CN101982888B - 一种彩色太阳能电池片的制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明属于太阳能电池片制作技术领域,具体涉及一种单片片内不同颜色的彩色太阳能电池片的制备方法,该种制备方法是在硅片镀减反射膜过程中,在硅片前面添加挡板,通过控制硅片表面的减反射膜的厚度变化,使电池片呈现出不同的颜色,形成片内不同颜色的彩色电池片,本发明的可控性及可重复性好,灵活性高,可以实现小面积内彩色化,能满足太阳能电池片在建筑一体化中美观的需求。
Description
技术领域
本发明属于太阳能电池片制作技术领域,具体涉及一种彩色太阳能电池片的制备方法。
背景技术
电池片的生产工序为制绒、扩散、刻蚀、镀减反膜、背电极、背场、正电极的印刷、烧结。
目前电池片的减反射膜的制作,主要还是采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)的方法。减反射膜的厚度一致,颜色单一,主要以蓝黑色为主,封装组件之后,组件颜色比较单一。随着光伏行业的不断进步,市场对光伏产品提出了更高的要求,不但要保证效率的不断提升,对电池片的外观也提出了更苛刻的要求。目前大量光伏电站正在建设中,光伏与建筑一体化也日趋成熟,其要求电池片有各种颜色以适应美观的要求;尤其是光伏与建筑一体化对彩色电池片的需求更加迫切,对于作为建筑材料的光伏产品,人们希望能够选择自己喜欢的颜色来装扮自己的建筑,彰显建筑的个性。
发明内容
本发明的目的就是为进一步满足光伏建筑一体化的需求,而提供一种彩色太阳能电池片的制备方法,该种制备方法是,通过控制电池片减反射膜的厚度变化,使电池片呈现出不同的颜色,形成片内不同颜色的彩色电池片,本发明的可控性及可重复性好,灵活性高,可以实现小面积内彩色化,能满足太阳能电池片在与建筑一体化中美观的需求。
本发明的技术方案为:一种彩色太阳能电池片的制备方法,是在硅片镀减反射膜过程中,在硅片镀减反射膜面前方添加挡板,通过挡板对反应粒子的遮挡,改变硅片表面减反射膜的厚度,使电池片表面呈现出不同颜色,形成单片片内不同颜色的彩色电池片。
所述挡板位于硅片镀减反射膜面前方0.5—5.0cm的位置。
所述的挡板正投影面积小于硅片面积。
在硅片镀减反射膜过程中,通过挡板的形状以及与硅片的距离的不同,在硅片的表面得到不同形状的彩色图案。
具体工艺步骤为:
硅片在经过制绒、扩散、刻蚀边缘、磷硅玻璃去除工序之后,进入镀减反射膜的工序;
①将去除磷硅玻璃的硅片,放入石墨载体中;
②将已定制好的挡板,置于石墨载体之上0.5—5.0cm位置;
③仔细观察并调整挡板的位置,使挡板上镂空的图形,位于硅片4的镀减反射膜面正前方;
④固定挡板,保证在镀膜过程中,挡板与硅片及石墨载体保持相对静止状态,不发生位移;
⑤将挡板、硅片、石墨载体,整体投入板式PECVD设备中,进行加热、沉积、冷却过程,完成减反射膜沉积工艺;
⑥从石墨载体上,取下挡板,便可以得单片片内不同颜色的彩色硅片。
上述所得硅片经过印刷背电极、印刷背面电场和印刷正面电极、烧结等步骤,得到本发明工艺制成的单片片内不同颜色的彩色电池片。
所述挡板的材质,可为石墨、铁等材质。
本发明的有益效果为:本发明是一种彩色太阳能电池片的制备方法,通过控制电池片表面的减反射膜的厚度变化,使片内呈现出不同的颜色,形成单片片内不同颜色的彩色电池片,并且可以制备特定图案的彩色电池片。本发明的方法可控性及可重复性好,灵活性高,可以实现硅片小面积内彩色化,能满足太阳能电池片在与建筑一体化中美观的需求。
