CN102249439A - 纯水制备装置 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种纯水制备装置，其特征在于：包括通过管道依次连接的石英砂罐、木炭罐、树脂罐和至少一个过滤器。由于本发明中的所述纯水制备装置在树脂罐之前还设置有石英砂罐体、木炭罐体，因此能够使经过初步过滤的原水进行离子交换，从而减少了再生的频率，降低了成本和污染。
Description
技术领域
本发明涉及一种水制备装置，尤其涉及一种纯水制备装置。
背景技术
现有技术中的纯水制备装置主要采用离子交换法、反渗透技术、电渗板法。
其中，离子交换法需要用酸碱再生，因此，该方法具有运行费用高、污染环境的缺点；而反渗透技术对原水的处理要求严格，总投资大，水利用率很低；电渗析法的制备过程中，离子迁移能力越来越低，导致该技术的去除率低、水的利用率低。
因此，本领域需要一种成本低、污染小、操作方便的纯水制备装置。
发明内容
本发明的目的是提供一种成本低、污染小、操作方便的纯水制备装置。
为解决上述技术问题，本发明采取以下技术方案：一种纯水制备装置，其特征在于：包括通过管道依次连接的石炭砂罐、木炭罐、树脂罐和至少一个过滤器。
所述至少一个过滤器包括依次连接的第一级过滤器、第二级过滤器和第三级过滤器，其中，所述第一级过滤器与所述树脂罐连接。
由于本发明中的所述纯水制备装置在树脂罐之前还设置有石英砂罐体、木炭罐体，因此能够使经过初步过滤的原水进行离子交换，从而减少了再生的频率，降低了成本和污染。
附图说明
图1是本发明中的纯水制备装置的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本发明的技术方案进行详细说明。
图1是本发明中的纯水制备装置的结构示意图。如图1所示，所述纯水制备装置包括通过管道依次连接的石炭砂罐、木炭罐树脂罐和至少一个过滤器。
优选地，所述至少一个过滤器包括依次连通的第一级过滤器、第二级过滤器和第三级过滤器。其中，所述第一级过滤器与所述树脂罐连接。
优选地，所述至少一个过滤器是高密度过滤器。
如图1所示，原水1依次流经石炭砂罐、木炭罐、树脂罐、第一级过滤器、第二级过滤器和第三级过滤器后，被净化得到纯水2。
由于本发明中的所述纯水制备装置在树脂罐之前还设置有石英砂罐体、木炭罐体，因此能够使经过初步过滤的原水进行离子交换，从而减少了再生的频率，降低了成本和污染。
Claims (2)
1.一种纯水制备装置，其特征在于：包括通过管道依次连接的石炭砂罐、木炭罐、树脂罐和至少一个过滤器。
2.如权利要求1所述的纯水制备装置，其特征在于：所述至少一个过滤器包括依次连接的第一级过滤器、第二级过滤器和第三级过滤器，其中，所述第一级过滤器与所述树脂罐连接。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN2011100061783A CN102249439A (zh) | 2011-01-13 | 2011-01-13 | 纯水制备装置 |
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Publications (1)
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| CN102249439A true CN102249439A (zh) | 2011-11-23 |
Family
ID=44977074
Family Applications (1)
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| CN2011100061783A Pending CN102249439A (zh) | 2011-01-13 | 2011-01-13 | 纯水制备装置 |
Country Status (1)
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Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN201334405Y (zh) * | 2009-05-11 | 2009-10-28 | 桂阳济草堂药材种业有限公司 | 金银花饮生产用水的纯水处理装置 |
| CN101628760A (zh) * | 2008-07-14 | 2010-01-20 | 付全贵 | 一种低压节能节水反渗透矿化直饮健康水设备 |
| CN201942587U (zh) * | 2011-01-13 | 2011-08-24 | 昆山市宝立无纺布有限公司 | 纯水制备装置 |
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2011
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| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
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Application publication date: 20111123 |