10是一个实施例的致动器一部分的透视图。

图11是一个实施例的致动器一部分的俯视图。

图12是另一个实施例的致动器一部分的透视图。

图13是另一个实施例的致动器一部分的俯视图。

图14-16显示一个实施例的批量制作多个致动器的各个阶段。

【具体实施方式】

在以下的详细描述中，阐述了众多具体细节，以便能够全面理解本发明主题。但是，本领域技术人员将会明白，在没有这些具体细节的情况下也可以实施本发明主题。另外，本领域技术人员所熟知的方法、装置或系统将不作详细描述，以免混淆所主张的发明主题。

在整个说明书里，“一个实施例”可以是指关于一个特别实施例而描述的一个特别特征、结构或特性，该特别实施例可以包含在本发明的至少一个实施例内。因此，在说明书里各个地方出现的“在一个实施例里”不一定意在指同一实施例或描述的任何一个特别实施例。此外，可以理解，在一个或多个实施例里，特定特征、结构或特性可以以各种方式进行组合。当然，这样那样的问题可随特定上下文的使用不同而不同。因此，描述的特定上下文或这些术语的使用能够提供关于将对所述情形得出的推论的有益的指导。

在此描述的实施例包括一个小型成像模块，其提供一个装置和/或提供一个方法以调整成像透镜和图像感应器之间的距离，其中小型成像模块的俯视覆盖面积(footprint)等于或小于图像感应器的俯视覆盖面积。换句话说，小型成像模块的俯视面积不超过图像感应器的俯视面积。例如，图像感应器的俯视面积大约是1.5平方毫米，那么，安装在该图像感应器上的或由该图像感应器支持的小型成像模块的面积就大约是1.5平方毫米或者更小。

透镜组件和图像感应器之间的距离是可调整的，至少部分是可调整的，作为对一个或多个磁体和一个线圈产生的电磁力的反应，其中该距离是可以沿着透镜组件的光轴而测量的。例如，在一个特别实施例中，小型成像模块的一个结构，如一个小型相机模块，通过调整这样一个距离可提供自动对焦和/或其他成像功能。这样的小型成像模块可以为设计者提供一点优势：将该模块集成入愈加纤巧、小型、和/或轻便的便携式电子装置中，如小型相机。

当用来描述这些实施例时，术语“在...上”、“在...下”和“在...侧”描述的是相对于这个小型成像模块的光轴的位置。特别地，“在...上”和“在...下”是指沿着光轴的位置，其中“在...上”是指一个元件的一侧，而“在...下”是指元件的另一侧。相对于“在...上”和“在...下”，“在...侧”是指一个元件的侧面，其偏离光轴，如透镜的外围。另外，应该理解，这些术语并不一定是指重力方向或其他任何特定的方向。它们仅仅是用来确定这一部分相对另一部分。因此，“上部的”和“下部的”可以等同替换为“顶部的”和“底部的”，“第一的”和“第二的”，“右边的”和“左边的”，等等。

在一个实施例中，一个小型成像模块可包括一个透镜组件(有一个或多个透镜)、一个图像感应器(其接受通过透镜组件的光)、和一个致动器(其包括一个环形的磁体和一个线圈以产生电磁力作用在磁体上)。在另一个实施例中，致动器可以包括一对或多对磁体和一个线圈以产生电磁力作用在磁体上。这些磁体对的磁极可以是与透镜组件的光轴为镜像对称，这将在以下描述。

在一个实施中，致动器可以包括一个或多个磁体和一个线圈以产生一个磁力作用在透镜组件上。这些磁体(可以是永久磁体)可以是平坦的或是平面形状。线圈可以是缠绕线圈、印制线圈、和/或基板上的电镀线圈。小型成像模块可以包括一个弹簧以提供一个回复力作用在透镜组件上。致动器的俯视面积与图像感应器的俯视面积接近或只略超出图像感应器的面积。该致动器可以安装在图像感应器的表面上。

在另一个实施中，小型成像模块可以包括这样一个致动器，其有一个线圈，当该线圈通有电流时，线圈能随透镜组件移动。而磁体相对于图像感应器是静止不动的。在另一个结构中，小型成像模块可以包括这样一个致动器，其有一个线圈和一个磁体，其中当线圈通有电流时磁体能随透镜组件移动，而线圈保持静止不动。

