CN102096244B - 取向层、液晶显示设备及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

一种取向层、液晶设备和制造取向层的方法，该方法包括在基板上沉积取向材料，该取向材料包括反应性液晶元和光引发剂，该反应性液晶元具有液晶元、在该液晶元的端部处的柔性间隔物，以及在该柔性间隔物的端部处形成的光反应端基，向该取向材料施加沿预定方向的电场，并且向已经施加电场的取向材料施加UV光从而使该光反应端基彼此聚合。

Description

取向层、液晶显示设备及其制造方法
技术领域
本发明涉及一种制造取向层的方法，特别是，涉及制造能够通过将紫外(UV)光照射到取向层的反应性液晶元(mesogen)上而对取向层进行取向处理的方法。
背景技术
液晶显示(LCD)设备是一种透射平板显示设备，其主要应用于便携式电子设备，如笔记本电脑、个人数字助理(PDA)，以及移动电话。近来，这种LCD设备也应用于高清晰度电视(HDTV)、数字电视，以及壁挂式超薄电视。就平板显示设备而言，不仅LCD设备，而且包括等离子体显示板(PDP)的很多种设备都正在得到积极地开发。然而，LCD设备由于能够大规模生产和容易驱动的特性、画面质量高等而在平板显示设备中最受关注。
为了实现LCD设备的均匀亮度和高对比率，所注入的LC分子都必须沿恒定方向取向。使LC分子取向的最具代表性的方法是通过摩擦进行取向的方法。根据这种通过摩擦进行取向的方法，将聚酰亚胺沉积在基板上作为取向层，然后进行摩擦处理，从而在取向层的表面上形成均匀的微沟槽。这些微沟槽(即通过摩擦处理而取向的聚酰亚胺分子)和LC分子在取向层表面上经历分子间相互作用，从而使LC分子在取向层的整个表面上均匀地取向。然而，在通过摩擦进行取向的方法中，由于取向层表面上形成的微沟槽的缺陷而引起随机相位失真和光散射。这可能会减弱LCD设备的功能。而且，通过摩擦处理会在取向层上产生灰尘和静电。这可能会降低生产产量并损坏基板。
发明内容
本发明的目的在于提供一种取向层及其制造方法，其能够通过使光照射到取向层上而对该取向层进行取向处理来防止由摩擦处理所引起的缺陷。
本发明的另一目的在于提供一种液晶显示(LCD)设备及其制造方法，其能够通过使光照射到取向层上而对该取向层进行取向处理来防止由摩擦处理所引起的缺陷。
为了实现这些和其他优点并且依照本发明的目的，如本文具体描述和概括描述的，提供一种制造取向层的方法，该方法包括：在基板上沉积取向材料，该取向材料包括反应性液晶元和光引发剂，该反应性液晶元具有液晶元、在该液晶元的端部处的柔性间隔物，以及在该柔性间隔物的端部处形成的光反应端基；向该取向材料施加沿预定方向的电场；以及向施加了电场的取向材料施加UV光，从而使该光反应端基彼此聚合。
为了实现这些和其他优点并且依照本发明的目的，如本文具体描述和概括描述的，还提供一种制造液晶显示(LCD)设备的方法，该方法包括：提供包括多个像素的第一基板，该多个像素由多条栅线和数据线来限定，在每个像素处设置有薄膜晶体管(TFT)；在第一基板上形成第一取向层；对第一取向层进行取向处理；提供第二基板，其上具有滤色片层和黑矩阵；在第二基板上形成第二取向层；对第二取向层进行取向处理；以及将第一基板和第二基板彼此贴合，其中第一和第二取向层的至少其一由包括反应性液晶元和光引发剂的取向材料形成，该反应性液晶元具有液晶元、在该液晶元的端部处的柔性间隔物，以及在该柔性间隔物的端部处的光反应端基，第一取向层和第二取向层的至少其一在该相应取向层被施加了沿预定方向的电场的情况下通过照射UV光而进行取向。
本发明还具有以下优点。
取向层由反应性液晶元形成，并且在被施加了电场的情况下通过用UV光照射而进行取向处理。这可以防止出现常规的问题，如由于摩擦处理而引起取向层的损坏，或者由于微沟槽的缺陷而引起随机相位失真和光散射。
