CN102016120A - 具有改进的水软化性能、较低的重金属释放的用于热液压应用的装置和相关的制造方法 - Google Patents
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Abstract
用于热液压应用的装置，其中预定与水接触的至少一部分表面上涂膜，所述膜包括通过等离子体相聚合一种或更多种含硅酮的单体施加的至少一层材料。获得该装置的相对方法包括下述步骤：在真空腔室内预调节用于热液压应用的装置；使真空腔室达到0.01-100Pa的压力条件；将含至少一种含硅酮的单体的第一气体混合物引入到所述腔室内；通过电磁波使所述含硅酮的单体成为等离子体状态；维持电离化条件足够一段时间，以使含硅酮聚合物的层施涂到所述装置的至少一部分表面上。
Description
本发明涉及具有改进的水软化性能、较低的重金属释放的用于热液压应用的装置和获得所述装置的方法。对于本发明目的来说，术语用于热液压应用的装置是指在实现热水或蒸汽生产体系中所使用的用于商业、工业和家庭使用的组件。例如，它包括热液压应用的装置，例如传输管、元件、阀门、锅炉和在例如下述应用中使用的类似物品：在自动和半自动机器中，为了商业和家庭这两个目的生产用于热饮的热水或蒸汽的体系，家庭用具，例如熨斗、加湿器、水壶、洗碗机、洗衣机；地板洗涤器和使用热水或蒸汽的类似应用，不管家庭还是工业；其中使用热水或蒸汽为了个人卫生目的的体系；用于工业应用的水加热体系。
已知在水加热工艺过程中形成的大量固体沉积物取决于许多因素：温度、盐浓度、pH、水的流速、抑制剂的存在、基底的粗糙度和化学组成以及有助于使该现象更加复杂的其他条件。事实上，饮用水含有引起固体物质沉积物的大量物种，例如钙和镁离子，可溶硅酸盐化合物，亚铁离子和其他。这一沉积物(下文用术语“石灰石”指代)主要由在各种热水或蒸汽发生体系的热壁上沉淀的钙和镁盐引起。所形成的沉积物主要是钙盐(例如，碳酸盐、磷酸盐、硫酸盐)、镁盐，二氧化硅或硅酸盐，氧化亚铁和氢氧化亚铁，磷酸锌和氢氧化锌。
通过包含溶解的盐的水，例如在饮用水中发现的那些引起沉积物和石灰石水垢，和当部分水蒸发时，例如在加热作用过程中开始这一现象。
在例如传输管中，和在加热元件上，在阀门内，和在锅炉壁上形成的水垢实际上可引发通过连续石灰石形成引起的结块(block)，所述连续石灰石形成逐渐减少热水或蒸汽必须通过其中的空间。当发生这一现象时，结块的体系或组件停工，和它们必须被更换或清洁。结果导致这一石灰石沉积物的形成与生长，因为它对它在其上形成的表面具有强烈的粘附性，从而引发阀门内孔隙或者锅炉体内的开口完全堵塞，以及元件功能故障。事实上，随着时间流逝，水加热的副产物造成了妨碍使用热水或蒸汽生产体系。
目前消除沉积物和恢复热水或蒸汽传输的操作功能的唯一方法要求机械清洁作用，或者更常见的是使用酸溶液溶解沉积物。
为了增加这些体系的操作寿命，常常使用降低水硬度的方法或者防止石灰石形成的方法处理进入的水，但这些体系没有消除该问题且造成整个体系的复杂度和成本增加，从而还要求规则的维护中断。
根据以上提供的说明可看出，多个解决方法提出的常规地已知的热液压应用的装置存在一系列范围的缺点，但没有完全满意的结果。
基于这些考虑，本发明的主要目的是提供热液压应用的装置，它能克服前述缺点。
在这一目的内，本发明的一个目的是提供配有改进的水软化性能的热液压应用的装置。
本发明进一步的目的是提供高度可靠、相对容易生产和处于竞争性成本下的热液压应用装置。
通过本发明的热液压应用的装置实现这一目的以及这些和进一步更加详细地描述的其他目的，其特征在于预定与水接触的至少一部分表面涂上含至少一层材料的膜，所述膜使用含硅的一种或更多种单体的等离子相聚合而施加。