在一个特别实施中，致动器包括一个或多个磁体，它们被安置在一个垂直于透镜光轴的平面上。在另一个特别实施中，该致动器包括一个线圈，其位于一个垂直于透镜光轴的平面上。该线圈可以安装在和/或位于小型成像模块的透镜组件上。如在以下进一步描述中，包含在致动器中各个磁体的宽度和致动器中线圈的宽度之间的关系可以决定该致动器产生的电磁力的大小。例如，磁体宽度相对线圈宽度的比例大概在0.8和1.6之间，尽管本发明并不受此限制。

在一个实施例中，通过安装和/或连接一个透镜组件(有一个或多个透镜)到致动器的一部分上，安置一个图像感应器以接受透过透镜组件的光，可以制成一个小型成像模块。致动器可以包括一个或多个片弹簧(leaf springs)，片弹簧安置在线圈和磁体之间。在一个实施中，透镜组件的至少一部分安置在致动器的中心空腔内，和/或安置在致动器的中心空腔和图像感应器之间。在此实施中，致动器的至少一部分可以连接到图像感应器。当然，小型成像模块的这些细节仅仅是示例，本发明不受此限制。

致动器可以提供一个相当精确的运动控制给透镜组件，所以各种成像功能如对焦，可以提高成像质量。该小型成像模块的一个优点是：其俯视面积接近或小于图像感应器的俯视面积，因此该小型成像模块的俯视面积非常小。相反，大于其图像感应器的成像模块就会有一个相对大的俯视面积。并且，这样的小型模块的生产可以适用于将在以下描述的量产过程。例如，量产过程可以包括一个晶圆级的制作过程来制作小型图像感应器的致动器。这个过程有非常高的生产效率，因此降低相机的生产成本，例如由于该小型模块提供的变焦功能。

图1和图2是一个实施例的小型成像模块100的各组件的透视图和截面图。该成像模块包括一个图像感应器180，其包括一个有效成像区域(图中未显示)，其是像素化电荷耦合装置(CCD)阵列和/或一个或多个互补金属氧化物半导体(CMOS)元件，仅仅是示例。图像感应器180也可以包括一个无效成像区域(图中未显示)，其至少部分地围住有效成像区域。无效成像区域可以是有效成像区域的一个边缘或边框，并可以用来物理支撑小型成像模块100的其它部分，而不会妨碍入射到有效成像区域上的光线。例如，致动器190的一部分(以下讨论的)可以安装和/或连接到图像感应器180的无效成像区域上，尽管本发明主题并不受此限制。

在一个实施例里，成像模块100还包括一个透镜组件160，其可以包括一个或多个透镜以提供图像到图像感应器180的有效成像区域上。该图像不但包括可视波长，也可以包括红外线和/或紫外线波长。从而，该图像被聚焦到有效成像区域上，致动器190可以调整透镜组件160相对图像感应器180的位置。在一个特别实施里，致动器190可以调整至少一部分透镜组件160相对图像感应器180的纵向位置。如上所述，该透镜组件可以包括一个或多个透镜，从而一个或多个该透镜的纵向位置可以作为一组来调整。透镜组件160包括一个光轴105。在一个特别实施里，致动器190包括一个或多个磁体110、一个磁体支架115、一个顶部片弹簧120、和/或一个线圈130。磁体支架115是一个平面支架，用于提供一个区域和/或空间以容纳一个或多个磁体。

线圈130可以包括安装在基板上的一个或多个导电线圈。例如，线圈130包括在基板上一层或多层里的多环导线。当电流经过这些环线时，会产生磁场以施加一个外力在一个或多个磁体上，如磁体110上。在这种情况下，弹簧120提供一个回复力以对抗该磁力，因此提供一个机制来调整透镜组件160相对于图像感应器180的纵向位置。线圈130还包括一个孔135，允许光线沿着光轴105穿过线圈130。电引线(图中未显示)可以提供电信号给线圈130。电引线可以是柔性导电体，如带状物、一个或多个导线等。尽管图中未显示，线圈130可以包括电连接区，其中电流可以从电引线传导到线圈130，或反之亦然。当然，线圈130的这些细节仅仅是示例，本发明主题并不受此限制。

在一个实施中，线圈130可以是PCB线圈，其可以是或可以不是多层柔性PCB线圈。该PCB线圈可以包括一个柔性PCB线圈。在另一个实施中，线圈130可以是缠绕线圈，尽管本发明主题不受此限制。PCB线圈比缠绕线圈有很多好处。例如，PCB线圈可以被制作成具有相当紧密的尺寸公差，并且是自立式的，不需要依靠支撑物，不需要固定架、框架。PCB线圈可以批量处理，相对于缠绕线圈又是相当的薄型。PCB线圈可以设计成各种形状和尺寸。而且PCB线圈相当容易设计和/或制作成多层来产生足够的磁通量。

