CN102219382B - 一种全抛釉用熔块及其制备方法 - Google Patents

一种全抛釉用熔块及其制备方法 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种全抛釉用熔块，由甲、乙两种熔块混合而成，其中，甲熔块的组成为：Al2O32～10份、SiO250～70份、CaO15～30份、K2O1～4份、Na2O 1～4份、MgO1～4份，ZnO1～4份；乙熔块的组成为：Al2O315～30份、SiO230～50份、CaO15～30份、K2O1～5份、Na2O 1～5份、MgO1～4份，ZnO1～4份。全抛釉用熔块的制备方法，包括根据甲、乙两种熔块的组成，分别称取原料，并将原料混合；将混合好的原料于1500～1580℃熔制好，分别得到甲乙两种熔块；将熔制好的熔块破碎。本发明的熔块，具有较高的始熔温度，透明度高。使用本发明熔块制备得到的全抛釉透明度高，表面无气泡，抛光后釉面光滑无微孔，不吸污纳垢，釉面呈哑光，质感好。

Description

一种全抛釉用熔块及其制备方法
技术领域
本发明涉及一种熔块及其制备方法，特别涉及一种全抛釉用熔块及其制备方法。
背景技术
熔块是使用原料预先熔融得到的玻璃体，通过预先熔融之后，可以排除釉料中的大部分气体，有助于减少釉面上的气泡、针孔等瑕疵，提升陶瓷制品的质量，是陶瓷配釉中的常用原料。
全抛釉砖是在坯体表面施一层全抛釉，经烧成、抛光而成的。具有彩釉砖装饰丰富和瓷质吸水率低、材质性能好的特点，又克服了彩釉砖釉上装施不耐磨、抗化学腐蚀的性能差和瓷质砖装饰方法简单的弊端，采用釉下装饰、高温烧成、釉面细腻、高贵华丽，属高档产品。
目前的全抛釉分为生料釉，熔块釉，半生料半熔块釉。全生料釉稳定性差，使用范围窄；全熔块釉，性能稳定，但成本太高，临时调节差；半生料半熔块釉，适应性强。施于全抛釉的全抛釉砖集抛光砖与仿古砖优点于一体的，釉面如抛光砖般光滑亮洁，同时其釉面花色如仿古砖般图案丰富，色彩厚重或绚丽。其釉料特点是透明不遮盖底下的面釉和各道花釉，抛釉时只抛掉透明釉的薄薄一层。目前一个重要的问题是，抛光后，釉面上存在大量的气泡，会吸污，对于某些色料的发色具有严重的影响。
此外，现有的全抛釉耐磨性较差，其耐磨性级别一般仅能达到3级。
发明内容
本发明的目的在于提供一种全抛釉用熔块及其制备方法。
本发明所采取的技术方案是：
一种全抛釉用熔块，由甲、乙两种熔块混合而成，其中，甲熔块的组成为：Al2O3 2～10份、SiO2 50～70份、CaO15～30份、K2O 1～4份、Na2O  1～4份、MgO 1～4 份，ZnO 1～4份；乙熔块的组成为：Al2O3 15～30份、SiO2 30～50份、CaO 15～30份、K2O 1～5份、Na2O  1～5份、MgO 1～4份，ZnO 1～4份，所述份数为质量份。
甲、乙两种熔块质量混合比为30～150：100。
上述全抛釉用熔块的制备方法，包括以下步骤：
1)  根据甲、乙两种熔块的组成，分别称取原料，并将原料混合；
2)  将混合好的原料于1500～1580℃熔制好，分别得到甲乙两种熔块；
3)  将熔制好的熔块破碎。
优选的，将将熔制好的熔块破碎至细度低于250目。
本发明的熔块，具有较高的始熔温度，透明度高。甲、乙两种熔块的始熔温度存在一定的区别，甲熔块的始熔温度相对较低，乙熔块的始熔温度相对较高，在烧制过程中，乙熔块作为骨架作用，可以保证高温下顺利排气，另外，由于两种熔块的组成在一定范围内接近低共融点 ，可以保证甲、乙两种熔块可以很好的熔融在一起。使用本发明熔块制备得到的全抛釉透明度高，表面无气泡，抛光后釉面光滑无微孔，不吸污纳垢，釉面呈哑光，质感好。
由本发明的熔块制得的釉层，耐磨性级别达5级，耐磨性好。
将熔块破碎至细度低于250目，使得熔块可以适用于多种制釉工艺。
具体实施方式
一种全抛釉用熔块，由甲、乙两种熔块混合而成，其中，甲熔块的组成为：Al2O3 2～10份、SiO2 50～70份、CaO15～30份、K2O 1～4份、Na2O  1～4份、MgO 1～4 份，ZnO 1～4份；乙熔块的组成为：Al2O3 15～30份、SiO2 30～50份、CaO 15～30份、K2O 1～5份、Na2O  1～5份、MgO 1～4份，ZnO 1～4份，所述份数为质量份。
甲、乙两种熔块质量混合比为30～150：100。
上述全抛釉用熔块的制备方法，包括以下步骤：
1)  根据甲、乙两种熔块的组成，分别称取原料，并将原料混合；
2)  将混合好的原料于1500～1580℃熔制好，分别得到甲乙两种熔块；
3)  将熔制好的熔块破碎。
优选的，将将熔制好的熔块破碎至细度低于250目。
下面结合实施例，进一步说明本发明。
实施例1
甲熔块的组成为：Al2O3 2份、SiO2 50份、CaO 18份、K2O 2份、Na2O  1份、MgO 3 份，ZnO 4份；