本发明的上述和其他目的、特点、方面和优点将在下面结合附图对本发明进行详细描述中变得更为显而易见。
附图简述
包括附图来提供对本发明的进一步的理解，附图合并到说明书中并构成说明书的一部分，用于图解说明本发明的实施例，并且连同文字描述一起用来解释本发明的原理。在附图中：
图1示出根据本发明的取向材料的一个实例；
图2示出通过使根据本发明的取向材料聚合而形成聚合物网络的过程；
图3示出根据本发明制造液晶显示(LCD)设备的方法的流程图；
图4A示出根据本发明的LCD设备的薄膜晶体管阵列基板的结构平面视图；
图4B示出根据本发明的LCD设备的滤色片基板的结构平面视图；
图5为根据本发明的LCD设备的截面图；
图6A示出根据本发明对于在LCD设备的薄膜晶体管(TFT)阵列基板上形成的取向层所进行的取向处理；
图6B示出根据本发明对于在LCD设备的滤色片基板上形成的取向层所进行的取向处理；以及
图7示出对于在具有多个面板区域的母基板上形成的取向层所进行的取向处理。
具体实施方式
现在参照附图详细地描述本发明。
出于参照附图进行简洁描述的目的，相同或等效的部件用相同的附图标记来表示，并且不对其进行重复描述。
本发明提供一种由新的取向材料形成的取向层而不是诸如聚酰亚胺的常规取向层。该取向层具有通过诸如UV光的光照射而不是通过摩擦来确定的取向方向。这可以防止出现常规的问题，如由于随机相位失真和光散射而引起性能下降，以及由于灰尘和静电的产生而引起取向层产量下降。
在本发明中，将反应性液晶元用作取向层。该反应性液晶元是包括可聚合的端基的液晶材料，该反应性液晶元通过包括具有液晶性质和可聚合端基的液晶元而成为具有液晶相的单体分子。
一般来说，液晶同时具有晶体取向特性和流动性。这可以允许均匀地形成液晶并且易于液晶在大面积基板上取向。通过使在液晶上取向的反应性液晶元发生聚合，可以获得交联聚合物网络同时保持液晶的取向状态。
在本发明中，利用实现液晶相的棒状(杆状)液晶元作为液晶元。并且，利用可聚合的丙烯酸酯或丙烯酸甲酯作为可聚合的端基。然而，可以使用任何可聚合的官能团作为端基。
图1示出根据本发明形成取向层的取向材料的一个实例，其示出反应性液晶元即Cr108(Sc86)N155的结构。如图1中所示，反应性液晶元由液晶元、在该液晶元的端部处形成的柔性间隔物，和在该柔性间隔物的端部处形成的光反应端基所组成。
如图2中所示，当UV光照射到由上述取向材料所形成的取向层上时，反应性液晶元的光反应端基彼此发生聚合。因此，反应性液晶元形成聚合物网络。为了快速发生光聚合作用，优选向反应性液晶元添加光引发剂。
已聚合的反应性液晶元沿一个方向取向。当液晶分子与由已聚合的反应性液晶元所形成的取向层接触时，液晶分子沿着已聚合的反应性液晶元而取向。因此，液晶分子沿特定的方向而取向。
为了使液晶分子沿所希望的方向而取向，必须使已聚合的反应性液晶元沿所希望的方向而取向。为了保持取向状态，已聚合的反应性液晶元必须保持初始的取向状态。在本发明中，已聚合的反应性液晶元沿所希望的方向而取向，并且向取向层施加电场以保持该取向状态。
具体而言，通过向由反应性液晶元所形成的取向层施加电压而沿所希望的方向(液晶的取向方向)形成电场，然后反应性液晶元沿电场方向而取向。在这种情况下，照射UV光从而使已聚合的反应性液晶元沿所希望的方向取向，并保持该取向状态。当施加电场时，反应性液晶元由于其介电各向异性而发生旋转，从而沿电场而取向。在这种情况下，当用UV光来照射时，反应性液晶元移动到UV光所照射到的基板的表面。然后，反应性液晶元彼此聚合以形成稳定的液晶聚合物网络。
下文中将详细说明用反应性液晶元制造取向层的方法，以及制造液晶显示(LCD)设备的方法。
图3示出制造根据本发明的LCD设备的方法的流程图。
