CN102201494A - 一种具有光电特性的TbMnO3异质结的制备方法 - Google Patents
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Abstract
一种具有光电特性的TbMnO3异质结的制备方法,它是在0.5毫米厚的n型导电掺铌钛酸锶Nb-SrTiO3基片上外延生长100-150nm厚的TbMnO3薄膜,在二者界面处形成TbMnO3/Nb-SrTiO3异质结;该方法有五大步骤:一、用固相反应法高温烧结出TbMnO3靶材:二、利用脉冲激光沉积方法制备薄膜;三、把TbMnO3薄膜放置于双束系统中,进行镓离子注入;四、运用X射线衍射仪表征薄膜的微结构,分析薄膜的外延生长方向;五、薄膜上溅射铂作上电极,基片为下电极,采用测试仪进行电压电流特性测量和光调制。本发明构思科学,工艺先进,在电子技术工程技术领域里具有实用价值和广阔地应用前景。
Description
技术领域
本发明涉及一种具有光电特性的TbMnO3异质结的制备方法。属于电子技术工程技术领域。
背景技术
钙钛矿氧化物具有介电、铁电、压电、光电、超导、巨磁电阻以及光学非线性等很多吸引人的特性与效应.尽管钙钛矿型氧化物的性质各异,但大部分在结构上具有很好的相容性.随着制膜技术的进步和对薄膜特性研究的深入,对于完全钙钛矿氧化物器件的探索也越来越多,如肖特基结、p-n结、场效应管等。
铌Nb掺杂的SrTiO3(NSTO)实质上是电子掺杂,表现出n型掺杂的特性。低掺杂的NSTO是优良的半导体,与金属接触表现出良好的肖特基(Schottky)整流特性,而掺杂浓度较高的NSTO表现出金属特性。钙钛矿锰基氧化物一般呈绝缘体或p型半导体特性,如TbMnO3和LaMnO3,二价阳离子掺杂以后,在掺杂比例大时表现出金属特性,属空穴掺杂,如La0.67Ca0.33MnO3,La0.67Ba0.33MnO3,La0.67Sr0.33MnO3等。钙钛矿锰基氧化物与NSTO接触后,在界面会形成p-n结,很多报道的p-n结具有非常好的整流特性和很好的温度稳定性,有的p-n结不仅具有非常高的整流特性,而且有非常大的的磁效应,甚至有的p-n结还有好的光效应。
近年来,由于磁-铁电现象在磁电和磁光等装置上的潜在应用前景,人们对磁-铁电材料和物理的研究增加。最近,在磁-铁电材料的TbMnO3中发现大的磁电和磁容效应,这为实现磁和电极化的多重控制提供了可能。基于过渡金属钙钛矿氧化物TbMnO3中有很多优异的物理性能,正在开发它们在器件方面的应用。
发明内容
1、目的:本发明的目的是提供一种具有光电特性的TbMnO3异质结的制备方法,它克服了现有技术的不足,经过一定量的离子注入,该异质结在在室温表现出很灵敏的可见光调制电流 等特性。
2、技术方案:
一种具有光电特性的TbMnO3异质结,它是在0.5毫米厚的n型导电掺铌钛酸锶Nb-SrTiO3基片上外延生长100-150nm厚的TbMnO3薄膜,在二者界面处形成TbMnO3/Nb-SrTiO3异质结。基片Nb-SrTiO3是立方结构的(110)方向,TbMnO3薄膜外延的方向是(200);本发明一种具有光电特性的TbMnO3异质结的制备方法,该方法具体步骤如下:
步骤一:用固相反应法高温烧结出TbMnO3靶材:TbMnO3所用的靶材由99.99%的MnO2和Tb7O11高纯试剂粉末通过固相反应法,采用最高可达1600℃管式高温炉,在1400℃高温下、12小时反复烧结3次,得到单相的TbMnO3粉末后,再模压成直径26毫米、厚4毫米的圆饼在1450℃、12小时烧结而成TbMnO3靶材;
步骤二:利用脉冲激光沉积方法制备TbMnO3薄膜;其具体制作过程是:
衬底采用厚度0.5毫米n型导电掺铌钛酸锶Nb-SrTiO3基片;靶材采用上步模压、烧结而成的TbMnO3靶材;
采用248nm KrF激光器制备,激光的能量密度为2.2J/cm2,沉积薄膜时的衬底温度为720℃,氧气压力为35Pa,沉积后迅速充氧至1个大气压;沉积薄膜充氧后,衬底温度以每分钟3度的速率降至500℃,随后关闭激光器,自然降温;TbMnO3薄膜厚度为100-150nm;
步骤三:把TbMnO3薄膜放置于聚焦离子束和电子束组成的双束系统中,采用加速电压25-30kV进行镓离子注入,注入时间为每单位平方毫米30秒;
步骤四:运用X射线衍射仪表征薄膜的微结构,分析TbMnO3薄膜的外延生长方向。见图1,该图清晰表明生长的TbMnO3薄膜是(200)方向的单晶薄膜。