附图说明:
图1所示为本发明的示意图;
图2所示为石墨挡板的俯视图;
图3所示为载有硅片的石墨载体俯视图。
其中,1-反应粒子,2-挡板,3-减反射膜,4-硅片,5-石墨载体。
具体实施方式:
为了更好地理解本发明,下面结合附图来详细解释本发明的实施方式。
本发明的技术方案为:一种彩色太阳能电池片的制备方法,是在硅片4镀减反射膜3过程中,在硅片4镀减反射膜3面前方添加挡板2,通过挡板2对反应粒子1的遮挡,改变硅片4表面减反射膜的厚度,使硅片4表面呈现出不同颜色,形成单片片内不同颜色的彩色电池片。
所述挡板2位于硅片4镀减反射膜3面前方0.5—5.0cm的位置。
所述的挡板2不完全遮挡硅片4。
在硅片4镀减反射膜3过程中,通过挡板2的形状以及与硅片4的距离的不同,在硅片4的表面得到不同形状的彩色图案,在硅片4的表面得到不同形状的彩色图案。
所述挡板2的材质,可为石墨、铁等材质。
实施例1
硅片在经过制绒、扩散、刻蚀边缘、磷硅玻璃去除工序之后,进入镀减反射膜3的工序。
本实例挡板2采用石墨材质,具体实施过程如下:
①将去除磷硅玻璃的硅片4,放入石墨载体5中;
②将已定制好的石墨挡板2,置于石墨载体5之上1cm位置;
③仔细观察并调整挡板2的位置,使挡板2上镂空的图形,位于硅片4的镀减反射膜3面正前方;
④固定挡板2,保证在镀膜3过程中,挡板2与硅片4及石墨载体5保持相对静止状态,不发生位移;
⑤将挡板2、硅片4、石墨载体5,整体投入板式PECVD设备中,进行加热、沉积、冷却过程,完成减反射膜3沉积工艺,沉积过程如附图所示;
⑥从石墨载体5上,取下挡板2,便可以得单片片内颜色为条形彩虹色的硅片。
上述所得硅片经过背电极、背场、正电极的印刷、烧结等步骤,得到本发明工艺制成的单片片内不同颜色的彩色电池片。
Claims (5)
1.一种彩色太阳能电池片的制备方法,其特征在于,在硅片镀减反射膜过程中,在硅片镀减反射膜面上方添加挡板,改变硅片表面减反射膜的厚度,使电池片表面呈现出不同颜色,形成单片片内不同颜色的彩色电池片。
2. 根据权利要求1所述的一种彩色太阳能电池片的制备方法,其特征在于,所述挡板位于硅片镀减反射膜面上方0.5—5.0cm的位置。
3.根据权利要求1所述的一种彩色太阳能电池片的制备方法,其特征在于,所述的挡板正投影面积小于硅片面积。
4. 根据权利要求1所述的一种彩色太阳能电池片的制备方法,其特征在于,在硅片镀减反射膜过程中,通过挡板的形状以及与硅片的距离的不同,在硅片的表面得到不同形状的彩色图案。
5. 根据权利要求1所述的一种彩色太阳能电池片的制备方法,其特征在于,具体工艺步骤为:
硅片在经过制绒、扩散、刻蚀边缘、磷硅玻璃去除工序之后,进入镀减反射膜的工序;
①将去除磷硅玻璃的硅片,放入石墨载体中;
②将已定制好的挡板,置于石墨载体之上0.5—5.0cm位置;
③仔细观察并调整挡板的位置,使挡板上镂空的图形,位于硅片的镀减反射膜面正上方;
④固定挡板,保证在镀膜过程中,挡板与硅片及石墨载体保持相对静止状态,不发生位移;
⑤将挡板、硅片、石墨载体,整体投入板式PECVD设备中,进行加热、沉积、冷却过程,完成减反射膜沉积工艺;
⑥从石墨载体上,取下挡板,便可以得单片片内不同颜色的彩色硅片;
⑦上述所得硅片经过印刷背电极、印刷背面电场和印刷正面电极、烧结步骤,得到单片片内不同颜色的彩色电池片。
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