如图3中所示，通过驱动器件阵列方法而在第一基板上形成限定多个像素区域的多条栅线和数据线。随后，在每个像素区域处形成连接到栅线和数据线的驱动器件薄膜晶体管(S101)。然后，通过驱动器件阵列方法而形成像素电极和公共电极，其连接到TFT并且配置成通过TFT接收信号来驱动LC层。
然后，通过滤色片方法在第二基板上形成用于实现R、G和B颜色的滤色片层和黑矩阵(S105)。
然后，分别在第一和第二基板上沉积反应性液晶元来形成取向层。之后，为了向第一和第二基板之间形成的液晶层的液晶分子提供锚定力或表面固定力，在向取向层施加了电压的情况下，使UV光照射到取向层上以便对该取向层进行取向处理(S103、S104、S107、S108)。
然后，将液晶分配到第一基板上，并将密封材料沉积在第二基板的外周。然后，通过压力将第一和第二基板彼此贴合(S104、S108、S109)。分配到第一基板上的液晶通过压力而分散，从而在第一和第二基板之间形成具有均匀厚度的液晶层。尽管图中未示出，但是在第一和第二基板的至少其一上形成有柱间隔物，从而在第一和第二基板彼此贴合时恒定地保持盒间隙。
第一和第二基板中的每一个基板均由大面积的玻璃基板形成。具体而言，在大面积的玻璃基板上形成有多个面板区域，并且在每个面板区域上形成有TFT(驱动器件)和滤色片层。因此，为了制造单位LC面板，必须对玻璃基板进行切割及加工以便将其分成单位LC面板(S110)。然后，对每块分开的单位LC面板进行检查以制造LCD设备(S111)。
图4A示出通过薄膜晶体管阵列方法制造的第一基板20的结构平面视图。图4A示出面内切换(IPS)模式的结构。参照图4A，通过多条栅线2和数据线3在第一基板20上限定有多个像素。尽管图4A仅示出了第(n，m)个像素，但是在第一基板20上实质上排列了“n”条栅线2和“m”条数据线3，从而在第一基板20的整个区域上形成“n×m”个像素。在该像素内部的栅线2和数据线3之间的交点处形成有薄膜晶体管(TFT)15。
TFT15由栅极16、半导体层17、源极18和漏极19构成，该栅极16接收来自栅线2的扫描信号，半导体层17形成在栅极16上，且其形成当施加扫描信号时被激活的沟道层，源极18和漏极19形成在半导体层17上并通过数据线3接收图像信号。TFT15将从外面输入的图像信号施加于LC层。
在像素中布置有多个与数据线平行的公共电极5和像素电极7。这里，公共电极5和像素电极7在该像素中以预定角度弯曲至少一次，从而将该像素分成彼此对称的两个畴。将像素分成两个畴的原因是为了通过在相邻畴中对称地设置液晶分子以补偿视角从而增大视角。参照图4A，数据线3如同公共电极5和像素电极7一样在像素中弯曲。然而，数据线3也可以在像素中不弯曲。
在像素的上部区域布置有连接到公共电极5的公用线8，并且在公用线8上布置有连接到像素电极7的像素电极线9。像素电极线9连同公用线8形成存储电容。
在IPS模式的LCD设备中，液晶分子基本上平行于公共电极5和像素电极7而布置。一旦TFT10工作而将信号施加于像素电极7，就在公共电极5和像素电极7之间产生基本上平行于LC面板1的水平电场。液晶分子沿着该水平电场在同一平面上发生旋转。因此，可以防止由于液晶分子的折射各向异性而引起的灰度反转。
图4B示出根据本发明通过滤色片方法而在第二基板上形成的滤色片的结构平面视图。
如图4B中所示，在第二基板30上形成有黑矩阵32和滤色片层34。黑矩阵32用来防止光泄漏到LCD设备的非图像显示区域，并且在与第一基板20上已经形成有栅线2、数据线3和TFT15的区域相对应的区域上以矩阵形式来实现。而且，滤色片层34基本上用来实现多种颜色，且其形成在由黑矩阵32围绕的区域。
图5是通过将第一基板20和第二基板30彼此贴合来制造的LC面板的截面图。下文中，参照图5来更加详细地说明LC面板的结构。