在进一步的方面中，本发明还涉及制备具有改进的水软化性能的用于热液压应用的器件的方法；本发明的方法的特征在于它包括下述步骤：
a)在真空腔室内设置用于热液压应用的装置；
b)使真空腔室达到范围为0.01-100Pa的压力条件；
c)将含至少一种含硅酮的单体的第一气体混合物引入到所述腔室内；
d)通过电磁波使所述含硅酮的单体成为等离子体状态；
e)维持电离化条件足够一段时间段，以使含硅酮聚合物的层施涂到所述装置的至少一部分表面上。
本发明的装置和方法有助于克服在已知类型的装置中存在的问题和缺点。换句话说，通过施加特定的涂层进行实验，所述特定涂层通过特定技术在装置的至少一部分表面上产生，从而在显著的程度上降低在所述表面上石灰石的形成，其中从所讨论装置以及在其内安装该装置的任何体系的一般的使用和有用的操作寿命的角度考虑，这具有明显的优势。
优选地，所述含硅酮的单体选自：六甲基二硅氧烷、四甲基硅烷、四乙氧基硅烷、3-环氧丙氧丙基三甲氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、二甲氧基甲基苯基硅烷、四乙氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、三乙氧基乙烯基硅烷、八甲基环四硅烷、甲基三乙氧基硅烷、二-乙氧基甲基苯基硅烷、三(2-甲氧基乙氧基)乙烯基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、二甲氧基二苯基硅烷、四甲基二硅氮烷、六甲基二硅氮烷、二乙氧基甲基硅烷、乙基三甲氧基硅烷、四甲氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、二甲氧基二甲基硅烷、四甲基二硅氧烷、四甲基-乙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、三甲基甲氧基硅烷、四乙基硅烷和硅烷。
此外，所述含硅酮的单体优选是在0.01-100Pa的条件下为气态有机硅氧烷的单体。
优选地，施加在装置表面上的聚合材料的化学式为：
SiOxCyHzNw
其中0.1≤x≤10，0≤y≤10，0≤z≤10，0≤w≤10。
根据本发明装置的具体实施方案，使用含硅的一种或更多种单体的等离子相聚合施加的所述膜具有与天然石英或SiO2或硅酮类，例如SiOxCyHzNw相类似类型的单一组成。
根据本发明装置的具体实施方案，所述膜包括使用含硅的一种或更多种单体的等离子相聚合施加的不同组成的多层材料层。例如，所述膜可包括化学式为SiOx的第一层，其中x＝2，和化学式为SiOxCyHzNw的第二层。
不管单层还是多层组成，施加到装置表面上的材料的层厚可根据要求而变化。已经证明0.01-10微米的厚度通常保证良好的抗石灰石性能的结果。
可通过在等离子相中沉积特定单体，制备本发明的装置。
根据等离子相聚合技术，也称为PECVD技术(等离子体强化的化学气相沉积)，换句话说，借助等离子体，通过化学反应沉积；使可能地与其他气体混合的主试剂(单体)在约100Pa-0.01Pa的压力下达到等离子状态。在这些条件下，单体分裂成碎片并与其它分子键合形成聚合物。
通过使试剂气体达到等离子体状态，发生低压聚合有机或无机膜的工艺；对于本发明的目的来说，术语等离子体是指激发气体，因此由中性物种和没有键合到彼此上的电子与离子组成，但总体来说，是电中性的。
根据本发明，采用PECVD技术，可在打算与加热的水接触的装置的至少一部分表面上沉积含一层或更多层SiOxCyHzNw组成的微细层的膜。术语x、y、z和w可根据所要求的化学特征而变化，且范围从无机到硅酮化合物。由于这些层的沉积，因此可实现在大的程度上降低粘合性的表面，和因此还降低石灰石沉积物的形成、生长与沉积。