乙熔块的组成为：Al2O3 20份、SiO2 40份、CaO 30份、K2O 3.7份、Na2O  1份、MgO 2 份，ZnO 3.4份； 
其制备方法如下：
1)  根据甲、乙两种熔块的组成，称取原料，将原料混合均匀；
2)  将混合好的原料于1500℃熔制好；
3)  将熔制好的熔块破碎至细度低于250目。
实施例2
甲熔块的组成为：Al2O3 6份、SiO2 57份、CaO 23份、K2O 3.4份、Na2O  3份、MgO 2 份，ZnO 2份；
乙熔块的组成为：Al2O3 25份、SiO2 43份、CaO 20份、K2O 4份、Na2O  4份、MgO 3 份，ZnO 3份； 
其制备方法如下：
1)  根据甲、乙两种熔块的组成，称取原料，将原料混合均匀；
2)  将混合好的原料于1530℃熔制好；
3)  将熔制好的熔块破碎至细度低于250目。
实施例3
甲熔块的组成为：Al2O3 4份、SiO2 54份、CaO 15份、K2O 2.5份、Na2O  2份、MgO 4 份，ZnO 1份；
乙熔块的组成为：Al2O3 15份、SiO2 30份、CaO 15份、K2O 2份、Na2O  3份、MgO 4 份，ZnO 1份； 
其制备方法如下：
1)  根据甲、乙两种熔块的组成，称取原料，将原料混合均匀；
2)  将混合好的原料于1550℃熔制好；
3)  将熔制好的熔块破碎至细度低于250目。
实施例4
甲熔块的组成为：Al2O3 5份、SiO2 63份、CaO 25份、K2O 3份、Na2O  3.5份、MgO 3.5 份，ZnO 3.5份；
乙熔块的组成为：Al2O3 27份、SiO2 50份、CaO 18份、K2O 3份、Na2O  5份、MgO 1 份，ZnO 3份； 
其制备方法如下：
1)  根据甲、乙两种熔块的组成，称取原料，将原料混合均匀；
2)  将混合好的原料于1580℃熔制好；
3)  将熔制好的熔块破碎至细度低于250目。
实施例5
甲熔块的组成为：Al2O3 7份、SiO2 67份、CaO 26份、K2O 4份、Na2O  4份、MgO 1 份，ZnO 3份；
乙熔块的组成为：Al2O3 30份、SiO2 33份、CaO 27份、K2O 5份、Na2O  2份、MgO 1.8 份，ZnO 4份； 
其制备方法如下：
1)  根据甲、乙两种熔块的组成，称取原料，将原料混合均匀；
2)  将混合好的原料于1530℃熔制好；
3)  将熔制好的熔块破碎至细度低于250目。
实施例6
甲熔块的组成为：Al2O3 10份、SiO2 70份、CaO 30份、K2O 1份、Na2O  3份、MgO 2.6 份，ZnO 3份；
乙熔块的组成为：Al2O3 18份、SiO2 38份、CaO 23份、K2O 1份、Na2O  2.8份、MgO 3.3 份，ZnO 2份； 
其制备方法如下：
1)  根据甲、乙两种熔块的组成，称取原料，将原料混合均匀；
2)  将混合好的原料于1500℃熔制好；
3)  将熔制好的熔块破碎至细度低于250目。
以上各实施例中的甲熔块始融温度在1150～1160℃之间，乙熔块始融温度在1260～1280℃之间，两者配合使用，在瓷砖的烧制过程中，甲熔块先于乙熔块熔化，乙熔块作为骨架作用，可以保证高温下顺利排气，有效减少釉面中的气泡，进而提高了产品的质量。此外，通过调节甲、乙两种熔块的配比，使其适用于不同的烧成温度，可在1150～1220℃的温度范围内使用，方便灵活，适用于不同炉温的窑炉。
将本发明实施例1～6的熔块，分别按甲熔块：乙熔块为30：100、50：100、80：100、110：100、130：100、150：100的质量比混合，按常规方法制成全抛釉砖，目检釉层中无可见气泡，釉层的透明度高。
根据GB/T3810.7—2006，陶瓷砖试验方法第7部分：有釉砖表面耐磨性的测定，检测上述全抛釉砖的耐磨性，检测结果显示，全抛釉砖磨损可见痕迹的转数＞12000转，样品的耐磨性级别为5级。

Claims (2)

1.一种全抛釉用熔块，由甲、乙两种熔块混合而成，其中，甲熔块的组成为：Al2O3 2～10份、SiO2 50～70份、CaO15～30份、K2O 1～4份、Na2O  1～4份、MgO 1～4 份，ZnO 1～4份；乙熔块的组成为：Al2O3 15～30份、SiO2 30～50份、CaO 15～30份、K2O 1～5份、Na2O  1～5份、MgO 1～4份，ZnO 1～4份，所述份数为质量份；甲、乙两种熔块质量混合比为30～150：100；其制备方法，包括以下步骤：
1)  根据甲、乙两种熔块的组成，分别称取原料，并将原料混合；
2)  将混合好的原料于1500～1580℃熔制好，分别得到甲、乙两种熔块；
3)  将熔制好的熔块破碎。
2.根据权利要求1所述的全抛釉用熔块，其特征在于：熔制好的熔块破碎至细度低于250目。
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