弹簧120和/或150可以是片弹簧，其包括一个中心部分和一个臂部分(图中未显示)用以作为弹簧而移动或弯曲。例如，如果臂部分由中性状态产生位移变形，那么臂部分会提供一个回复力。弹簧120和/或150的外边缘是固定部分，其固定在小型成像模块100的一个或多个部件上。例如，当固定部分被固定在一个相对固定的位置上时，臂部分就可以如弹簧一样弯曲。弹簧120和/或150还包括孔125和155，以允许光线沿着光轴105穿过弹簧120和150。当然，弹簧120和150的这些细节仅仅是示例，本发明主题并不受此限制。

尽管磁体110在图1和图2中显示包括四个部分，但是本发明主题并不受此限制。而且，磁体支架115可以包括在也可以不包括在成像模块的实施例中。例如，两个或多个磁体可以组装成一个，而不需要使用磁体支架。成像模块100还可以包括一个置于底部片弹簧150和图像感应器180之间的隔垫170。当然，成像模块100的这些细节仅仅是示例，本发明主题并不受此限制。

图3是一个实施例的小型成像模块300的俯视图，显示有磁体支架315和磁体310A、310B、311A和311B。孔325可以允许光线沿着模块300的光轴穿过磁体支架315。不同的实施例里可以有不同形状的磁体(如图7和图8显示的)。例如在图3里，磁体310A、310B、311A和311B是长方形的。非磁性材料的磁体支架315可以物理支撑住磁体310A、310B、311A和311B。非磁性材料包括塑料、铜和铝，这些仅仅是一些例子而已。尽管图中没有显示，磁体支架315可以包括U型凹陷区域以放置磁体310A、310B、311A和311B。小型成像模块300可以包括第一对磁体310A、B和第二对磁体311A、B。第一对磁体310A、B的长度比第二对磁体311A、B的长度要短。在其他实施例中，小型成像模块可以包括一个磁体(如图10和图11显示)或一对磁体(如图12和图13显示)。在一个实施例中，一个线圈可以用于一个致动器中的一个或多个磁体，将在以下描述。磁体310A、310B、311A和311B的几何平面垂直于模块300的光轴。

图4是一个实施例的致动器400的透视图。磁体支架415可包括第一对磁体410和第二对磁体411，它们位于线圈430之上。顶部弹簧420位于线圈430和磁体支架415之间。孔425允许光线沿着光轴405穿过顶部弹簧420、线圈430和磁体支架415。如上所述，该光轴是透镜组件(如图1中的160)的轴。磁体对410和411的磁极可以是与光轴405为镜像对称的。例如，磁体南极和北极的位置关于光轴405在任何方向上都是相同的。如图4所示，磁体对410和411的北磁极都更靠近光轴405，相对于南磁极来说。在一个实施中，每个磁体的磁极对齐直线(alignment ofmagnetic poles)都垂直于透镜组件的光轴。例如，磁体对410和411中的每个磁体的北极和南极在垂直于轴405的方向上相互对齐。这种磁极的排列可以提供一个电磁力以调整透镜组件的位置，作为对线圈430中的电流的反应。

图5是一个实施例的致动器(如致动器400)的截面透视图。磁体支架515包括磁体510。顶部弹簧520位于线圈530和磁体支架515之间。孔525允许光线沿着光轴505穿过顶部弹簧520、线圈530和磁体支架515。如图5所示，磁体宽度512被定义为第一磁体边缘516和第二磁体边缘518之间的距离。类似地，线圈宽度532可以定义为第一线圈边缘536和第二线圈边缘538之间的距离。如上所述，磁体510相对于线圈530的位置和/或尺寸可以被选择，以获得期望的磁体和线圈之间的电磁力大小。该电磁力的大小可以至少部分地基于磁体磁通量和线圈磁通量之间的耦合量(如重叠量)。在一个实施中，磁体510的位置须使得各个磁体510和线圈530的中心轴560相互对齐，如图5所示。在另一实施中，磁体宽度512对线圈宽度532的比例有一个特别值。一个特别例子里，该比例数值大约在0.8到1.6。超出这个数值范围的话，磁体磁通量和线圈磁通量之间不充分的耦合会导致增强的旋转力矩而影响致动器的位置。例如，在操作过程中，旋转力矩会增加光学系统的倾斜角度。