沉积反应所使用的单体是硅酮基有机和无机化合物。在实践中实现本发明可使用的典型的硅酮基有机化合物选自包括含硅酮、氧、碳、氢和可能地氮的所有有机硅氧烷化合物的组，其中它们在100Pa-0.01的压力间隔内是气态。例如，这些可包括六甲基二硅氧烷、四甲基硅烷、四乙氧基硅烷、3-环氧丙氧丙基三甲基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、二甲氧基-甲基苯基硅烷、四乙氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、三乙氧基乙烯基硅烷、八甲基环四硅氧烷、甲基三乙氧基硅烷、二-乙氧基甲基苯基硅烷、三(2-甲氧基乙氧基)乙烯基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、二甲氧基二苯基硅烷、四甲基二硅氮烷、六甲基二硅氮烷、二乙氧基甲基硅烷、乙基三甲氧基硅烷、四甲氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、二甲氧基二甲基硅烷、四甲基二硅氧烷、四甲基乙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、三甲基甲氧基硅烷、四乙基硅烷和硅烷。
将一种或多种硅酮单体引入到反应腔室内，且可能地添加一些氧气。试剂气体的分压之比决定了所产生的膜的化学类型。通过相对于单体，增加氧气量，将成比例地继续降低涂层中的碳含量，直到它完全不含碳(例如形成SiO2)。
通过改变单体的含量和/或其相对比例和/或其与可能存在的任何氧的比例关系，例如通过改变有机硅氧烷气体与氧气的分压比，可甚至产生数个连续的叠加层，其中各自可具有不同的x、y、z、w指数。
本发明的方法代表在需要得到保护避免形成石灰石的那些装置，例如锅炉、加热元件和方面的涂层内的有利应用。抗石灰石处理可应用到根据特定要求的敏感组件之一或所有上。
可使用金属或合金材料的组件，生产热液压装置，就如同它们可由含橡胶材料的聚合物生产一样。证明可在所述单体由其制备的任何类型材料上沉积所述组件由其组成的聚合物材料层，从而获得相同的有益效果。
在真空腔室内，换句话说，与真空源，典型地能在腔室内产生0.01-100Pa的低压的一个或更多个真空泵或一些其他合适的抽吸设备连通的腔室内，进行施加或沉积含一层或更多层聚合物层的覆盖膜的步骤组成的方法。
将要求抗石灰石性能的一种或更多种装置置于腔室内。通过例如天线(antenna)供应能量，将可能地与氧气混合的单体变为等离子体状态；典型地在高频，例如13.56MHz下，或者低频，例如约KHz(低频)或者在微波频率下，或者通过直流电(DC)，使用任何类型的射频发生器，以电磁能形式供应能量。
当气体被激发并变为物理等离子体状态时，发生电离，从而形成高度反应性物种。有机硅氧烷气体等离子体(若可能地与氧气混合的话)具有反应副产物CO2和H2O，和可能的未反应的单体。
使用PECVD技术获得的聚合物在接近引入到加工腔室内的装置的表面内形成。在产品的一个或多个暴露表面上形成非常微细的薄膜，其厚度介于数打(dozen)微米和数毫米之间，和根据本发明的工艺条件，可认为具有与天然石英或硅酮类型类似的组成，因此在涂料组合物内具有碳含量，或者通过每次改变有机硅氧烷和氧气的比例，可获得多层膜。
可在没有干扰等离子体形成的情况下，而是通过改变形成涂层过程中试剂的比例，获得多层类型涂层的形成。