如图5中所示，在第一基板20上形成有栅极16，并且在第一基板20的整个区域上叠置有栅绝缘层22。在栅绝缘层22上形成有半导体层17，并且在半导体层17上形成有源极18和漏极19。在第一基板20的整个区域上形成有钝化层24。在钝化层24上布置有彼此平行的至少一对公共电极5和像素电极7。
钝化层24由诸如苯并环丁烯(BCB)或光丙烯基的有机材料形成，或者由诸如SiO2或SiNx的有机材料形成。并且，公共电极5和像素电极7由诸如氧化铟锡(ITO)或氧化铟锌(IZO)的透明电极形成。这里，公共电极5和/或像素电极7可以由诸如铬、钼、铝，或铝合金的不透明金属材料形成。
在附图中，在钝化层24上形成有公共电极5和像素电极7。然而，可以在第一基板20上或是在栅绝缘层22上而不是在钝化层24上形成公共电极5和像素电极7。
在第二基板30上形成有黑矩阵32和滤色片层34。黑矩阵32用来防止光泄漏到液晶分子不被驱动的区域。如图所示，黑矩阵32主要形成在TFT 16的区域，并且位于像素之间(即栅线和数据线区域)。滤色片层34由R(红色)、B(蓝色)和G(绿色)组成，且用来基本上实现多种颜色。在第一基板20和第二基板30之间形成有LC层40，由此完成了LC面板。
在第一基板20和第二基板30上分别形成有第一取向层26和第二取向层36。对第一取向层26和第二取向层36进行取向处理从而使相邻的LC层40的液晶分子沿着所希望的方向而取向，并且控制透过LC层40的光的透射率，从而显示图像。
如上所述，第一取向层26和第二取向层36均由反应性液晶元形成，并且通过用UV光照射时反应性液晶元的光反应端基彼此聚合以形成聚合物网络而使这两个取向层进行取向处理。下面更详细地说明在制造LCD设备时对取向层26和36进行取向处理的方法。
图6A示出根据本发明对于在已经形成有TFT的第一基板20上形成的取向层所进行的取向处理。如图6A中所示，在已经形成有TFT阵列的第一基板20上沉积取向材料，该取向材料是通过向反应性液晶元添加光引发剂而实现的。在第一基板20上形成的阵列与图4的阵列具有相同的结构。然而，为方便起见，图6概念性地图解了该阵列。
如图所示，在第一基板20上设置有多条栅线2和数据线3，在像素中设置有TFT15。在该像素中设置有公共电极5和像素电极7，用于通过至少一次的弯曲而将该像素分成两个畴。
第一连接线52a和第二连接线52b分别连接到奇数栅线和偶数栅线，从而连接到第一垫50a和第二垫50b。来自外部的电压施加于第一垫50a和第二垫50b，从而通过第一连接线52a和第二连接线52b施加于奇数栅线和偶数栅线。具体而言，当具有预定电位差的电压施加于第一垫50a和第二垫50b时，通过该电位差而在奇数栅线和偶数栅线之间产生电场(E)。电场(E)沿着与栅线2垂直的方向而形成。
取向材料的反应性液晶元70通过电场(E)而沿着电场(E)的方向在第一基板20上取向。在这种情况下，当UV光照射到第一基板20上时，反应性液晶元70的光反应端基彼此聚合。因此，在与栅线2垂直的方向上形成聚合物网络。
当对第一基板20进行加工使其分成单位LC面板时，对第一垫50a、第二垫50b、第一连接线52a以及第二连接线52b进行切割以便将其除去。因此，第一垫50a、第二垫50b、第一连接线52a，和第二连接线52b不会布置在分开了的单位LC面板上。
由于已聚合的反应性液晶元70沿着与栅线2垂直的方向而取向，因此LC层40的液晶分子沿着已聚合的反应性液晶元70的取向方向而取向。并且，公共电极5和像素电极7形成为与栅线2成预定角。具体而言，液晶分子的取向方向以及公共电极5和像素电极7之间的电场的方向形成预定角。当由于向像素电极7施加电压而在公共电极5和像素电极7之间形成电场时，沿着已聚合的反应性液晶元的取向方向而取向的液晶分子切换为沿着电场方向而取向。这可以控制透过LC层40的光的透射率。