图6是一个实施例的致动器600的一部分的截面图。磁体支架615包括一对磁体610A和610B(图6还包括另一对磁体中一个磁体611的部分视图)。顶部弹簧(图6中未显示)，如图4中的顶部弹簧420，位于线圈630和磁体支架615之间。磁体支架615和线圈630中的孔625可以允许光线沿着光轴605穿过线圈630和磁体支架615。

线圈630可包括安装在基板上的一个或多个导电线圈。例如，线圈630包括多环导线在该基板的一层或多层里。当电流流经这些环线，会产生磁场而施加一个外力给磁体610A和610B(和磁体611)，如上所述。如图6中截面所示，线圈630包括一部分633和一部分636。如在633部分中实心圆标示，633部分的一个或多个导体中电流方向是从图6中向外离开。如在636部分中“X”标示，636部分的一个或多个导体中电流方向是向内流入图6。因此，在这个特别例子中，由带有电流的线圈630产生的磁通量是向上的，如箭头608标示。该向上的磁通量完全处于区域635内部，以至于有一个向上的磁力作用于磁体610A和610B(和磁体611)的北极上(图6中标示为“N”)。同时，带有电流的线圈630产生的磁通量是向下的，如箭头609标示。该向下的磁通量完全处于区域635外部，以至于有一个向上的磁力作用于磁体610A和610B(和磁体611)的南极上(图6中标示为“S”)。区域635内部的向上的磁通量作用在磁体北极上，会产生一个向上的磁力，与区域635外部的向下的磁通量作用在磁体南极上，产生的磁力的方向相同。所以，区域635内部和区域635外部的磁通量可以产生一个磁力总和在磁体上。

如上所述，磁体北极和南极相对于线圈630的位置安排，也可以提供期望的磁体和线圈之间电磁力的大小。因此，可以选择每个磁体相对于线圈630的位置和/或尺寸，以获得期望的磁体和线圈之间电磁力的大小。如上所述，这个电磁力的大小至少部分基于磁体北/南极和线圈磁通量之间的耦合量(如重叠量)。如以上图5中所讨论，磁体宽度612对线圈宽度632的比例可以是一个特别数值，如从0.8到1.6的一个数值。超出这个数值范围，磁极和线圈磁通量之间的不充分的耦合会导致磁体和线圈之间的电磁力小于期望值。

致动器可以产生不同大小的电磁力，其至少部分基于线圈630中不同大小的电流强度。该不同大小幅度会产生透镜组件和图像感应器(如图1中的透镜组件160和图像感应器180)之间的不同距离，以便精确控制光线在图像感应器上聚焦。例如，透镜组件和图像感应器之间的距离可以是至少部分基于一个磁场，其中该距离是沿着透镜组件的光轴进行测量的。当然，致动器600的这些细节仅仅是示例，本发明主题不受此限制。

图7和图8是一个实施例中用于小型成像模块的致动器中的磁体和磁体支架的俯视图。在实施例700中，磁体支架715包括梯形形状的磁体710。在实施例800中，磁体支架815包括的磁体810是在角落区有个凹口。此等磁体形状有利于磁体跟支架的紧密连合，使整体结构更为稳固。

图9是一个实施例的构成小型成像模块900的组件的透视图。该成像模块类似于图1中的成像模块100，除了致动器190中的线圈130和磁体110的相互位置可与致动器990中的互换外。类似于成像模块100，成像模块900包括图像感应器980，其包括一个有效成像区域和一个至少部分地围住有效成像区域的无效成像区域(图中未显示)。无效成像区域可以是有效成像区域的一个边缘或边框，并可以用来物理支撑小型成像模块900的其它部分。例如，隔垫970的一部分可以安装和/或连接到图像感应器980的该无效成像区域上，尽管本发明不受此限制。

在一个实施例中，成像模块900还包括一个透镜组件960，其有一个或多个透镜以投射一个图象到图像感应器980的有效成像区域上。如以上解释的，致动器990可以调整透镜组件960相对于图像感应器980的位置，以至于该图象可以聚焦到图像感应器980上。在一个特别实施中，致动器990可以调整至少部分透镜组件960相对于图像感应器980的纵向位置。如上所述，透镜组件可包括一个或多个透镜，从而一个或多个该透镜的纵向位置可以作为一组来调整。在一个特别实施中，致动器990可包括磁体和磁体支架910，它们位于线圈930和/或顶部片弹簧920之下。成像模块900还可以包括一个置于底部片弹簧950和图像感应器980之间的隔垫。隔垫940可以置于磁体支架910和底部片弹簧950之间。