根据本发明的优选实施方案，在使用前述等离子体方法，施加薄膜(不管单层还是多层)在装置上之前，必须使用所谓的“等离子体接枝”方法，预处理装置或一部分表面。
术语“等离子体接枝”是指其中在至少一部分产品表面上发生氧化反应的工艺。对于本发明的目的来说，措辞“等离子体接枝”是指在等离子体相过程中，在使用PECVD技术依次涂布的表面或一部分表面上形成的化学基团施加的工艺。根据所使用的等离子体类型，可施加oxydril、amminic或类似基团到产品上。
采用等离子体接枝预处理获得的效果是双重的：由于其氧化能力，因此通过消除裂解和蒸发的任何有机污染物；和通过氧化表面，从而制备用于PECVD沉积的基底。换句话说，使用等离子体接枝的任何预处理可在基底和使用PECVD技术获得的连续的薄膜之间提供改进的锚定粘合性。
这一方法所使用的气体可以是下述中的任何一种：氧气、空气、氮气、二氧化碳、氮氧化物，或在任何情况下，能在装置表面上引发氧化反应的所有气体等离子体。
可在与使用PECVD技术的薄膜沉积所使用的相同腔室内发生等离子体接枝预处理。在这一情况下，可在预处理之后直接地，换句话说，在没有干扰等离子体形成和引入涂布层形成所需的试剂到腔室内，沉积膜。
因此，可使用等离子体接枝工艺，通过使用在等离子体相内的聚合体系，用厚度变化的至少一层膜依次涂布产品，从而预处理产品。按照类似的方式，在其中没有进行预处理的情况下，可通过将装置置于真空腔室内，和一旦达到所要求的真空水平(例如，0.01Pa-100Pa)，和通过引入在这些条件和温度下为气体的主要试剂(单体)，从而获得该效果。所述气体可以与其他气体，例如氧气混合。通过电磁波，将气体依次变为等离子体状态，所述电磁波将引发在产品表面上形成0.01-10微米的非常微细的层形式的涂层。
优选地，在装置上的等离子体形成阶段中，反应时间根据待沉积的所需膜后，在1分钟-3小时之间变化。
实施例
在一系列范围的装置上，评估本发明的抗石灰石性能，所述装置将控制在连续热水传输的体系上石灰石的粘合量和特征。根据本发明的目的，处理与热水接触的传输体系的所有部分，换句话说，电子元件(耐热镍铬铁合金材料)、锅炉体(黄铜材料)、锅炉顶部(黄铜材料)、分配控制的电阀门单元(黄铜材料)、具有导入密封件的电阀门闭合活塞(黄铜和钢材料)，水管道系统(黄铜材料)。体系中没有采用水软化剂过滤器，以便评估在最苛刻的条件下的体系性能。
此外，根据本发明，在施加防护性抗石灰石层之前，在具有不同表面光洁度面饰层的样品上进行平行测试。尤其测试三类面饰层：酸洗、喷砂或使用表面活性产品彻底(plai)脱脂。
在用单一、基本上均匀层涂布的样品上，以及在具有组成可变的两层的样品上进行实验；另外，为了对比目的，还评估未处理的样品。
在所述的实验中，在下述操作条件下，用本发明目的的涂层处理前述组件：
实施例1：单层涂布
第1阶段：用等离子体接枝预处理
a.气体类型：O2
b.等离子体发生频率：13.56MHz
c.等离子体发生功率：600W
d.处理持续时间：2分钟；
第2阶段：用抗石灰石膜-SiOx类涂布(其中x＝2)
a.气体类型：O2和HMDSO
b.流速比O2/HMDSO＝11.5
c.等离子体发生频率：13.56MHz
d.等离子体发生功率：600W
e.处理持续时间：60分钟。
实施例2：多层涂布
第1阶段：用等离子体接枝预处理
a.气体类型：O2
b.等离子体发生频率：13.56MHz
c.等离子体发生功率：600W
d.处理持续时间：2分钟；
第2阶段：首先用抗石灰石膜-SiOx类涂布(其中x＝2)
a.气体类型：O2和HMDSO
b.流速比O2/HMDSO＝11.5
c.等离子体发生频率：13.56MHz
d.等离子体发生功率：600W
e.处理持续时间：30分钟；
