CN102213852B - 触摸显示装置及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种触摸显示装置,所述触摸显示装置包括位于基板上的触摸屏,所述触摸屏集成在显示装置内,所述触摸屏将与显示装置共用的部分作为导电结构。所述触摸显示装置减少了一层金属层,具有较小的厚度,同时具有良好的透光性。

Description

触摸显示装置及其制造方法
技术领域
本发明涉及液晶显示面板,特别涉及具有触摸功能的液晶显示面板。
背景技术
触摸屏可以作为一种通过显示幕对电子装置进行操作的界面工具,允许用户直接在加有触摸屏的显示装置表面通过点触或手写的方式输入信息,比鼠标、键盘等输入设备更友好、方便,因此越来越广泛地被应用于各种便携式设备上。
根据所使用的接触物的类型(如手指、笔等)以及确认点(接触物对触摸屏进行操作的位置)方式的不同,触摸屏可以分为电阻式、电容式、表面声波式、红外式等等。目前被广泛使用的是电阻式和电容式触摸屏技术。
现有的触摸屏作为用于操作的界面,通常集成在液晶显示面板(LCD)的表面上。传统的集成方式通过触摸屏与液晶显示面板分别单独制造,然后触摸屏与液晶显示面板组装,成为外挂式触摸显示装置。如图1所示,图1为现有的外挂式触摸显示装置示意图。所述外挂式触摸显示装置包括触摸屏10和液晶显示面板11。所述触摸屏10与液晶显示面板11分开制作。所述液晶显示面板11包括第一基板104和与第一基板104正对的第二基板110,位于第一基板104内侧包括黑矩阵层(Black Matrix)105,彩膜(color filter)106以及公共电极107,所述第一基板104和与第二基板110之间填充液晶108,所述第二基板110内侧包括薄膜晶体管层(TFT)109。所述触摸屏10包括保护层101、第三基板103和位于保护层101、第三基板103之间的触摸屏层102。所述保护层101的材质为玻璃或者特殊材质的膜。所述第三基板103材质为玻璃或者特殊材质的膜。所述触摸屏10的第三基板103外侧与液晶显示面板11的第一基板104外侧通过光学双面胶粘合组装成为构成触摸显示装置。所述触摸显示装置由于采用了多层玻璃基板,因此厚度较大,透光性差。
为了减少所述触摸显示装置的厚度,并提高其透光性。现有技术采用将触摸屏与液晶显示面板同时制作完成,并且所述触摸屏通常集成于液晶显示面板的第一基板的内侧或外侧。根据触摸屏在所述第一基板的位置不同,所述液晶显示面板可以分为盒上式和内嵌式。
请参考图2,图2为现有的盒上式触摸显示装置示意图。所述触摸显示装置包括触摸屏20和液晶显示面板21,所述液晶显示面板21包括第一基板203和与第一基板203正对的第二基板209,第一基板203内侧包括黑矩阵层(BlackMatrix)204,彩膜(color filter)205以及公共电极206,所述第一基板203和与第二基板209之间填充液晶207,所述第二基板209内侧包括薄膜晶体管层(TFT)208。所述触摸屏20包括保护层201、第一基板203和位于保护层201、第一基板203之间的触摸屏层202。所述保护层201的材质为玻璃或者特殊材质的膜。但是,所述盒上式触摸显示装置的触摸屏与液晶显示面板分别位于第一基板203的两侧,因此制作过过程较为复杂,并且产品的良率不高。
请参考图3,图3是现有的内嵌式触摸显示装置的结构示意图。所述触摸屏模组30包括:第一基板301和与第一基板301正对的第二基板308,所述第一基板301内侧依次包括触摸屏层302、位于触摸屏层302上方的黑矩阵层(BlackMatrix)303,彩膜(color filter)304以及公共电极305,所述第一基板301和与第二基板308之间填充液晶306,所述第二基板308内侧包括薄膜晶体管层(TFT)307。所述内嵌式触摸显示装置将触摸屏结构和液晶显示面板结构集成于第一基板的内侧,工艺简单,适合量产。