在液晶分子的取向方向保持与公共电极5和像素电极7成预定角的情况下，根据外加电压来切换液晶分子。因此，如图所示，公共电极5和像素电极7可以在像素中弯曲。或者，公共电极5和像素电极7也可以在像素中不弯曲，而是按照与栅线2成预定角度而倾斜地形成。
在附图中，向栅线2施加用于进行取向处理的电压。然而，也可以向公用线8施加该电压。具体而言，第一垫50a通过第一连接线52a连接到奇数公用线，且第二垫50b通过第二连接线52b连接到偶数公用线，从而向奇数公用线和偶数公用线施加具有电位差的电压。在这种配置下，一旦在奇数公用线和偶数公用线处形成电场，那么就平行于栅线2布置公用线8。因此，在反应性液晶元沿着与栅线2垂直的方向取向的情况下，UV光照射到该反应性液晶元。这可以沿垂直于栅线2的方向形成稳定的聚合物网络。
图6B示出根据本发明对于在已经形成有滤色片的第二基板30上形成的取向层所进行的取向处理。如图6B中所示，在第二基板30上形成有黑矩阵32和滤色片层34。
黑矩阵32形成在与第一基板20上形成有栅线2、数据线3和TFT15的区域相对应的区域。在与奇数栅线相对应的区域处所形成的黑矩阵位置形成电压施加线54a，并在与偶数栅线相对应的区域处所形成的黑矩阵位置形成电压施加线54b。
电压施加线54a和54b通过第三和第四连接线55a和55b连接到第三和第四垫56a和56b。电压施加线54a和54b可由诸如ITO或IZO的透明导电材料形成，或者可以由诸如钼、铬、钛、铝和铝合金的不透明金属材料形成。第三和第四垫56a和56b通过第三和第四连接线55a和55b将从外部接收的电压施加于奇数电压施加线54a和偶数电压施加线54b。具体而言，一旦将具有电位差的电压施加于第三和第四垫54a和54b，就会通过该电位差而在奇数电压施加线54a和偶数电压施加线54b之间产生电场。该电场(E)在与电压施加线54a和54b垂直的方向形成。
在附图中，为了方便，电压施加线54a和54b形成为宽度比黑矩阵32的宽度更宽。电压施加线54a和54b可以形成在黑矩阵32的下方或上方，且其宽度等于或小于黑矩阵32的宽度。
一般而言，黑矩阵32由诸如黑色树脂或CrOx或CrO2的不透明金属材料形成。当黑矩阵32由诸如CrOx或CrO2的不透明金属材料形成时，这些连接线可以直接连接到黑矩阵32以便在没有额外的电压施加线的情况下施加电压。
取向材料的反应性液晶元70通过电场(E)而沿着电场(E)的方向在第二基板30上取向。在这种情况下，一旦UV光照射到第二基板30上，反应性液晶元70的光反应端基就彼此聚合。结果，在与电压施加线垂直的方向上形成聚合物网络。
当对第二基板30进行加工使其分成单位LC面板时，对第三垫54a、第二垫54b、第三连接线55a以及第四连接线55b进行切割以便将其除去。因此，第三垫54a、第二垫54b、第三连接线55a，以及第四连接线55b不会布置在分开了的单位LC面板上。
如上所述，在本发明中，在第一和第二基板20和30上沉积由反应性液晶元形成的取向层。然后，在已经施加电场的情况下将UV光照射到该取向层上。这可使已聚合的反应性液晶元沿设定的方向取向。如图4中所示，当在第一和第二基板20和30上形成由已聚合的反应性液晶元所形成的第一和第二取向层26和36时，在第一和第二基板20和30之间注入LC以形成LC层40。由于LC层40的LC分子与第一和第二取向层26和36的已聚合的反应性液晶元相互作用，因此LC分子沿着已聚合的反应性液晶元的取向方向而取向。
具体而言，在没有向LC面板的公共电极5和像素电极7施加电压的情况下，LC层40的LC分子沿着已聚合的反应性液晶元的取向方向而在与栅线2垂直的方向上取向。然而，当由于向像素电极7施加电压而在公共电极5和像素电极7之间形成电场时，垂直于像素电极7形成的电场使得沿垂直于栅线2的方向取向的LC分子发生旋转。因此，可以控制透过LC层40的光的透射率以显示图像。