第3阶段：用硅酮类抗石灰石膜二次涂布
a.气体类型：O2和HMDSO
b.流速比O2/HMDSO＝2.5
c.等离子体发生频率：13.56MHz
d.等离子体发生功率：600W
e.处理持续时间：30分钟；
试验体系的特征如下所述：
1.功率的内部体积：157cm3
2.加热元件的总长度：65cm
3.加热元件的直径：8.5mm
4.入口处水硬度为15°f的饮用水
5.出口处的平均水温：75℃
6.功率内的平均水温：103℃
试验由连续依次传输用量等于50cm3和90cm3的热水组成。在下述传输时间间隔下，监控锅炉的操作条件：10,000、20,000、30,000、45,000、65,000，检测各组件并尝试用水喷射流除去石灰石，控制对基底的粘合。
结果如下所述：
10,000传输时间间隔
参考例(未涂布的装置)：石灰石强烈地粘附到所有组件上(尤其粘附到加热元件上)，且不可能用水除去。孔隙部分减少，这是因为存在石灰石沉积物。石灰石还粘附到闭合的活塞，其中包括橡胶密封部件上。该体系正确地操作。
实施例1(具有单层涂层的装置)：石灰石量显著地不如未处理的装置，和在存在的情况下，容易用水除去，从而显露最初的表面；阀门孔隙清楚。在活塞和橡胶密封件上没有石灰石的迹象。该体系正确地操作。
实施例2(具有多层涂层的装置)：石灰石量显著不如未处理的装置，和在存在的情况下，容易用水除去，从而显露最初的表面；阀门孔隙清楚。在活塞和橡胶密封件上没有石灰石的迹象。该体系正确地操作。
20,000传输时间间隔
参考例(未涂布的装置)：体系停工，因为在一些阀门孔隙上石灰石堵塞。加热元件变为附着在锅炉上的石灰石的单一固体块料。中断试验。在没有使用酸性化学品的情况下，不可能从任何组件上除去石灰石。该体系不再可操作。
实施例1(具有单层涂层的装置)：石灰石的量大于在10,000传输时间间隔之后的试验。观察到较大量的石灰石，尤其在加热元件上，且强烈地粘附。在其他部件上，若存在的话，石灰石容易用水除去，从而显露最初的表面；阀门孔隙清楚。在活塞和橡胶密封件上没有石灰石的迹象。该体系正确地操作。
实施例2(具有多层涂层的装置)：石灰石量与10,000传输的时间间隔试验之后相同。在加热元件上的石灰石仅仅小量增加。在任何情况下，若存在的话，石灰石容易用水除去，从而显露最初的表面；阀门孔隙清楚。在活塞和橡胶密封件上没有石灰石的迹象。该体系正确地操作。
30,000传输时间间隔
实施例1(具有单层涂层的装置)：石灰石的量大于在20,000传输时间间隔之后的试验。在加热元件上和在锅炉体上存在石灰石形成迹象，它足够坚固，以致于不可能单独用水除去。在其余部件中，石灰石容易用水除去，从而显露最初的表面；阀门孔隙清楚。在活塞和橡胶密封件上没有石灰石的迹象。该体系正确地操作。
实施例2(具有多层涂层的装置)：石灰石量基本上与在20,000传输的时间间隔试验之后相同，但加热元件例外，其中存在较大量的石灰石形成，一部分石灰石不可能用水除去，但没有牺牲体系的操作。在其余部件中，若存在的话，则石灰石容易用水除去，从而显露最初的表面；阀门孔隙清楚。在活塞和橡胶密封件上没有石灰石的迹象。该体系正确地操作。
45,000传输时间间隔
实施例1(具有单层涂层的装置)：石灰石量显著较大，且牺牲了装置的用途。石灰石粘附到加热元件和锅炉体上使得不可能用水单独除去石灰石。该体系不再可操作。
实施例2(具有多层涂层的装置)：与在30,000传输时间间隔之后的试验相比，石灰石量增加，尤其在加热元件上和在锅炉体上，且没有牺牲体系的操作。在所有观察点内检测到较大量的石灰石。在各个区域内，在存在石灰石的情况下，它容易用水除去，从而显露最初的表面；阀门孔隙清楚。在活塞和橡胶密封件上没有石灰石的迹象。该体系正确地操作。