内嵌式触摸显示装置可以分为内嵌电阻式触摸显示装置和内嵌电容式触摸显示装置。所述内嵌电阻式触摸显示装置的寿命短,相比之下,内嵌电容式触摸显示装置具有使用寿命长,制造工艺简单并且可以实现多点触摸等优点成为业界主流。
请参考图4,图4是现有的内嵌电容式触摸显示装置的触摸屏层结构示意图。所述触摸屏层302包括驱动层3021、感应层3023以及位于驱动层3021和感应层3023之间的第一绝缘层3022,所述触摸屏层302还包括第二绝缘层3024,所述第一绝缘层3022用于驱动层3021和感应层3023绝缘,所述第二绝缘层3024用于将所述感应层3023与液晶显示面板的彩色滤光片(未示出)隔绝缘。
参考图5,图5为图4所示结构的俯视示意图。所述驱动层3021包括4条横向的驱动线DL(Drive Line),所述感应层3023包括5条纵向的扫描线SL(ScanLine)。所述驱动线DL将多个纵向排布的电极A连接,所述扫描线SL将多个横向排布的横向电极B连接。所述驱动线DL和扫描线SL的材质选自透明导电材料,如氧化锡铟(ITO),所述驱动线DL与扫描线SL之间具有绝缘层(未示出)。所述每条驱动线DL与所述每条扫描线SL正对交叠处形成互电容C。
当使用者的手指接触电容式触摸显示装置时,人体手指会使得所述驱动线DL与扫描线SL之间的互电容C的电容值发生改变,外部侦测电路通驱动线DL和扫描线SL依次工作获得电容值发生改变的位置坐标,从而获得触摸点的位置,将相应的信号输入至信号处理单元。
但是现有的触摸显示装置采用两层透明导电层,触摸显示装置的厚度仍然较大,透光性能较差,触摸显示装置的集成度仍然较低。在专利号为US20070291009的美国专利中采用一个ITO层和金属层作为触摸屏的两个导电层,但是仍然未能解决上述问题。
因此,需要一种新的触摸显示装置,具有较小的厚度和更好的透光性。
发明内容
本发明解决的问题是提供了一种触摸显示装置,具有较小的厚度和更好的透光性。
为解决上述问题,本发明提供一种触摸显示装置,所述触摸显示装置包括位于基板上的触摸屏,所述触摸屏集成在显示装置内,所述触摸屏将与显示装置共用的部分作为导电结构。
可选地,所述触摸屏包括:
位于基板上的触摸层,位于触摸层上方的绝缘层以及位于绝缘层上方的导电结构,所述触摸层包括若干纵向第一导线、第一电极和第二电极,所述纵向第一导线平行排布并连接所述第一电极,所述第二电极纵向平行排布于纵向第一导线之间,所述导电结构通过过孔与第二电极电连接构成触摸层的横向第二导线,所述横向第二导线垂直于纵向第一导线,且横向第二导线与纵向第一导线正对交叠。
可选地,所述纵向第一导线作为触摸屏的驱动线,所述第一电极为驱动电极,所述横向第二导线作为触摸屏的感应线,所述第二电极为感应电极。
可选地,所述导电结构包括第一方向部和第二方向部,并且有其中一个方向部和与纵向第一导线垂直。
可选地,所述导电结构的第一方向部和第二方向部相互垂直交叉排布,用于定义显示装置的像素区。
可选地,所述导电结构中和纵向第一导线垂直的方向部与所述第二电极电连接,所述导电结构中的另一个方向部具有开口。
可选地,所述导电结构为显示装置的黑矩阵层。
可选地,所述导电结构材质选自铬、氧化铬或者铬与氧化铬的组合。
可选地,所述绝缘层的材质选自氧化硅、氮化硅或者氮氧化硅。
可选地,所述触摸层材质选自透明金属。
相应地,本发明还提供一种触摸显示装置的制作方法,所述制作方法具体包括:
提供上基板;