如上所述，在本发明中，通过垫向第一和第二基板20和30上形成的每个LC面板施加电压从而形成电场。然后，在取向层的反应性液晶元已经取向的情况下使UV光照射到该取向层，从而对该取向层进行取向处理。
图7示出根据本发明另一实施例对于在具有多个面板区域的母基板上形成的取向层所进行的取向处理。在图6A和6B示出的取向处理方法中，在向每个LC面板施加电压之后，UV光照射到该LC面板，从而对该取向层进行取向处理。然而，在图7示出的取向处理方法中，UV光照射到已经从外部向其施加有电场的多个LC面板上，从而同时对多个LC面板进行取向处理。
如图7中所示，将具有多个面板区域62的母基板60加载到工作台70上。面板区域62可以具有图4A中所示通过TFT阵列方法得到的结构，或者可以具有图4B中所示通过滤色片方法得到的结构。
在附图中，面板区域62以3×3的方式排列在母基板60上。然而，面板区域62可以根据母基板60的尺寸和面板区域62的尺寸而以不同方式排列。
在将母基板60加载到工作台70上的情况下，将电场施加单元72和UV照射器件75设置在工作台70的上方。电场施加单元72具有恒定的宽度，且其长度几乎与母基板60的宽度相等。第一电极73a和第二电极73b彼此隔开且具有恒定的宽度，二者从电场施加单元72的下表面沿着该电场施加单元72长度方向延伸。UV照射器件75具有与母基板60类似的长度。
在电场施加单元72布置在工作台70上方的情况下，向第一和第二电极73a和73b施加电压从而在第一和第二电极73a和73b之间形成电场(E)。在这种情况下，电场施加单元72为了扫描而从工作台70的一侧移动到另一侧。这里，在电场施加单元72处于固定状态时可以移动工作台70以进行扫描。由于电场施加单元72的长度与母基板60的宽度几乎相等，因此可以通过扫描将电场施加于母基板60的全部区域。当将电场施加于母基板60的全部区域，在母基板60的多个面板区域62上沉积的取向层的反应性液晶元沿着该电场的方向而取向。
UV照射器件75设置在电场施加单元72附近，并且与电场施加单元72一同移动。通过移动电场施加单元72或工作台70，向母基板60的面板区域62施加电场。在这种情况下，UV扫描母基板60的全部区域，从而使母基板60的多个面板区域上的反应性液晶元发生聚合。这可以形成沿着电场方向取向的LC分子网络。
具有已经取向处理过的取向层的母基板与另一母基板贴合。随后，将这两个母基板切成单元面板区域，并且在这两个母基板之间注入LC，从而形成LC面板。
或者，LC可以分配到具有已经取向处理过的取向层的母基板的面板区域上，并且该母基板可与另一母基板贴合。随后，可以将LC分配到已经贴合的基板的整个面板区域上。然后，可以将这两个母基板切成单位面板区域，从而形成LC面板。
如上所述，在本发明中，由反应性液晶元形成取向层，在已经向该取向层施加了电场的情况下使UV光照射到该取向层上。该取向处理方法可以防止由于微沟槽的缺陷而引起的随机相位失真和光散射，或者可以防止由于常规的摩擦方法而引起的取向层损坏。
在上述的描述中，利用具有特定结构的器件对取向层进行取向处理。然而，本发明不仅限于此。即，可以将能够向由反应性液晶元形成的取向层施加电场并且能够向该取向层照射UV光的任何电场施加装置或者UV照射装置应用于本发明。
在上述的描述中，公开了一种具有特定结构的LCD设备。然而，本发明可以应用于各种LCD设备。例如，详细描述中公开了IPS模式的LCD设备。然而，本发明不仅限于此，而是可以应用于扭转向列(TN)模式的LCD设备或垂直取向(VA)模式的LCD设备。
