CN102278877A - 立式真空烧结炉 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种立式真空烧结炉,其包括炉体、炉架、炉盖、工件的升降机构、真空系统、工件的加工系统、冷却系统以及电控系统,其中电控系统包括用于向工件的加工系统通电的通电元件和电源的控制装置,冷却系统包括用于冷却工件加工系统的冷凝装置、与炉体相连通的法兰、连通法兰与炉体且用于向冷凝装置内加入冷凝水的进水管和排放冷凝水的排放管、用于密封法兰和炉体的密封圈以及连通进水管、排放管与法兰的连接管,连接管贯穿通电元件,该通电元件沿着连接管的延伸方向移动,且与法兰的间距
1
~
10cm
。本发明将通电元件与法兰产生间距,有效的将通电元件进行散热,同时解决了通电元件的高温而损坏密封圈的密封性能,其结构简单,实施方便。
Description
技术领域
本发明涉及一种立式真空烧结炉。
背景技术
目前,现有技术中,立式真空烧结炉一般包括炉体、炉架、炉盖、工件的升降机构、真空系统、加工系统、冷却系统、电控系统等,其中电控系统的通电元件与冷却系统的冷却装置从真空炉体的同一处与其他装置相连接,冷却装置包括用于冷却工件加工系统的冷凝装置、与炉体相连通的法兰、通过法兰与炉体连通的用于向冷凝装置加入冷凝水的进水管和排放冷凝水的排放管、用于密封法兰和炉体的密封圈以及连通进水管、排放管与法兰的连接管,通电元件与加工系统相连接,连接管贯穿通电元件,同时通电元件紧靠着法兰,因此,当通电元件长期处于工作状态,这样通电元件温度就比较高,直接影响了密封圈的性能,给生产带来不便,同时增加了设备维护的成本。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是克服现有技术的不足,提供一种立式真空烧结炉。
为解决以上技术问题,本发明采取如下技术方案:
一种立式真空烧结炉,其包括炉体、炉架、炉盖、工件的升降机构、真空系统、工件的加工系统、冷却系统以及电控系统,其中电控系统包括用于向工件的加工系统通电的通电元件和电源的控制装置,冷却系统包括用于冷却工件加工系统的冷凝装置、与炉体相连通的法兰、连通法兰与炉体且用于向冷凝装置内加入冷凝水的进水管和排放冷凝水的排放管、用于密封法兰和炉体的密封圈以及连通进水管、排放管与法兰的连接管,连接管贯穿通电元件,该通电元件沿着连接管的延伸方向移动,且与法兰的间距1~10CM。
优选地,通电元件与法兰的间距为5 CM。
优选地,通电元件为铜棒。
由于以上技术方案的实施,本发明与现有技术相比具有如下优点:
本发明将通电元件与法兰产生间距,有效的将长期工作状态下的通电元件进行散热,同时解决了通电元件的高温而损坏密封圈的密封性能,其结构简单,实施方便。
附图说明
下面结合附图和具体的实施例,对本发明做进一步详细的说明:
图1为根据本发明立式真空烧结炉的结构局部示意图;
其中:1、炉体;2、炉架;3、工件的加工系统;4、冷却系统;40、冷凝装置;41、法兰;42、进水管;43、排放管;44、密封圈;45、连接管;5、通电元件。
具体实施方式
如图1所示,按照本实施例的立式真空烧结炉,其包括炉体1、炉架2、炉盖、工件的升降机构、真空系统、工件的加工系统3、冷却系统4以及电控系统,其中电控系统包括用于向工件的加工系统3通电的通电元件5和电源的控制装置,冷却系统4包括用于冷却工件加工系统3的冷凝装置40、与炉体1相连通的法兰41、连通法兰41与炉体1且用于向冷凝装置40内加入冷凝水的进水管42和排放冷凝水的排放管43、用于密封法兰41和炉体1的密封圈44以及连通进水管42、排放管43与法兰41的连接管45,连接管45贯穿通电元件5,该通电元件5沿着连接管45的延伸方向移动,且与法兰41的间距1~10CM。
上述立式真空烧结炉的通电元件5法兰41的间距为5CM时,通电元件5的工作性能最佳,同时通电元件5为铜棒。
本实施例的立式真空烧结炉,将通电元件与法兰产生间距,有效的将长期工作状态下的通电元件进行散热,同时解决了通电元件的高温而损坏密封圈的密封性能,其结构简单,实施方便。
以上对本发明做了详尽的描述,其目的在于让熟悉此领域技术的人士能够了解本发明的内容并加以实施,并不能以此限制本发明的保护范围,凡根据本发明的精神实质所作的等效变化或修饰,都应涵盖在本发明的保护范围内。
Claims (3)
1.一种立式真空烧结炉,其包括炉体(1)、炉架(2)、炉盖、工件的升降机构、真空系统、工件的加工系统(3)、冷却系统(4)以及电控系统,所述的电控系统包括用于向所述工件的加工系统(3)通电的通电元件(5)和电源的控制装置,所述的冷却系统(4)包括用于冷却所述工件加工系统的冷凝装置(40)、与所述炉体(1)相连通的法兰(41)、连通所述法兰(41)与所述炉体(1)且用于向所述冷凝装置(40)内加入冷凝水的进水管(42)和排放冷凝水的排放管(43)、用于密封所述法兰(41)和所述炉体(1)的密封圈(44)以及连通所述进水管(42)、排放管(43)与所述法兰(41)的连接管(45),所述的连接管(45)贯穿所述的通电元件(5),其特征在于:所述的通电元件(5)沿着所述连接管(45)的延伸方向移动,且与所述的法兰(41)的间距1~10CM。
2.根据权利要求1所述的立式真空烧结炉,其特征在于:所述的通电元件(5)与所述法兰(41)的间距为5 CM。
3.根据权利要求1所述的立式真空烧结炉,其特征在于:所述的通电元件(5)为铜棒。
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CN2011102548464A CN102278877A (zh) | 2011-08-31 | 2011-08-31 | 立式真空烧结炉 |
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2011
- 2011-08-31 CN CN2011102548464A patent/CN102278877A/zh active Pending
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