在上基板上形成触摸层;
刻蚀所述触摸层形成若干纵向第一导线、第一电极和第二电极,所述若干纵向第一导线平行排布连接所述第一电极,所述第二电极纵向平行排布于纵向第一导线之间;
在触摸层上方沉积绝缘层;
对所述绝缘层进行刻蚀,在所述第二电极上方形成过孔;
在所述触摸层上方形成导电结构,所述导电结构通过过孔与所述第二电极电连接并构成若干横向第二导线,所述横向第二导线垂直于纵向第一导线,且横向第二导线与纵向第一导线正对交叠;
形成与所述触摸层共用所述导电结构的显示装置。
可选地,所述形成导电结构包括:形成第一方向部和第二方向部,所述形成的第一方向部和第二方向部互相垂直,并且有一个方向部和所述纵向第一导线垂直。
可选地,所述形成导电结构的第一方向部和第二方向部时,所述和纵向第一导线垂直的方向部通过过孔与所述第二电极电连接;
在所述另一个方向部上形成开口。
可选地,所述触摸层的材质选自透明金属。
可选地,所述导电结构的材质选自选自铬、氧化铬或者铬与氧化铬的组合。
可选地,所述导电结构作为显示装置的黑矩阵。
可选地,所述在所述导电结构上方形成与所述触摸层共用所述导电结构的显示装置具体包括:
在所述显示装置的黑矩阵之间形成彩色滤光片;
在所述彩色滤光片和黑矩阵上方形成公共电极;
提供阵列基板,所述阵列基板上形成有薄膜晶体管阵列;
将所述上基板和阵列基板组合并在中间加入液晶层形成液晶面板;
将所述液晶面板组装成液晶显示装置。
与现有技术相比,本发明具有以下优点:
本发明提供一种触摸显示装置,所述触摸显示装置包括触摸装置与显示装置,所述触摸屏集成显示装置内,并将与显示装置共用的部分作用的导电结构,减少了一层金属,实现了触摸与显示一体化,减少了掩模版数量,使得所述触摸显示装置的厚度更薄,光透过率更高。进一步地,所述导电结构作为液晶显示面板的黑矩阵,所述导电结构的中不与电极相连的方向部上具有随机开口,减小了信号干扰,提高了显示的可靠性。
附图说明
图1是现有的外挂式触摸显示装置示意图。
图2是现有的盒上式触摸显示装置示意图。
图3是现有的内嵌式触摸显示装置的结构示意图。
图4是现有的内嵌电容式触摸显示装置的触摸屏层结构示意图。
图5为图4所示结构的俯视示意图。
图6为本发明的第一实施例的触摸显示装置结构示意图。
图7是本发明第一实施例的触摸屏俯视结构示意图。
图8是本发明的触摸屏等效电路示意图。
图9至图10是本发明所述液晶显示面板制造流程示意图。
具体实施方式
发明人发现,现有的内嵌电容式触摸显示装置的触摸屏包括由透明金属构成的触摸层和用于跨接触摸层的金属层,整个显示装置的厚度较大。因此,发明人创造性地将显示装置的部分结构用于跨接触摸层,减小了触摸显示模组的厚度,实现了触摸显示一体化,并且,减少了掩模版数量。
本发明所述的触摸显示装置包括触摸装置以及显示装置,所述显示装置包括液晶显示面板,所述触摸装置集成于液晶显示面板的内部。以上定义适用于全文,特此说明。
下面将结合本发明的具体实施方式本发明的技术方案进行详细的说明。
请参考图6,图6是本发明第一实施例的触摸显示装置的结构示意图。作为一个实施例,所述触摸显示装置60包括:上基板601和与上基板601相对设置的阵列基板608,所述上基板601和阵列基板608之间通过框胶(未示出)结合。所述上基板601与阵列基板608正对的内侧表面依次形成有:触摸层602,位于触摸层602下方的并且与液晶显示面板共用的部分作为导电结构604,位于导电结构604和触摸层602之间的绝缘结构603,位于所述导电结构604和绝缘结构603下方的公共电极605。阵列基板608与所述上基板601正对的内侧表面形成有薄膜晶体管层607。通常液晶层606位于上基板601和阵列基板608之间。
