CN102186274B - 高亮度场致发光冷光板 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种高亮度场致发光冷光板，其特征是选用带有纳米高反射率导电层的基体，在基体上先后制作发光层、绝缘层、透明导电的ITO层，在基体的纳米高反射率导电层和透明导电的ITO层引出导线连接电源，最后覆加透明绝缘保护层制作完成；该产品由于充分发挥了纳米高反射率导电层的反射能力，使原本无效光线百分之八十到九十得到利用，大大增加了该类冷光板的亮度，使场致发光(EL)冷光板的用途大为增加，市场更加广阔，发展前景更加光明。
Description
技术领域
本发明涉及基体发光的技术领域，尤指高亮度场致发光冷光板。
背景技术
场致发光亦称电致发光，英文简称为EL。
场致发光薄膜是整体均匀而发冷光，具有光效高、节能、光线特别柔和、均匀，适于在恶劣环境下使用等诸多优点，是照明、显示、显示背光等领域最有发展前途的新型光源技术。
影响和制约场致发光(EL)技术迅速发展的瓶颈仍然是发光强度不够，特别是提供的照度偏弱。
发明内容
本发明的目的旨在克服已有技术之不足，提供了高亮度场致发光冷光板。
本发明主要提供了场致发光的纳米高反射率导电基板，使向正面的光线强度提高接近一倍，同时基板的反射导电层是一种可转移的材料，使基板可以多种多样，形状可以千变万化，为场致发光冷光板技术可以迅速发展和普及应用提供了保障。
为了达到上述目的，本发明是这样实现的：高亮度场致发光冷光板，该冷光板的制作有以下特点和步骤：
(1)高反射率导电基板的选用
a、纳米高反射率导电层的厚度为30nm～80nm，对可见光的反射率在85％以上；
b、该纳米高反射率导电层是可以转移的，可以附着在塑料如PET、ABC等以及纸、玻璃、甚至木材、陶瓷上面，且可以附着在方、园、球、柱各种形状的物体上；
c、带有反射导电层的基板可以在市场上购买，也可以委托有关厂家按要求定制。
(2)高亮度场致发光冷光板的制作：
a、在已选好的带有纳米高反射率导电层的基板上用印刷、喷涂、共蒸发、溅射等方法制造发光层：
b、在上述已制有发光层的基板上制作高透光率、高介电常数的绝缘层，如Si2NO、BaTiO3、TiO2Ce等都可以制作高质量的绝缘层；
c、在上述已制有发光层和绝缘层的基板上通过印刷，溅射制做ITO透明导电层；
d、在纳米高反射率导电层和ITO透明层设置连接导线；
e、设置透明绝缘保护层。
附图说明
附图为高亮度场致发光冷光板的示意图。
图中：1、基体，2、纳米高反射率导电层，3、发光层，4、透明绝缘层，5、ITO导电层，6、透明绝缘保护层(板)，7、电源插头，8，9、连接导线。
具体实施方法
为了更好地理解和实施，下面结合附图给出具体实施方法，详细说明高亮度场致发光冷光板。
(1)在选取好的带有纳米高反射率导电层2的基体1上用印刷、喷涂、共蒸发、溅射等方法制做发光层3，发光层的主要材料为ZnS:Mn、ZnS:Tb、SrS:Ce等场致发光材料；
(2)在上述已制作有发光层3的基体上制作高透光率、高介电常数的绝缘层4，如SiNO、BaTiO3、TiO2Ce等都可以制作高质量的透明绝缘层；
(3)在上述已制有发光层3和透明绝缘层4的基体上通过印刷、溅射制做ITO透明导电层5；
(4)在纳米高反射率导电层2和透明导电层5设置连接导线8、9，连接导线8、9与电源插头7接通；
(5)设置透明保护层(板)6，透明保护层是玻璃，也可以高透明度的塑料薄膜，也可以喷、涂一层绝缘透明的保护性涂料制作。
以上所述，实施方式仅仅是对本发明的优选实施方式进行描述，并非对本发明的范围进行限定，在不脱离本发明技术的精神的前提下，本领域工程技术人员对本发明的技术方案作出的各种变形和改进，均应落入本发明的权利要求书确定的保护范围内。
Claims (4)
1.一种高亮度场致发光冷光板，其特征是在于：在带有纳米高反射率导电层(2)的基体(1)上先后制作发光层(3)、透明绝缘层(4)、ITO透明导电层(5)、绝缘保护层(6)；从纳米高反射率导电层(2)和ITO透明导电层(5)引出连接导线(8)和导线(9)，连接导线(8)和导线(9)通过电源插头(7)接通电源即可实施高亮度发光；其纳米高反射率导电层(2)为可转移的纳米真空喷铝层，该纳米高反射率导电层(2)的厚度为30nm～80nm，对可见光的反射率在85％以上。
2.根据权利要求1所述的高亮度场致发光冷光板，其特征在于：所述带有纳米高反射率导电层(2)的基板(1)；纳米高反射率导电层(2)为可转移的纳米真空喷铝层，该纳米高反射率导电层(2)的厚度为30nm～80nm，对可见光的反射率在85％以上；该纳米高反射率导电层(2)是可以转移的，可以附着在塑料PET、ABC以及纸、玻璃、木材、陶瓷上面；且可以附着在方、圆、球、柱形状的物体上。
3.根据权利要求1所述的高亮度场致发光冷光板，其特征是在于：其制作过程是在带有纳米高反射率导电层(2)的基体(1)上，先后制作了发光层(3)、绝缘层(4)、ITO透明导电层(5)和透明绝缘保护层(6)。
4.根据权利要求1所述的高亮度场致发光冷光板，其特征在于：纳米高反射率导电层(2)和ITO透明导电层(5)上，引出了导线(8)、(9)，通过电源插头(7)接通电源，即可实施高亮度发光。
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