在上述的描述中，在第一和第二基板上形成的所有取向层均由通过UV光照射而进行取向处理的反应性液晶元来形成。然而，本发明不仅限于此。即，可以将反应性液晶元沉积到第一和第二基板之一上，并且可以用UV光照射从而对其进行取向处理。并且，可以在另一基板上形成诸如聚酰亚胺或聚酰胺的取向层，然后对其进行摩擦，从而对该取向层进行取向处理。亦即，根据待制造的LCD设备，由反应性液晶元形成的取向层或是由聚酰亚胺形成的取向层均可实施。
前述实施例和优点仅仅是示范性的，并不理解为限制本发明的公开内容。本发明的教导能够很容易地应用于其他类型的装置。本文的描述意在说明而非限制权利要求的范围。许多可选择的方案、修改和变化对于本领域技术人员而言是显而易见的。这里描述的实施例的特点、结构、方法和其他特性可以按照各种方式进行结合以获得其他的和/或可选择的实施例。
由于本发明的特征在不背离其特性的情况下能够以几种方式来具体体现，因此除非另有说明，否则也应当理解为上述实施例不受前面描述的任何细节的限制，而是应当在如随附的权利要求所限定的范围内概括地进行理解，因此，所有改变和修改都落入权利要求的界限和范围，或者因此随附的权利要求也意在包含等效的界限和范围。

Claims (9)

1.一种制造液晶显示设备的方法，该方法包括：
提供包括多个像素的第一基板，该多个像素由多条栅线和数据线来限定，并且在每个像素处设置有薄膜晶体管；
在第一基板上形成第一取向层；
对该第一取向层进行取向处理；
提供具有滤色片层和黑矩阵的第二基板；
在第二基板上形成第二取向层；
对该第二取向层进行取向处理；以及
将该第一和第二基板彼此贴合，
其中第一和第二取向层中的至少其一由包括反应性液晶元和光引发剂的取向材料形成，该反应性液晶元具有液晶元、在该液晶元的端部处的柔性间隔物，和在该柔性间隔物的端部处的光反应端基，并且第一和第二取向层中的至少其一在相应的取向层被施加了沿预定方向的电场的情况下通过照射UV光而进行取向。
2.如权利要求1所述的方法，其中通过在第一基板上形成的奇数栅线和偶数栅线之间施加电压而向第一基板施加电场。
3.如权利要求1所述的方法，其中通过向与第一基板的栅线相对应的第二基板的区域中所排列的奇数电压施加线和偶数电压施加线施加电压而向第二基板施加电场。
4.如权利要求3所述的方法，其中该电压施加线形成在黑矩阵的下方或上方。
5.如权利要求3所述的方法，其中该电压施加线由透明导电材料或不透明金属材料形成。
6.如权利要求1所述的方法，进一步包括：
至少一对公共电极和像素电极，其彼此平行地设置在像素内，以便产生与第一基板的表面平行的水平电场；以及
第一基板上的公用线，该公用线与公共电极相连以便向该公共电极施加信号。
7.如权利要求6所述的方法，其中通过在奇数公用线和偶数公用线之间施加电压而向第一基板施加电场。
8.一种制造LCD设备的方法，该方法包括：
将具有多个面板区域的第一母基板加载到工作台上，取向材料沉积到该面板区域上以形成取向层，该取向材料包括反应性液晶元和光引发剂，该反应性液晶元具有液晶元、在该液晶元的端部处的柔性间隔物，以及在该柔性间隔物的端部处的光反应端基；
在工作台的上方布置电压施加单元和UV照射器件；
通过电压施加单元使电场扫描第一母基板的取向层，并且使UV光扫描该取向层，从而向第一母基板的取向层施加电压和电场来使该取向层取向；
提供具有多个面板区域的第二母基板；以及
将第一和第二母基板彼此贴合，并将已贴合的这两个母基板分成单位面板区域。
9.如权利要求8所述的方法，其中提供第二基板包括：
将包括多个面板区域的第二母基板加载到工作台上，在该多个面板区域上形成取向层，该取向层具有液晶元、在该液晶元的端部处的柔性间隔物，以及在该柔性间隔物的端部处的光反应端基；
在该工作台的上方布置电压施加单元和UV照射器件；以及
使电场和UV光扫描第二母基板的取向层，从而向第二母基板的面板区域的取向层施加电压和电场来使该取向层取向。
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