所述触摸层602和导电结构604之间还形成有绝缘层(未示出)。所述导电结构604、绝缘层和触摸层602构成触摸屏结构。所述导电结构604同时作为液晶显示面板的结构,所述结构可以是液晶显示面板的黑矩阵或者彩色滤光片。作为本发明的一个实施例,所述导电结构604作为液晶显示面板的黑矩阵,其材质为金属,可选自铬、氧化铬或者铬与氧化铬共同组成的材质。本实施例中,所述材质选自铬。所述绝缘结构603作为液晶显示面板的彩色滤光片,所述绝缘结构603的材质选自具有透光效果的有机物,本实施例中,所述绝缘结构603的材质选自透明树脂。所述黑矩阵用于定义液晶显示面板的像素区,所述彩色滤光片用于使得液晶显示面板具有全彩色。作为本发明的又一实施例,所述导电结构604作为液晶显示面板的彩色滤光片,所述导电结构604的材质选自透明导电金属,例如是氧化铟锡,所述绝缘结构603作为液晶显示装置的黑矩阵,此时所述绝缘结构603的材质选自具有遮光效果的有机物。
为了更好的说明本发明所述的触摸显示装置的结构,请参考图7,图7是本发明第一实施例的触摸屏俯视结构示意图。所述触摸屏包括触摸层和导电结构,所述触摸层与导电结构之间具有绝缘层(未示出)。所述触摸层包括若干条纵向第一导线71,所述纵向第一导线71相互平行,且所述纵向第一导线71上排布有第一电极图形72。相邻的纵向第一导线71之间具有第二电极图形73。所述第二电极图形73与第一电极图形72错位排布。
所述绝缘层覆盖所述触摸层,并且位于第二电极图形73上方的绝缘层具有过孔74。在所述绝缘层上方的导电结构包括第一方向部80和第二方向部78。所述导电结构的第一方向部80经过过孔74与第二电极图形73电连接,第一方向部80与所述第二电极图形73共同构成横向第二导线75。本实施例中,所述纵向第一导线71为触摸屏的驱动线,所述横向第二导线75作为触摸屏的感应线。作为另一实施例,所述纵向第一导线71作为触摸屏的感应线,所述横向第二导线75作为触摸屏的驱动线。
本实施例中,所述第一方向部80与第二方向部78垂直,作为液晶显示面板的黑矩阵,用于定义显示装置的像素区。所述第二方向部78之间具有开口79,这样防止第二方向部78将所述横向第二导线75短接。由于第二方向部78作为液晶显示面板的黑矩阵的一部分,在第二方向部78上的开口79可能会使得液晶显示面板漏光。因此,作为优选的实施例,所述开口79的尺寸较小,例如为1.5~3.5微米。进一步优选地,所述开口79在第二方向部78的位置随机,或者在保证各个第二方向部78的开口79使各条横向第二导线75之间没有电连接的前提下,所述开口79在整个显示面板的分布没有规律性,这样能够减缓所述开口79对液晶显示面板显示效果的影响。
需要说明的是,所述纵向第一导线71的数目可以根据需要进行设置。本实施例中,所述触摸层包括5条纵向第一导线71。相邻的纵向第一导线71之间的距离可以相同或者不同,本实施例中,所述距离相同。所述纵向第一导线71上排布有若干第一电极图形72,所述第一电极图形72沿纵向排布。本实施例中,所述第一电极图形72的形状为菱形。根据实际情况,所述第一电极图形72的形状还可以为圆形、方形、三角形、菱形或者不规则图形。所述第一电极图形72的大小可以相同,也可以不同。作为一个实施例,所述第一电极图形72大小相同。所述第一电极图形72均匀分布于纵向第一导线71上。根据实际情况,所述第一图形72还可以不均匀地分布于纵向第一导线71上。
所述第二电极图形73,所述第二电极图形73与第一电极图形72形状可以相同也可以不同。本实施例中,所述第二电极图形73的形状与第一电极图形72的形状相同。所述第二电极图形73的排布可以为均匀排布,或者不均匀排布。本实施例优选为均匀排布。