65,000传输时间间隔
实施例2(具有多层涂层的装置)：与在45,000传输时间间隔之后的试验相比，石灰石量增加，尤其在加热元件上和在锅炉体上，然而，没有牺牲体系的操作。在所有观察点内检测到较大量的石灰石。在各个区域内，在存在石灰石的情况下，它容易用水除去，从而显露最初的表面；阀门孔隙清楚。在活塞和橡胶密封件上没有石灰石的迹象。该体系正确地操作。
由于试验被视为足够彻底，因此停止试验。实验证明，使用PECVD技术获得的在SiOx化学式的单层(其中x＝2)和硅酮多层二者内，SiOxCyHzNw的涂层能增加水传输体系的操作能力，从而证明它们有效地抗石灰石处理。而且，它们拥有的附加优势是，不含可能在水中释放的重金属。
还注意到，在施加本发明涂层之前，酸洗、喷砂或脱脂的体系显示出相同的行为。
根据前述说明，可清楚地看出，本发明热液压应用的装置，以及获得所述装置的方法实现可预定的任务和目标。
本发明热液压应用的装置的实例包括传输管、元件、阀门、锅炉和类似组件。这些装置有利地应用于例如下述体系：在商业和家庭二者的自动和半自动机器中，生产用于热饮的热水或蒸汽的体系；家庭用具，例如熨斗、加湿器、水壶、洗碗机、洗衣机；地板洗涤器和使用热水或蒸汽的类似应用，不管家庭还是工业；其中使用热水或蒸汽为了个人卫生目的的体系；用于工业应用的水加热体系。
而且，已发现，使用以上提及的涂层降低重金属的释放。特别地，使用由根据以上所述的工序处理和未处理的黄铜合金制造的锅炉，然后根据下述工序，测量释放到水内的金属浓度，从而进行试验。
a)用25cm3双蒸馏水(bi-distilled water)填充锅炉，然后密闭；
b)使用为维持水温在90℃下而控制的加热元件，在90℃下加热水2小时；
c)第二天，添加水，以补偿蒸发，并重复步骤b)；
d)反复试验总计80小时热处理；
e)添加水，恢复起始体积，然后进行测定金属含量的分析。以下报道了处理和未处理的锅炉二者的结果。
试验结果(金属含量mg/l)
Cu：未处理0.436；处理过0.072
Pb：未处理1.027；处理过0.079
Fe：未处理0.001；处理过0.00083
Zn：未处理2.61；处理过1.073
Mn：未处理0.00083；处理过0.00026
Ba：未处理0.0038；处理过0.0012
因此，结果表明本发明的方法显著减少释放到水内的金属。在水为用于饮用或人类使用目的的情况下，这是尤其重要的。
根据前述说明，可采用其他特征、改性或改进，因为它们在本领域技术人员的一般技能以内。所述特征、改性或改进因此被视为本发明的完整部分。在实践中来说，所使用的所有材料，以及所有可能的尺寸和形状/形式可以是根据要求和现有技术的技术状态的任何种类。
Claims (18)
1.用于热液压应用的装置，其特征在于将预定与水接触的至少一部分表面上涂膜，所述膜包括通过等离子体相聚合一种或更多种含硅酮的单体施加的至少一层材料。
2.权利要求1的用于热液压应用的装置，其特征在于所述含硅酮的单体选自：六甲基二硅氧烷、3-环氧丙氧丙基三甲基硅烷、四甲基硅烷、四乙氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、二甲氧基甲基苯基硅烷、四乙氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、三乙氧基乙烯基硅烷、八甲基环四硅烷、甲基三乙氧基硅烷、二乙氧基甲基苯基硅烷、三(2-甲氧基乙氧基)乙烯基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、二甲氧基二苯基硅烷、四甲基二硅氮烷、六甲基二硅氮烷、二乙氧基甲基硅烷、乙基三甲氧基硅烷、四甲氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、二甲氧基二甲基硅烷、四甲基二硅氧烷、四甲基乙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、三甲基甲氧基硅烷、四乙基硅烷和硅烷。
