CN102290484A - 用于制备太阳电池的半导体薄膜的含Sb溶液体系及制备方法 - Google Patents
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Abstract
用于制备太阳电池的半导体薄膜的含Sb溶液体系及制备方法,涉及太阳电池领域的半导体薄膜制备技术。所述的溶液体系,由金属盐、导电盐、有机酸、无机酸和溶剂水组成,各组分在溶液体系的含量为:金属盐0.1~0.5mol/L、导电盐l~4mol/L、有机酸0.5~3mol/L、无机酸0.01~0.1mol/L,用饱和碱性溶液调节pH值到1~6.0。本发明的优点:溶液体系具有良好的覆盖能力和分散能力,使用寿命长,制备方法简单,投资设备小,适合大规模工业化生产,并且使用这种掺杂方法不仅可以使CIGS薄膜晶粒尺寸长大,而且可以有效的使不含Ga的CIS薄膜晶粒尺寸长大。适用于CuInS2、InGaAs等半导体材料。
Description
技术领域
本发明涉及太阳电池领域的半导体薄膜制备技术,特别是用于制备太阳电池的半导体薄膜的含Sb溶液体系及制备方法。
背景技术
Cu(In1-xGax)Se2(简称CIGS)薄膜太阳电池具有直接带隙结构,吸收系数高,转化效率高,是最有发展前途的新型薄膜电池之一。自1976年美国Maine州大学首次开发出CIS薄膜太阳电池,转换效率达到6.6%,CIGS电池已经发展了近40年。制备方法大体可以分为两类:一类是真空沉积技术,另一类是非真空沉积技术。真空沉积技术主要包括共蒸发法、溅射硒化法等方法;非真空沉积技术包括电沉积、丝网印刷法和喷涂热解法等方法。2010年8月德国太阳能和氢能研究机构ZSW采用共蒸发法制备的CIGS电池的光电转化效率达到20.3%,是有报道的CIGS薄膜电池的最高转化效率。实验室效率不断提高的同时,人们不断研究CIGS薄膜电池连续化大生产的工艺,采用低温柔性衬底和非真空沉积技术是人们研究的主要方向。由于CIGS薄膜最佳生长温度在550℃以上不适合大部分柔性衬底,因此,人们致力于研究在低温下改善CIGS薄膜的结晶质量。经过人们的大量研究发现,掺入某些金属或非金属杂质有利于改善CIGS薄膜的结构形貌和电学性质,例如,在CIGS薄膜的制备过程中掺入Na元素可以有效的提高CIGS薄膜的载流子浓度,使之电学性能得到改善。在CIS薄膜的早期研究中,利用化学方法或离子注入的方法掺入Tl、Cd、Bi、N、P、Sb、Bi等杂质元素来改变CIS材料的导电类型。在制备CuInSe和CuInS2薄膜时,有报道指出用蒸发和离子注入的方式掺入Sb可以改善薄膜的特性,提高电池效率,但是对薄膜晶粒的长大没有作用。在喷涂法制备CIGS薄膜中,有报道在喷涂溶液中加入Sb2S3,可以增大晶粒尺寸,但是仅对含有Ga的CIGS薄膜有效。
探索CIGS薄膜电池的工业化路线,非真空沉积技术是人们瞩目的焦点。非真空沉积技术不需要昂贵的真空设备,设备投资小,原材料利用率高,生长速度快,更适合大规模生产。非真空沉积技术制备CIGS薄膜一般分为两个步骤,即预置层的制备和热退火处理。预置层的制备主要是沉积合适的化学计量比的CIGS薄膜主要成分,经过热退火处理,改善预置层的结晶质量,使之具有CIGS半导体特性。非真空沉积CIGS薄膜一般晶粒尺寸小,结晶质量差,严重的影响电池效率。在预置层的制备过程中和热处理过程中,少量掺入Sb有效的改善CIGS薄膜晶粒尺寸,对非真空沉积法制备CIGS薄膜有着深远的意义。
发明内容