作为一个实施例,所述过孔74具有圆形,可替代地,所述过孔74还可以为方形、梯形、椭圆形或者其他不规则图形。在本实施例中通过两个所述过孔74连接一个所述第二电极图形73到所述横向第二导线75上,可代替地,使用一个过孔74也可以使所述第二电极图形73和所述横向第二导线75电连接。
下面对所述触摸屏的工作原理进行具体说明,为了便于说明,以所述纵向第一导线71作为触摸屏的驱动线,横向第二导线75作为触摸屏的感应线为例进行说明。通常,所述触摸屏的触摸原理包括:所述触摸屏上包括按照矩阵形式排布的互电容。本实施例中,所述互电容为纵向第一导线71和横向第二导线75正对交叠处;所述互电容的位置与触摸点的位置一一对应。通常,有物体(比如人的手指或者触摸笔)和触摸点接触时,触摸点的互电容的电容值大小会发生变化,而所述电容值的变化通过驱动线和感应线的检测可以获得。所述检测通常是在驱动线加工作电压,感应线进行逐行扫描。在扫描的过程中,获得每一行对应点的电容值的变化,将所有感应线扫描完毕后,获得一系列的电容值。因此,外部检测电路根据检测发生电容值变化的位置确定触摸点的位置。请参考图8,图8是本发明的触摸屏等效电路示意图。所述电路包括:电源端701,用于为驱动线提供工作电压,电源端701具有内阻700;所述驱动线具有等效电阻702;感应线具有等效电阻705;感应线与驱动线的互电容703;感应线和驱动线与液晶显示面板的公共电极构成寄生电容704。当人的手指或者其他物体接触所述触摸屏的表面时,相应触摸点的互电容703大小发生变化,相应的,所述互电容703的变化会使得感应线输出的电流发生微弱的变化,所述电流经过运算放大器706放大后输出至外部处理电路,外部电路根据电流信号获得触摸点的位置。
相应地,本发明还提供一种制作所述触摸显示装置的方法。所述方法包括:
提供上基板;
在上基板上形成触摸层;
刻蚀所述触摸层形成若干纵向第一导线、第一电极和第二电极,所述若干纵向第一导线平行排布连接所述第一电极,所述第二电极纵向平行排布于纵向第一导线之间;
在触摸层上方沉积绝缘层;
对所述绝缘层进行刻蚀,在所述第二电极上方形成过孔;
在所述触摸层上方形成导电结构,所述导电结构通过过孔与所述第二电极电连接并构成若干横向第二导线,所述横向第二导线垂直于纵向第一导线,且横向第二导线与纵向第一导线正对交叠;
形成与所述触摸层共用所述导电结构的显示装置。
下面将结合实施例对所述方法进行详细的说明。请参考图9至图10,图9至图10是本发明所述液晶显示面板制造流程示意图。为了便于说明,图9和图10中相同的结构采用与图7相同的标号。
首先,参考图9,提供上基板70。所述上基板70为玻璃基板。所述上基板70作为液晶显示面板的彩膜基板。
然后,参考图9,在所述基板70上形成触摸层,刻蚀所述触摸层形成若干纵向第一导线(未示出)、第一电极图形72和第二电极图形73。所述若干纵向第一导线平行排布并且连接所述第一电极图形72。所述第二电极图形72纵向排布于所述纵向第一导线之间。
本实施例中,所述触摸层材质选自透明导电金属。所述透明导电金属包括氧化铟锡(ITO)。所述触摸层通过物理气相沉积或者化学气相沉积的方法形成。所述刻蚀包括湿法刻蚀。为了更好的说明所述触摸层的结构,请参考图7。所述纵向第一导线71相互平行,并且连接第一电极图形72。所述第二电极图形73纵向排布于第一导线71之间。本实施例中,所述第一电极图形72为菱形。第一电极图形72还可以为其他形状。所述第一电极图形72均匀分布于纵向第一导线71上。根据实际情况,所述第一电极图形72还可以为不均匀分布于纵向第一导线71上。所述第二电极图形73的形状与第一电极图形72的形状可以相同,也可以不同。本实施例中,第二电极图形73的形状与第一电极图形72的形状相同。所述第二电极图形73的分布与第一电极图形73的分布可以相同,也可以不同。本实施例中,所述第二电极图形73与第一电极图形73的分布相同。