步骤五:TbMnO3薄膜上溅射厚度100nm、面积0.15mmx0.3mm铂作上电极,基片为下电极,在探针台上,采用半导体参数测试仪HP4200进行加载±5V电压电流特性测量,在测量过程中随时可加载可见光进行光调制。
3、优点及功效:本发明一种具有光电特性的TbMnO3异质结的制备方法,其特点是:制作简单,重复性好,光响应敏感,在光电器件有很好的应用前景。
附图说明
图1TbMnO3薄膜试样的X射线衍射图
图2TbMnO3试样一室温光响应电压-电流特性(20cycles)示意图
图3TbMnO3试样二室温光响应电压-电流特性示意图
图4TbMnO3试样三室温光响应电压-电流特性示意图
图5TbMnO3试样四室温光响应电压-电流特性示意图
图6本发明流程框图
图中符号说明如下:2θ-2倍衍射角,I(A)-电流(安培),V(V)-电压(伏特)
具体实施方式
见图6,本发明一种具有光电特性的TbMnO3异质结的制备方法,该方法具体步骤如下:步骤一:用固相反应法高温烧结出TbMnO3靶材:TbMnO3所用的靶材由99.99%的MnO2和Tb7O11高纯试剂粉末通过固相反应法,采用最高可达1600℃管式高温炉,在1400℃高温下、12小时反复烧结3次,得到单相的TbMnO3粉末后,再模压成直径26毫米、厚4毫米的圆饼在1450℃、12小时烧结而成TbMnO3靶材;
步骤二:利用脉冲激光沉积方法制备TbMnO3薄膜;其具体制作过程是:
衬底采用厚度0.5毫米n型导电掺铌钛酸锶Nb-SrTiO3基片;靶材采用上步模压、烧结而成的TbMnO3靶材;采用248nm KrF激光器制备,激光的能量密度为2.2J/cm2,沉积薄膜时的衬底温度为720℃,氧气压力为35Pa,沉积后迅速充氧至1个大气压;沉积薄膜充氧后,衬底温度以每分钟3度的速率降至500℃,随后关闭激光器,自然降温;TbMnO3薄膜厚度为150nm;
步骤三:把TbMnO3薄膜放置于聚焦离子束和电子束组成的双束系统中,采用加速电压25kV进行镓离子注入,注入时间为每单位平方毫米30秒;
步骤四:运用X射线衍射仪表征薄膜的微结构,分析薄膜的外延生长方向。见图1,该图清晰表明生长的TbMnO3薄膜是(200)方向的单晶薄膜。
步骤五:薄膜上溅射厚度100nm、面积0.15mmx0.3mm铂作上电极,基片为下电极,在探针台上,采用半导体参数测试仪HP4200进行加载±5V电压电流特性测量,在测量过程中随时可加载可见光进行光调制。图2-图5为TbMnO3试样一室-四室温光响应电压-电流特性示意图。
Claims (2)
1.一种具有光电特性的TbMnO3异质结的制备方法,其特征在于:该方法具体步骤如下:
步骤一:用固相反应法高温烧结出TbMnO3靶材;
TbMnO3所用的靶材由99.99%的MnO2和Tb7O11高纯试剂粉末通过固相反应法,采用最高达1600℃管式高温炉,在1400℃高温下、12小时反复烧结3次,得到单相的TbMnO3粉末后,再模压成直径26毫米、厚4毫米的圆饼在1450℃、12小时烧结而成TbMnO3靶材;
步骤二:利用脉冲激光沉积方法制备TbMnO3薄膜;
衬底采用厚度0.5毫米n型导电掺铌钛酸锶Nb-SrTiO3基片;靶材采用上步模压、烧结而成的TbMnO3靶材;采用248nm KrF激光器制备,激光的能量密度为2.2J/cm2,沉积薄膜时的衬底温度为720℃,氧气压力为35Pa,沉积后迅速充氧至1个大气压;沉积薄膜充氧后,衬底温度以每分钟3度的速率降至500℃,随后关闭激光器,自然降温;
步骤三:把TbMnO3薄膜放置于聚焦离子束和电子束组成的双束系统中,采用加速电压25-30kV进行镓离子注入,注入时间为每单位平方毫米30秒;
步骤四:运用X射线衍射仪表征薄膜的微结构,分析TbMnO3薄膜的外延生长方向;
步骤五:TbMnO3薄膜上溅射厚度100nm、面积0.15mmx0.3mm铂作上电极,衬底基片为下电极,在探针台上,采用半导体参数测试仪HP4200进行加载±5V电压电流特性测量,在测量过程中随时加载可见光进行光调制,以此完成具有光电特性的TbMnO3异质结的制备。
2.根据权利要求1所述的一种具有光电特性的TbMnO3异质结的制备方法,其特征在于:该TbMnO3薄膜的厚度为100-150nm。
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CN101645464A (zh) * | 2009-08-31 | 2010-02-10 | 北京航空航天大学 | 具有双向整流特性的铽锰氧p-n异质结及其制备方法 |
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