图10是一个实施例的小型成像模块1000的一部分的透视图，图11是模块1000的俯视图。该成像模块类似于图2中的成像模块100，除了磁体1010是一个环状的磁体。例如，从俯视的角度看，环状磁体可以是一个方形或长方形，在中心区域有一个开口以允许光线沿着光轴1005穿过该环形磁体。在另一个例子里，从俯视的角度看，环状磁体可以是一个圆形或三角形的，在中心区域有一个开口。当然，也可以使用其他环状几何图形，本发明主题不受此限制。磁体1010可以由一个磁体支架1015物理支撑。片弹簧1020可置于磁体支架1015和线圈1030之间。小型成像模块1000可包括一个孔1025以允许光线沿着光轴1005穿过磁体1010、线圈1030和磁体支架1015。当然，小型成像模块1000这些细节仅仅是示例，本发明主题不受此限制。

图12是一个实施例的小型成像模块1200的一部分的透视图，图13是模块1200的俯视图。该成像模块类似于图2中的成像模块100，除了磁体1210是一对磁体。磁体对1210可以由一个磁体支架1215物理支撑。片弹簧1220可置于磁体支架1215和线圈1230之间。小型成像模块1000可包括一个孔1225以允许光线沿着光轴1205穿过磁体1210、线圈1230和磁体支架1215。当然，小型成像模块1200这些细节仅仅是示例，本发明主题不受此限制。

图14-16显示一个实施例的批量制作多个致动器的各个阶段，如图1和图9中的致动器190和/或990。特别地，图14是制作致动器的元件透视图。这些元件可以是PCB线圈板1430、平面弹簧(如片弹簧)板1420、和/或磁体板1410。这里，“板”是指一个相当薄的层板，其可以包含多个元件。例如，磁体板1410可以包括排列成阵列的多个独立的磁体，平面弹簧板1420可以包括排列成阵列的多个独立的平面弹簧，PCB线圈板1430可以包括排列成阵列的多个独立的PCB线圈。在制作的早期阶段，这些薄板可以相互对齐排列，并被层压在一起而形成单个致动器的一个阵列1510，如图15所示。接着，通过沿着每个致动器的边缘切割致动器阵列1510，这些单独的致动器被相互分开。例如，图16显示具有边缘1620的单个致动器1660的一个阵列1610，在这些边缘处可以进行切割以将致动器1660分离开来。接着，尽管未显示，在组装小型成像模块的过程中，分开的致动器1660可以安装和/或连接到图像感应器上。然后透镜组件可以安装到致动器1660上，使得透镜组件的第一部分置于致动器的中心空腔内，而透镜组件的第二部分置于致动器的中心空腔和图像感应器之间，其中第一部分的直径小于第二部分的直径，如上所述。当然，小型成像模块制作过程的这些细节仅仅是示例，本发明主题不受此限制。

本领域所属技术人员会认识到，对上述描述可以有无限多的变化，这些例子和附图仅仅是用于描述一个或多个特别的实施方式。

在此使用的“和”、“和/或”和“或”可以包含各种涵义，同样至少部分取决于这些术语使用的上下文。通常，使用时，如果“或”和“和/或”关联到一个列表，如A、B或C，其可以是包含涵义，是指A、B和C，也可以是排他涵义，是A、B或C。另外，在此使用的“一个或多个”可以用来描述单数的任何特征、结构或特性，或可以用来描述特征、结构或特性的一些组合。尽管如此，应该注意到，这仅是一个描述例子，本发明并不受限于此例子。

尽管已经描述和叙述了示范实施例的本发明，但本领域技术人员将会理解，在不脱离本发明主题的前提下可以对其作出各种修改和替换。另外，在不脱离在此所述的中心概念的情况下，可以作出许多修改以将一个特别情景适用到本发明的教义。因此，本发明主题不会受限于在此披露的特定实施例，相反，本发明主题还可能包括属于所附权利要求及其等同物的范围内的所有实施例。

Claims (19)

1.一种装置，包括：

一个透镜组件，其包括一个或多个透镜；

一个图像感应器，用于接受来自所述透镜组件的光线；

一个致动器，用于调整所述透镜的位置，所述致动器包括至少一个磁体和一个线圈以产生电磁力作用在所述透镜组件上，其中所述至少一个磁体的磁极是与所述透镜组件的光轴为镜像对称的，其中所述至少一个磁体的几何平面和所述线圈的几何平面，垂直于所述光轴，其中所述至少一个磁体的所述磁极的对齐直线垂直于所述光轴；