然后,参考图9,在所述触摸层上方沉积绝缘层81。所述绝缘层81的材质选自氧化硅、氮化硅或氮氧化硅。本实施例中,所述绝缘层81的材质选自氮化硅。所述绝缘层81的沉积方法为化学气相沉积。
继续参考图9,对所述绝缘层81进行刻蚀,在所述第二电极图形73上方的绝缘层81内形成过孔74,露出部分第二电极图形73的表面。
请参考图7,所述过孔73位于第二电极图形73上方。作为一个实施例,所述过孔73的形状为圆形。可替代的,所述过孔73的形状还可以为圆形、方形、三角形、不规则形状等。然后,参考图10,在所述绝缘层81上方沉积导电结构,对所述导电结构进行刻蚀,形成第一方向部80和第二方向部(未示出),在所述第二方向部上形成开口(未示出)。所述第一方向部80通过过孔74与第二电极图形73相电连接。所述第一方向部80相互电连接,与所述第二电极图形73共同构成横向第二导线(未示出)。
请参考图7,所述横向第二导线75与纵向第一导线71正对交叠,在正对交叠处形成互电容。本实施例中,所述纵向第一导线71作为触摸屏的扫描线,所述横向第二导线75作为触摸屏的数据线。
参考图7,所述纵向第一方向部80与第二方向部78垂直,定义液晶显示面板的像素区。作为一个实施例,所述第一方向部80和第二方向部78同时作为液晶显示面板的黑矩阵。为了避免第二方向部78将纵向第一导线71短接,所述第二方向部72内形成有开口79。由于所述开口79可能会使液晶显示面板漏光,因此,作为本发明的优选实施例,所述开口79的尺寸较小,例如为1.5~3.5微米。进一步优选地,所述开口79在第三纵向线78的位置随机,或者在保证各个第二方向部78的开口79将横向第二导线75断开的前提下,所述开口79在整个显示面板的分布没有规律性,这样能够减缓所述开口79对液晶显示面板显示效果的影响。
本实施例中,所述导电结构的材质为金属,比如选自铬、氧化铬或者铬与氧化铬的组合。本实施例中,所述导电结构的材质选自铬,所述刻蚀包括湿法刻蚀。
上述制程完成后,形成了触摸屏结构,所述触摸屏结构与液晶显示面板共用黑矩阵。
上述方法形成了触摸屏,所述触摸屏集成于液晶显示面板的上基板内,所述上基板作为液晶显示面板的彩膜基板,按照常规制程,需要在所述导电结构上方形成彩色滤光片;在所述彩色滤光片上方形成公共电极,所述公共电极材质选自透明导电金属,至此完成液晶显示面板的彩膜基板的制程。然后,提供阵列基板,所述阵列基板上形成有薄膜晶体管阵列。接着将彩膜基板与阵列基板进行组合并且在中间加入液晶层一起形成液晶显示面板,然后液晶显示面板再经过模组工序形成液晶显示装置。以上形成所述彩色滤光片和公共电极、阵列基板的方法,以及液晶显示面板和液晶显示装置的形成方法与现有技术相同,作为本领域技术人员的公知技术,在此不做详述。
需要说明的是,所述彩色滤光片分布于位于导电结构的纵向第一方向部80与第二方向部78所定义的液晶显示面板的像素区内。同时,所述彩色滤光片的材质选自透明绝缘物质,例如是有机玻璃。
综上,本发明提供了一种触摸显示装置,将显示装置的部分结构用于触摸装置,节省了一层金属层,减小了触摸显示装置的厚度,所述触摸显示装置具有良好的透光性。
虽然本发明已以较佳实施例披露如上,但本发明并非限定于此。任何本领域技术人员,在不脱离本发明的精神和范围内,均可作各种更动与修改,因此本发明的保护范围应当以权利要求所限定的范围为准。

Claims (16)

