CN102102050A - 光学元件清洗剂及其清洗方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种光学元件清洗剂及其清洗方法。该清洗剂组份为：氢氧化钠、三聚磷酸钠、硅酸钠、十二烷基苯磺酸钠、乳化渗透剂。清洗方法：按重量百分比取氢氧化钠、三聚磷酸钠、乳化渗透剂配制一组清洗剂，将其溶入容器水中形成清洗水剂I；按重量百分比取原料硅酸钠、十二烷基苯磺酸钠、乳化渗透剂配制一组清洗剂，并将其溶入容器水中形成清洗水剂II；使清洗水剂I和II的水溶液浓度均为0.1-0.8％，水溶液温度为30-70℃，使用条件：超声波辅助，纯水电导率大于8MΩ；再进行漂洗、脱水、蒸浴等环节来完成洗净。该清洗方法使用方便，成本低廉、清洗效果好。
Description
技术领域
本发明涉及一种清洗剂及其清洗方法，尤其是一种光学元件清洗剂及其清洗方法。
背景技术
在光学加工中，元件污染主要来源于研磨(粉)液残留，手指印及少量脂肪类油。如CeO2(二氧化铈)为主要成分的研磨粉是不会对镜片构成腐蚀的，但在进行研磨加工时，研磨液是由水加研磨粉配制而成，因此新配制的研磨液的初始pH值是由水和研磨粉的酸碱性共同决定的，一般呈碱性(pH＞7)。如前所述，玻璃遇水会产生水解反应，如方程式I：而生成的H2SiO3(硅酸)呈凝胶状态，附在玻璃表层起保护作用，阻止反应继续进行，同时一部分H2SiO3(硅酸)分解，生成的SiO2(二氧化硅)附在玻璃表面也可以减缓水解反应，起到保护作用，化学反应方程式如下：如方程式II：H2SiO3(硅酸)2H2O+SiO2(二氧化硅)玻璃表面的研磨抛光，表层的SiO2(二氧化硅)和大部分的H2SiO3凝胶被去除，打破了方程式I、II的平衡，生成更多的碱性物质，导致研磨液的pH值持续上升，其中的碱性液体与H2SiO3凝胶反应，如此循环加速水解反应，导致玻璃表面侵蚀。因此，在研磨完成后，元件表面呈碱性，如果使用非碱性洗剂，会必然导致元件侵蚀加重。
清洗元件上油脂类污染主要是在其他溶剂进行乳化、分解(非本品涉及范围)之后的残留，因此通过与碱反应生成可溶于水的肥皂和甘油(下为油脂水解简单反应原理式)，所以本品在40～50℃溶液时(或有超声波)可将其除去。大部分来源主要是芯取油残留或存放、手触摸中污染的油脂。
在光学加工中，研磨、芯取、镀膜、粘合及涂墨后光学元件都要使用清洗剂进行清洗。市场上所提供的成品清洗剂大部分是多组分复配，添加高分子合成，在清理光学加工过程中元件的污染的同时也损坏了光学元件，而成品清洗剂的价格昂贵使得本行业制造成本剧烈增加。本发明从光学加工对于元件污染的自身特点开发一种清洗剂及清洗方法，不但能够有效的对元件进行清洗，而且化学稳定性差的元件进行合理清洗。同时使其成本降低。
发明内容
本发明的目的是开发一种光学元件清洗剂，提供一种使用方便、清洗效果好、成本低廉的光学元件清洗方法。
本发明是通过下列技术方案来解决的：
本发明的清洗剂组合物，其原料配方(重量百分比)为：
氢氧化钠 0.1-0.3％
三聚磷酸钠 0.1-0.3％
硅酸钠 0.05-0.15％
十二烷基苯磺酸钠 0.05-0.15％
乳化渗透剂 0.1-0.3％
所述硅酸钠可以是偏硅酸钠。
所述乳化渗透剂可以是烷基酚聚氧乙烯醚(OP-10)或乙氧基化烷基硫酸钠(AES)。
本发明的清洗方法，包括下列方法步骤：
A、按所述重量百分比取氢氧化钠、三聚磷酸钠、乳化渗透剂配制一组清洗剂，将其溶入容器水中形成清洗水剂I，并使水溶液浓度为0.1-0.8％，水溶液温度为30-70℃，使用条件：超声波辅助，纯水电导率大于8MΩ；
B、按所述重量百分比取原料硅酸钠、十二烷基苯磺酸钠、乳化渗透剂配制一组清洗剂，并将其溶入容器水中形成清洗水剂II，使水溶液浓度为0.1-0.8％，水溶液温度为30-70℃，使用条件：超声波辅助，纯水电导率大于8MΩ；
C、清洗步骤：①将光学元件进入清洗水剂(I)，用超声波清洗70-120s；
②将光学元件进入循环纯水，进行超声波清洗70-120s；
③将光学元件进入循环过滤清洗水剂(II)，超声波清洗各70-120s；
④将光学元件进入循环纯水漂洗，超声波清洗各70-120s；
⑤将光学元件进入IPA循环过滤脱水，超声波辅助清洗各70-120s；
⑥将元光学件进入IPA蒸汽进行烘干70-120s。
所述IPA为异丙醇或无水乙醇。
具体实施方式
实施例1
在一般光学镜片研磨后清洗CeO2污染及残留，可以使用所述清洗水剂I和清洗水剂(II)，其中清洗水剂I的原料配方(重量百分比)为氢氧化钠(0.2％)、三聚磷酸钠(0.2％)、乳化渗透剂(OP-10)(0.2％)，清洗水剂(II)的原料配方(重量百分比)为硅酸钠(0.2％)、十二烷基苯磺酸钠(0.2％)、乳化渗透剂(AES)(0.2％)，使其水溶液浓度为0.5％，水溶液温度为50±5℃，使用条件为可辅助超声波，纯水电导率大于8MΩ。
清洗步骤：
①将光学镜片进入清洗水剂(I)，用超声波清洗100s；
②将光学镜片进入循环纯水，进行超声波清洗110s；