本发明的目的是提供一种含Sb的溶液体系及制备方法,利用电沉积和化学水浴的方法, 将锑合金、金属锑及其化合物掺入CIS/CIGS薄膜制备的各个环节当中,其中锑在组分中的比例为0.1%~4%mol,该方法有效的改善了CIS/CIGS薄膜的结晶质量,增大了薄膜晶粒的尺寸。方法简单实用,适合于各种CIGS的制备工艺,并且适合大规模工业化连续生产的应用。
本发明的技术方案:
提供一种含Sb的溶液体系及制备方法,利用电沉积和化学水浴的方法将将锑合金、金属锑及其化合物掺入CIS/CIGS薄膜制备的各个环节当中,其中锑在组分中的比例为0.1%~4%mol。
所述一种含Sb的溶液体系,由金属盐、导电盐、有机酸、无机酸和溶剂水组成,各组分在溶液体系的含量为:金属盐(0.1~0.5mol/L)、导电盐(1~4mol/L)、有机酸(0.5~3mol/L)、无机酸(0.01~0.1mol/L),用饱和碱性溶液调节pH值到1~6.0。
所述的金属盐为金属Sb盐,金属Sb与Cu或In的金属盐,其中金属盐为氯化物盐、硫酸盐或硝酸盐。
所述导电盐为钠盐、钾盐或锂盐或两种或两种以上任意比例混合物。
所述有机酸为甲基磺酸、乙基磺酸、丙磺酸、2-丁磺酸、戊磺酸、己磺酸、庚磺酸、氨基磺酸、氨基丙磺酸、柠檬酸、酒石酸或甘氨酸。
所述无机酸为硫酸、盐酸或硝酸。
所述碱性溶液为KOH、NaOH或LiOH的饱和溶液。
所述CIS/CIGS薄膜的制备环节为,根据制备CIGS薄膜的制备工艺不同,锑及其化合物可以在CIGS预制层中掺入,也可以在CIGS薄膜热处理后掺入,再进行热处理,也可以与Cu、In、Ga、Se共沉积。
一种含Sb溶液的制备方法:1)将金属盐、导电盐分别溶于去离子水中,制备成饱和溶液备用;2)依次在水中加入金属盐和导电盐的饱和溶液,然后加入有机酸、无机酸;3)用饱和的碱性溶液调整pH值。
本发明的优点:溶液体系具有良好的覆盖能力和分散能力,使用寿命长,制备方法简单,投资设备小,适合大规模工业化生产,并且使用这种掺杂方法不仅可以使CIGS薄膜晶粒尺寸长大,而且可以有效的使不含Ga的CIS薄膜晶粒尺寸长大。适用于CuInS2、InGaAs等半导体材料。
附图说明
图1是无Sb的CIS截面SEM图
图2是有Sb的CIS截面SEM图
具体实施方式
实施例1:金属锑的电沉积制备
一种电沉积金属锑溶液的制备步骤如下:1)将固体的柠檬酸加入到去离子水中,配制成饱和溶液备用;2)在1L的烧杯中加入去离子水,然后依次加入氧化锑、浓硫酸和饱和柠檬 酸溶液,同时不断搅拌均匀,当氧化锑完全溶解后,加入剩余的去离子水补足1L,最终溶液成分为柠檬酸锑(13~18g/L)、柠檬酸(120~150g/L)、浓硫酸(0.1~1mL/L);3)用饱和NaOH溶液调节pH值到3.0即可。
将配好的溶液倒入赫尔槽中,以玻璃/Mo试样作为阴极,钛网作为阳极进行试验,电流密度(1~30mA/cm2),即获光亮、均匀,无缺陷的锑镀层,覆盖率达100%。
在金属锑薄膜上制备CIGS薄膜,并进行热处理后,通过XRD测试,CIGS各峰非常尖锐,通过扫描电镜观察,CIGS晶粒尺寸大约2um。
实施例2:In-Sb合金电镀沉积
按照实施例1的步骤,配制含有柠檬酸锑(13~18g/L)、柠檬酸(120~150g/L)、硫酸铟(1~3g/L)的水溶液,用NaOH调节pH值到3.0,在Mo/Cu表面进行赫尔槽试验,电流密度在(10~40mA/cm2)获得均匀、无缺陷的In-Sb合金镀层。
在In-Sb合金镀层上继续沉积In、Ga,再经过硒化处理,得到的CIGS薄膜,经过扫描电镜观察,晶粒上下贯穿薄膜,尺寸达2um。
实施例3:锑及其化合物与CIGS混合沉积