1.一种触摸显示装置,所述触摸显示装置包括位于基板上的触摸屏,所述触摸屏集成在显示装置内,其特征在于,所述触摸屏将与显示装置共用的部分作为导电结构;所述触摸屏包括:位于上基板上的触摸层,位于触摸层上方的绝缘层以及位于绝缘层上方的导电结构,所述触摸层包括若干纵向第一导线、第一电极和第二电极,所述纵向第一导线平行排布并连接所述第一电极,所述第二电极纵向平行排布于纵向第一导线之间,所述纵向第一导线和横向第二导线交叉,所述横向第二导线由所述导电结构通过过孔与第二电极电连接构成。
2.如权利要求1所述的触摸显示装置,其特征在于,所述纵向第一导线作为触摸屏的驱动线,所述第一电极为驱动电极,所述横向第二导线作为触摸屏的感应线,所述第二电极为感应电极。
3.如权利要求1所述的触摸显示装置,其特征在于,所述导电结构包括第一方向部和第二方向部,并且有其中一个方向部和纵向第一导线垂直。
4.如权利要求3所述的触摸显示装置,其特征在于,所述导电结构的第一方向部和第二方向部相互垂直交叉排布,用于定义显示装置的像素区。
5.如权利要求3所述的触摸显示装置,其特征在于,所述导电结构中和纵向第一导线垂直的方向部与所述第二电极电连接,所述导电结构中的另一个方向部具有开口。
6.如权利要求1-5中任一项权利要求所述的触摸显示装置,其特征在于,所述导电结构为显示装置的黑矩阵层。
7.如权利要求6所述的触摸显示装置,其特征在于,所述导电结构材质选自铬、氧化铬或者铬与氧化铬的组合。
8.如权利要求1所述的触摸显示装置,其特征在于,所述绝缘层的材质选自氧化硅、氮化硅或者氮氧化硅。
9.如权利要求1所述的触摸显示装置,其特征在于,所述触摸层材质选自透明金属。
10.一种触摸显示装置的制作方法,所述制作方法具体包括:
提供上基板;
在上基板上形成触摸层;
刻蚀所述触摸层形成若干纵向第一导线、第一电极和第二电极,所述若干纵向第一导线平行排布连接所述第一电极,所述第二电极纵向平行排布于纵向第一导线之间;
在触摸层上方沉积绝缘层;
对所述绝缘层进行刻蚀,在所述第二电极上方形成过孔;
在所述触摸层上方形成导电结构,所述导电结构通过过孔与所述第二电极电连接并构成若干横向第二导线,所述横向第二导线垂直于纵向第一导线,且横向第二导线与纵向第一导线正对交叠;
形成与所述触摸层共用所述导电结构的显示装置。
11.如权利要求10所述的触摸显示装置的制作方法,其特征在于,所述形成导电结构包括:形成第一方向部和第二方向部,所述形成的第一方向部和第二方向部互相垂直,并且有一个方向部和所述纵向第一导线垂直。
12.如权利要求11所述的触摸显示装置的制作方法,其特征在于,所述形成导电结构的第一方向部和第二方向部时,所述和纵向第一导线垂直的方向部通过过孔与所述第二电极电连接;在另一个方向部上形成开口。
13.如权利要求10所述的触摸显示装置的制作方法,其特征在于,所述触摸层的材质选自透明金属。
14.如权利要求10所述的触摸显示装置的制作方法,其特征在于,所述导电结构的材质选自铬、氧化铬或者铬与氧化铬的组合。
15.如权利要求10-14中任一项权利要求所述的触摸显示装置的制作方法,其特征在于,所述导电结构作为显示装置的黑矩阵。
16.如权利要求15所述的触摸显示装置的制作方法,其特征在于,所述形成与所述触摸层共用所述导电结构的显示装置的具体步骤包括:
在所述显示装置的黑矩阵之间形成彩色滤光片;
在所述彩色滤光片和黑矩阵上方形成公共电极;
提供阵列基板,所述阵列基板上形成有薄膜晶体管阵列;
将所述上基板和阵列基板组合并在中间加入液晶层形成液晶面板;
将所述液晶面板组装成液晶显示装置。
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