所述图像感应器包括一个有效成像区域和一个至少部分地围住有效成像区域的无效成像区域，所述致动器的一部分安装和/或连接到图像感应器的所述无效成像区域上，所述图像感应器的表面物理支撑住所述致动器，以便使所述致动器的俯视面积接近或小于图像感应器的俯视面积。

2.如权利要求1所述的装置，其中所述至少一个磁体包括至少一对磁体。

3.如权利要求1所述的装置，其中所述致动器只包括一个线圈而产生磁场在所述至少一个磁体的所述磁极上。

4.如权利要求2所述的装置，还包括一个磁体支架，用于固定所述至少一对磁体，其中所述磁体支架包含非磁性材料。

5.如权利要求4所述的装置，其中所述磁体支架包括U形凹陷区域，所述至少一对磁体置于其中。

6.如权利要求3所述的装置，其中所述至少一个磁体可随着所述透镜组件移动，以对所述线圈通电而作出反应。

7.如权利要求3所述的装置，其中所述线圈可随着所述透镜组件移动，以对所述线圈通电而作出反应。

8.如权利要求2所述的装置，其中所述至少一对磁体中的单个磁体是梯形形状。

9.如权利要求2所述的装置，其中所述至少一对磁体中的单个磁体在角落区有凹口。

10.如权利要求1所述的装置，其中所述至少一个磁体是环状的。

11.如权利要求3所述的装置，其中所述至少一个磁体是位于所述线圈之上或之下。

12.如权利要求3所述的装置，其中所述至少一个磁体的磁体宽度对所述线圈的线圈宽度的比例数值大约在0.8到1.6之间。

13.如权利要求1所述的装置，其中所述透镜组件和所述图像感应器之间的距离至少部分是可调整的，以回应所述电磁力,而所述的距离是以沿着透镜组件的光轴方向而测量的。

14.一种方法，包括：

将包括一个或多个透镜的透镜组件安装到致动器的一部分上，所述致动器包括至少一个磁体以产生电磁力作用在所述透镜组件上；

将所述致动器的至少一部分连接到图像感应器上，所述图像感应器接受来自所述透镜组件的光线，其中所述至少一个磁体的磁极与所述透镜组件的光轴为镜像对称，其中所述至少一个磁体的几何平面和所述线圈的几何平面垂直于所述光轴，其中所述至少一个磁体的所述磁极的对齐直线垂直于所述光轴；

所述图像感应器包括一个有效成像区域和一个至少部分地围住有效成像区域的无效成像区域，所述致动器的一部分安装和/或连接到图像感应器的所述无效成像区域上，所述图像感应器的表面物理支撑住所述致动器，以便使所述致动器的俯视面积接近或小于图像感应器的俯视面积。

15.如权利要求14所述的方法，其中所述致动器只包括一个线圈而产生磁场在所述至少一个磁体的所述磁极上。

16.如权利要求14所述的方法，还包括一个磁体支架，用于固定所述至少一个磁体，其中所述磁体支架包含非磁性材料。

17.如权利要求15所述的方法，其中所述至少一个磁体的磁体宽度对所述线圈的线圈宽度的比例数值大约在0.8到1.6之间。

18.一种方法，包括：

制作一个包括多个致动器的致动器晶片，通过将下列组件层压在一起：

一个PCB线圈阵列；

一个片弹簧阵列；

一个磁体阵列；

切割所述致动器晶片而分离所述致动器，所述致动器包括一个独立的PCB线圈、一个独立的片弹簧、一个独立的磁体；

连接所述致动器到所述图像感应器上；

安装所述透镜组件到所述致动器上，使得所述至少一个磁体的磁极与所述透镜组件的光轴为镜像对称，其中所述至少一个磁体的几何平面和所述线圈的几何平面垂直于所述光轴，其中所述至少一个磁体的所述磁极的对齐直线垂直于所述光轴；

提供包括一个有效成像区域和一个至少部分地围住有效成像区域的无效成像区域的图像感应器，将所述致动器的一部分安装和/或连接到图像感应器的所述无效成像区域上，所述图像感应器的表面物理支撑住所述致动器，以便使所述致动器的俯视面积接近或小于图像感应器的俯视面积。

19.如权利要求18所述的方法，其中所述至少一个磁体的磁体宽度对所述线圈的线圈宽度的比例数值大约在0.8到1.6之间。

Images