CN102179199A - 大型搅拌设备的集中控制系统 - Google Patents

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王辉
王洋涵
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Abstract

本发明涉及一种化工、医药、材料合成等行业所使用的大型搅拌设备的集中控制系统。该系统包括有多台搅拌机，每台搅拌机具有真空泵和带有加热装置的料斗，每台搅拌机还包括有一个PLC控制模块，PLC控制模块的检测信号输出部分可接收搅拌仓的真空度和温度检测信号，PLC控制模块的信号输入输出部分连接到一个可显示搅拌仓信息并输入控制指令的现场显示操作模块，PLC控制模块的控制指令输出部分分别连接到真空泵和料斗的加热系统；各现场显示操作模块均可将信号输出至信号总线，信号总线与位于以太网中的集中控制工控机连接，集中控制工控机设置在监控室内。本发明系统结构简单、运行可靠性高、可由较少的操作人员对多台搅拌设备进行集中监控。

Description

大型搅拌设备的集中控制系统
技术领域
本发明涉及一种化工、医药、材料合成等行业所使用的大型搅拌设备的集中控制系统。
背景技术
现有的化工、医药、材料合成等行业的生产线中，经常使用多台搅拌设备同时运行，对这些设备的控制，传统上是使用继电器、接触器等器件在现场完成，每一台设备都要有现场操作人员操作。这种方式不仅现场接线复杂、运行可靠性差、需要的操作人员多，并且也不利于对各工序的工艺参数进行集中监控。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是，提供一种系统结构简单、运行可靠性高、可由较少的操作人员对多台搅拌设备进行集中监控的大型搅拌设备的集中控制系统。
本发明的大型搅拌设备的集中控制系统包括有多台安装在生产现场的搅拌机，每台搅拌机具有控制其真空度的真空泵和带有加热装置的料斗，每台搅拌机还包括有一个PLC控制模块，PLC控制模块的检测信号输出部分可接收搅拌仓的真空度和温度检测信号，PLC控制模块的信号输入输出部分连接到一个可显示搅拌仓信息并输入控制指令的现场显示操作模块，PLC控制模块的控制指令输出部分分别连接到真空泵和料斗的加热系统；各现场显示操作模块均可将信号输出至信号总线，信号总线与位于以太网中的集中控制工控机连接，集中控制工控机设置在监控室内。
所述现场显示操作模块通过RS232接口与PLC控制模块连接。
所述连接各现场显示操作模块的所述信号总线为HART协议信号总线，HART协议信号总线通过MODOBUS协议转换器接入以太网。
本发明将多台搅拌设备的控制部分组成一套自动化控制系统，该系统以工控机为核心，运用以太网来连接整套设备，只需将多台设备的控制信号和故障报警信息通过以太网间的通信协议采集到工控机，进而工控机将信号进行自动处理和分析，最后只需一个人用工控机控制多台机器同时工作，多台机器的运行情况都能在这台工控机上体现出来，从而有效地减少了现场操作人员、减少了现场的电气布线、提高了运行可靠性，也有利于对工艺参数进行集中监控。
附图说明
图1是本发明的结构示意图。
具体实施方式
如图所示，该系统包括有多台安装在生产现场的搅拌机1，每台搅拌机具有控制其真空度的真空泵2和带有加热装置的料斗3，每台搅拌机还包括有一个PLC控制模块4，PLC控制模块的检测信号输出部分可接收搅拌仓的真空度和温度检测信号，PLC控制模块4的信号输入输出部分通过RS232接口连接到一个可显示搅拌仓信息并输入控制指令的现场显示操作模块5，PLC控制模块4的控制指令输出部分分别连接到真空泵和料斗的加热系统；各现场显示操作模块5均可将信号输出至信号总线6，信号总线与位于以太网7中的集中控制工控机8连接，集中控制工控机设置在监控室9内。所述信号总线6为HART协议信号总线，HART协议信号总线通过MODOBUS协议转换器10接入以太网。

Claims (3)

1.一种大型搅拌设备的集中控制系统，包括有多台安装在生产现场的搅拌机（1），每台搅拌机具有控制其真空度的真空泵（2）和带有加热装置的料斗（3），其特征是：每台搅拌机还包括有一个PLC控制模块（4），PLC控制模块的检测信号输出部分可接收搅拌仓的真空度和温度检测信号，PLC控制模块（4）的信号输入输出部分连接到一个可显示搅拌仓信息并输入控制指令的现场显示操作模块（5），PLC控制模块（4）的控制指令输出部分分别连接到真空泵和料斗的加热系统；各现场显示操作模块（5）均可将信号输出至信号总线（6），信号总线与位于以太网（7）中的集中控制工控机（8）连接，集中控制工控机设置在监控室（9）内。
2.根据权利要求1所述的大型搅拌设备的集中控制系统，其特征是：现场显示操作模块（5）通过RS232接口与PLC控制模块（4）连接。
3.根据权利要求1所述的大型搅拌设备的集中控制系统，其特征是：连接各现场显示操作模块（4）的所述信号总线（6）为HART协议信号总线，HART协议信号总线通过MODOBUS协议转换器（10）接入以太网。
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PB01 Publication
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C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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