一种共沉积CIGS溶液制备步骤如下:1)准备氯化铜、氯化铟、氯化镓、氯化锑、亚硒酸、氯化锂的饱和溶液;2)在1L烧杯中加入去离子水,然后依次加入氯化铜、氯化铟、氯化镓、氯化锑、亚硒酸、氯化锂,同时不断搅拌均匀,然后加入剩余的去离子水补足1L,最终溶液成分为CuCl2 0.003mol/L、InCl3 0.003mol/L、GaCl3 0.006mol/L、SbCl3 0.0005mol/L、H2SeO3 0.005mol/L、LiCl 0.25mol/L;3)用饱和NaOH溶液调节pH值到3.0即可。
将配好的溶液使用三电极体系,以玻璃/Mo试样作为阴极,钛网作为阳极进行试验,沉积电位在-0.8~-1.2V范围里,即获得比例略为富铜的CIGS-Sb薄膜,然后进行PVD处理和硒化处理,通过扫描电镜观察,CIGS晶粒尺寸有明显增大。
实施例4:锑的化学水浴法沉积
按照实施例1的步骤,配制含有柠檬酸锑(13~18g/L)、柠檬酸(120~150g/L)、浓硫酸(0.1~lmL/L)的水溶液,用NaOH调节pH值到3.0,将玻璃/Mo/Cu试样在溶液中沁润10~20s,得到均匀、无缺陷的锑层。
再在锑层上继续沉积In、Ga,再经过硒化处理,得到的CIGS薄膜,经过扫描电镜观察,晶粒上下贯穿薄膜,尺寸达2um。
Claims (10)
1.一种用于制备太阳电池的半导体薄膜的含Sb溶液体系,其特征在于,利用电沉积或化学水浴的方法将锑合金、金属锑及其化合物掺入CIS/CIGS薄膜制备的各个环节当中,其中锑在组分中的摩尔比例为0.1%~4%。
2.根据权利要求1所述的用于制备太阳电池的半导体薄膜的含Sb溶液体系,其特征在于,由金属盐、导电盐、有机酸、无机酸和溶剂水组成,各组分在溶液体系的含量为:金属盐0.1~0.5mol/L、导电盐1~4mol/L、有机酸0.5~3mol/L、无机酸0.01~0.1mol/L,用饱和碱性溶液调节pH值到1~6.0。
3.根据权利要求1所述的用于制备太阳电池的半导体薄膜的含Sb溶液体系,其特征在于,所述的金属盐为金属Sb盐,或为金属Sb与Cu或In的金属盐,并且金属盐为氯化物盐、硫酸盐或硝酸盐。
4.根据权利要求1所述的用于制备太阳电池的半导体薄膜的含Sb溶液体系,其特征在于,所述导电盐为钠盐、钾盐或锂盐中的一种或几种。
5.根据权利要求1所述的用于制备太阳电池的半导体薄膜的含Sb溶液体系,其特征在于,所述有机酸为甲基磺酸、乙基磺酸、丙磺酸、2-丁磺酸、戊磺酸、己磺酸、庚磺酸、氨基磺酸、氨基丙磺酸、柠檬酸、酒石酸或甘氨酸。
6.根据权利要求1所述的用于制备太阳电池的半导体薄膜的含Sb溶液体系,其特征在于,所述无机酸为硫酸、盐酸或硝酸。
7.根据权利要求1所述的用于制备太阳电池的半导体薄膜的含Sb溶液体系,其特征在于,所述碱性溶液为KOH、NaOH或LiOH的饱和溶液。
8.一种如权利要求1所述的用于制备太阳电池的半导体薄膜的含Sb溶液体系的制备方法,其特征在于,步骤如下:1)将金属盐、导电盐分别溶于去离子水中,制备成饱和溶液备用;2)依次在水中加入金属盐和导电盐的饱和溶液,然后加入有机酸、无机酸;3)用饱和的碱性溶液调整pH值。
9.一种如权利要求1所述的用于制备太阳电池的半导体薄膜的含Sb溶液体系的应用方法,其特征在于:用于制备CIS/CIGS薄膜太阳电池,方法是在玻璃/Mo衬底上制备CIS/CIGS薄膜,所述溶液体系在CIS/CIGS预制层中掺入,或在CIS/CIGS薄膜热处理后掺入,并进行热处理,处理时间10~30min,处理温度400~550℃。
10.如权利要求9所述的用于制备太阳电池的半导体薄膜的含Sb溶液体系的应用方法,其特征在于:所述溶液体系或者与Cu、In、Ga、Se共沉积。
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