3.权利要求1或2的用于热液压应用的装置，其特征在于所述材料的化学式为：
SiOxCyHzNw
其中0.1≤x≤10，0≤y≤10，0≤z≤10，0≤w≤10。
4.前述任何一项权利要求的用于热液压应用的装置，其特征在于所述膜包括通过等离子体相聚合一种或更多种含硅酮的单体施加的具有不同组成的多层材料层。
5.前述任何一项权利要求的用于热液压应用的装置，其特征在于所述膜包括化学式SiOx的第一层，其中x＝2，和化学式为SiOxCyHzNw的第二层。
6.前述任何一项权利要1求的用于热液压应用的装置，其特征在于通过等离子体相聚合施加的所述材料层的厚度为0.01-10微米。
7.前述任何一项权利要求的用于热液压应用的装置，其特征在于所述含硅酮的单体是在0.01-100Pa的压力条件下为气态的有机硅氧烷单体。
8.一种热液压体系，它包括一种或更多种前述任何一项权利要求的装置。
9.选自下述中的热液压体系：在商业和家庭的自动和半自动机器中生产用于热饮的热水或蒸汽的体系；家庭用具，例如熨斗、加湿器、水壶、洗碗机、洗衣机；家庭和工业用的地板洗涤器和使用热水或蒸汽的类似设备；其中使用热水或蒸汽为了个人卫生目的的体系；用于工业应用的水加热体系，它包括一种或更多种权利要求1-7任何一项的装置。
10.具有改进的水软化性能的用于热液压应用的装置的制备方法，其特征在于它包括下述步骤：
a)在真空腔室内设置用于热液压应用的装置；
b)使真空腔室达到范围为0.01-100Pa的压力条件；
c)将含至少一种含硅酮的单体的第一气体混合物引入到所述腔室内；
d)通过电磁波使所述含硅酮的单体成为等离子体状态；
e)维持电离化条件足够一段时间，以使含硅酮聚合物的层施涂到所述装置的至少一部分表面上。
11.权利要求10的方法，其特征在于所述含硅酮的单体选自：六甲基二硅氧烷(HMDSO)、四甲基硅烷(TMS)、四乙氧基硅烷(TEOS)、四甲基二硅氮烷(TMDS)、四甲基乙氧基硅烷(TMOS)、甲基三甲氧基硅烷(MTMOS)、二甲基二甲氧基硅烷(DMDMOS)、三甲基甲氧基硅烷(TMMOS)、四乙基硅烷(TES)和硅烷。
12.权利要求10或11的方法，其特征在于所述第一气体混合物包括氧气。
13.权利要求10-12任何一项的方法，其特征在于它提供通过等离子体接枝，在所述装置的至少一部分表面上预处理的步骤。
14.权利要求10-13任何一项的方法，其特征在于所述步骤c)-e)提供使用具有不同组成的第一气体混合物，和连续的第二气体混合物。
15.权利要求14的方法，其特征在于所述第一和第二气体混合物具有相同组分，但百分比不同。
16.使用权利要求10-15任何一项的方法获得的用于热液压应用的装置。
17.一种热液压体系，它包括一种或更多种权利要求16的装置。
18.选自下述中的热液压体系：在商业和家庭二者的自动和半自动机器中，生产用于热饮的热水或蒸汽的体系；家庭用具，例如熨斗、加湿器、水壶、洗碗机、洗衣机；家庭和工业用的地板洗涤器和使用热水或蒸汽的类似设备；其中使用热水或蒸汽为了个人卫生目的的体系；用于工业应用的水加热体系，它包括一种或更多种权利要求16的装置。
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