CN102071087A - 铝合金轮毂专用乳化液 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种铝合金轮毂专用乳化液，组分构成为：按质量百分比，苯骈三唑：2％～3％，10号机械油：1％～2％，三乙醇胺：2％～5％；701防锈添加剂5％～10％；烷基磺酸：40％～50％；乙醇：30％～40％。
Description
技术领域
本发明涉及一种润滑液，具体地说涉及一种铝合金轮毂专用乳化液
背景技术
铝合金轮毂加工过程中，需要切削加工。使用乳化液可以减少刀具与轮毂间的摩擦，降低切削阻力，延长刀具使用寿命，同时还具有冷却和防锈功能，兼有润滑性能，可以代替已往的切削液。
发明内容
本发明铝合金轮毂专用乳化液的组分构成为：按质量百分比，苯骈三唑：2％～3％，10号机械油：1％～2％，三乙醇胺：2％～5％；701防锈添加剂5％～10％；烷基磺酸：40％～50％；乙醇：30％～40％
所述烷基磺酸钠，简称石油皂。阴离子表面活性剂一类。白色或浅黄色粉末，溶于水成半透明溶液，对碱和硬水比较稳定，本剂中用作乳化剂。所述701防锈添加剂。溶于烃类，不溶于水。在防锈油脂中作为防锈添加剂。所述三乙醇胺，本剂中用作分散剂，选用工业晶。所述乙醇，本发明中用作溶剂。所述苯骈三氮唑，本剂中用作缓蚀剂和抗氧剂，选用工业晶。所述10号机械油，起润滑作用。
制备本发明时，按配方要求，分别将各原料混合、搅拌，使固体物完全溶解即得成品，使用时将本剂配成稀溶液，使用浓度为2％一3％，即2～3份原液，97～98份水(质量％)，外观为半透明的乳化液，防锈性和清洗性，润滑性较好。
本产品是一种高性能的铝金属及其合金的专用乳化液，使用寿命很长，完全不受渗漏油、混入油的影响。采用不含氯的特制配方，专门用于解决铝金属及其合金加工时出现的种种问题(切屑粘结、刀具磨损、工件表面精度差以及表面受到污染等)。亦能有效地防止加工工件生锈或受到化学腐蚀，还能有效的防止细菌侵蚀感染。
本发明的优点在于：
(1)本剂具有冷却、清洗、防锈、润滑等多种功能，大大提高工效，减少刀具磨耗，降低成本，节省劳动力。
(2)长寿命使用，良好的清洗性能，加工机床、轮毂干净清爽
(3)极佳防锈性，使轮毂在工序传递过程中不腐蚀，机床无锈蚀危险
(4)优良的润滑性，使轮毂的光洁度可提高
(5)很好的冷却性，保证刀具和轮毂无烧伤
(6)本品不含亚硝酸钠，抗菌力强，稳定性好，对皮肤无不良刺激，对人体无害。
具体实施方式
具体实施例1：按质量百分比，苯骈三唑：2.3％、10号机械油：1.9％、三乙醇胺：3.5％、701防锈添加剂：9％、烷基磺酸：48％；乙醇：35.3％。
具体实施例2：按质量百分比，苯骈三唑：2.6％；10号机械油：1.6％；三乙醇胺：4％；701防锈添加剂：8％；烷基磺酸：45％；乙醇：38.8％。
具体实施例3：按质量百分比，苯骈三唑：2.9％；10号机械油：1.3％；三乙醇胺：3％；701防锈添加剂：7％；烷基磺酸：46％；乙醇：39.8％。
Claims (4)
1.铝合金轮毂专用乳化液，其特征在于：由苯骈三唑、10号机械油、三乙醇胺、701防锈添加剂、烷基磺酸、乙醇组成，组份构成为：按质量百分比，苯骈三唑：2％～3％，10号机械油：1％～2％，三乙醇胺：2％～5％；701防锈添加剂5％～10％；烷基磺酸：40％～50％；乙醇：30％～40％。
2.按照权利要求1所述的铝合金轮毂专用乳化液，其特征在于：最佳实施方案1，按质量百分比，苯骈三唑：2.3％、10号机械油：1.9％、三乙醇胺：3.5％、701防锈添加剂：9％、烷基磺酸：48％；乙醇：35.3％。
3.按照权利要求1所述的铝合金轮毂专用乳化液，其特征在于：最佳实施方案2，按质量百分比，苯骈三唑：2.6％；10号机械油：1.6％；三乙醇胺：4％；701防锈添加剂：8％；烷基磺酸：45％；乙醇：38.8％。
4.按照权利要求1所述的铝合金轮毂专用乳化液，其特征在于：最佳实施方案3，按质量百分比，苯骈三唑：2.9％；10号机械油：1.3％；三乙醇胺：3％；701防锈添加剂：7％；烷基磺酸：46％；乙醇：39.8％。
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| WO2009106359A1 (de) * | 2008-02-28 | 2009-09-03 | Carl Bechem Gmbh | Niedrigviskos bis hochviskos eingestellte wasserbasierte schmierstoffzusammensetzung |
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2009
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| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20110525 |