③将光学镜片进入循环过滤的清洗水剂(II)，超声波清洗各100s；
④将光学镜片进入循环纯水漂洗，超声波清洗各100s；
⑤将光学镜片进入IPA(异丙醇或无水乙醇)循环过滤脱水，超声波辅助清洗各110s；
⑥将光学镜片进入IPA(异丙醇)蒸汽进行烘干100s。
实施例2
对于光学元件芯取后少量油污(溶剂后)及指印残留，可以使用所述清洗水剂I和清洗水剂II，其中清洗水剂I的原料配方(重量百分比)为氢氧化钠(0.15％)、三聚磷酸钠(0.15％)、乳化渗透剂(OP-10)(0.15％)，清洗水剂(II)的原料配方(重量百分比)为偏硅酸钠(0.2％)、十二烷基苯磺酸钠(0.2％)、乳化渗透剂(AES)(0.2％)，并使其水溶液浓度为2.5％，水溶液温度为75±5℃，使用条件为可辅助超声波，纯水电导率大于8MΩ。
清洗步骤：①将光学镜片进入清洗水剂I中浸泡60s；
②将光学镜片进入循环过滤的清洗水剂(I)，超声波清洗100s
③将光学镜片进入纯水，进行超声波清洗110s
④将光学镜片进入可循环过滤的清洗水剂II，超声波清洗100s
⑤将光学镜片进入可流动的纯水漂洗，超声波清洗90s
⑥将光学镜片进入可循环过滤的IPA(异丙醇)脱水，超声波辅助清洗100s
⑦将光学镜片进入IPA(异丙醇)蒸汽进行烘干120s。
实施例3
对镀膜后镜片考虑其表面特殊性及要求，必须结合实际进行洗剂的调整，主要针对其为手印及落尘污染，可使用所述清洗水剂II和清洗水剂I，其中清洗水剂I的原料配方(重量百分比)为氢氧化钠(0.25％)、三聚磷酸钠(0.25％)、乳化渗透剂(OP-10)(0.25％)，清洗水剂(II)的原料配方(重量百分比)为硅酸钠(0.2％)、十二烷基苯磺酸钠(0.2％)、乳化渗透剂(AES)(0.2％)，并使清洗水剂II水溶液浓度为0.5％，水溶液温度50±5℃；清洗水剂I水溶液浓度为0.1％，水溶液温度为25±5℃；使用条件均为超声波辅助，纯水电导率大于8MΩ。
清洗步骤：①将光学镜片分别进入可循环过滤的清洗水剂II和清洗水剂I，超声波清洗各100s；
②将光学镜片进入可部分流动纯水漂洗，超声波清洗各100s；
③将光学镜片进入可部分循环过滤的IPA(无水乙醇)脱水，超声波辅助清洗各110s；
④将光学镜片进入IPA(异丙醇)蒸汽进行烘干100s。
Claims (5)
1.一种光学元件清洗剂组合物，其特征在于：原料配方(重量百分比)为：
氢氧化钠 0.1-0.3％ 三聚磷酸钠 0.1-0.3％
硅酸钠 0.05-0.15％ 十二烷基苯磺酸钠 0.05-0.15％
乳化渗透剂 0.1-0.3％。
2.按权利要求1所述的清洗剂组合物，其特征在于：所述硅酸钠可以是偏硅酸钠。
3.按权利要求1所述的清洗剂组合物，其特征在于：所述乳化渗透剂可以是烷基酚聚氧乙烯醚(OP-10)或乙氧基化烷基硫酸钠(AES)。
4.一种使用权利要求1所述清洗剂的清洗方法，其特征在于：包括下列方法步骤：A、按上述重量百分比取氢氧化钠、三聚磷酸钠、乳化渗透剂配制一组清洗剂，将其溶入容器水中形成清洗水剂I，并使水溶液浓度为0.1-0.8％，水溶液温度为30-70℃，使用条件：超声波辅助，纯水电导率大于8MΩ；
B、按上述重量百分比取原料硅酸钠、十二烷基苯磺酸钠、乳化渗透剂配制一组清洗剂，并将其溶入容器水中形成清洗水剂II，使水溶液浓度为0.1-0.8％，水溶液温度为30-70℃，使用条件：超声波辅助，纯水电导率大于8MΩ；
C、清洗步骤：
①将光学元件进入清洗水剂(I)，用超声波清洗90-120s；
②将光学元件进入循环纯水，进行超声波清洗90-120s；
③将光学元件进入循环过滤清洗水剂(II)，超声波清洗各90-120s；
④将光学元件进入循环纯水漂洗，超声波清洗各90-120s；
⑤将光学元件进入IPA循环过滤脱水，超声波辅助清洗各90-120s；
⑥将光学元件进入IPA蒸汽进行烘干90-120s。
5.按权利要求4所述的的清洗方法，其特征在于：所述IPA可以是异丙醇或无水乙醇。
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Effective date of registration: 20110804 Address after: 334000 No. 1 optical Road, Jiangxi, Shangrao Applicant after: Jiangxi Phenix Fuji Film Optics Co., Ltd. Address before: 334000 No. 1 optical Road, Jiangxi, Shangrao Applicant before: Jiangxi Fenghuang Fujinon Optical Co., Ltd. |
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| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20110622 |