CN101981490B - 光波形整形装置 - Google Patents

光波形整形装置 Download PDF

Info

Publication number
CN101981490B
CN101981490B CN2008800189637A CN200880018963A CN101981490B CN 101981490 B CN101981490 B CN 101981490B CN 2008800189637 A CN2008800189637 A CN 2008800189637A CN 200880018963 A CN200880018963 A CN 200880018963A CN 101981490 B CN101981490 B CN 101981490B
Authority
CN
China
Prior art keywords
mentioned
light
liquid crystal
intensity modulated
shaping device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN2008800189637A
Other languages
English (en)
Other versions
CN101981490A (zh
Inventor
和田尚也
朴成哲
依田琢也
驹井友纪
杜塚芙美
小舘香椎子
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
National Institute of Information and Communications Technology
Original Assignee
National Institute of Information and Communications Technology
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by National Institute of Information and Communications Technology filed Critical National Institute of Information and Communications Technology
Publication of CN101981490A publication Critical patent/CN101981490A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101981490B publication Critical patent/CN101981490B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/28—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for polarising
    • G02B27/286—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for polarising for controlling or changing the state of polarisation, e.g. transforming one polarisation state into another
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0905—Dividing and/or superposing multiple light beams
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0938—Using specific optical elements
    • G02B27/0944—Diffractive optical elements, e.g. gratings, holograms
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0938—Using specific optical elements
    • G02B27/0977—Reflective elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/10—Beam splitting or combining systems
    • G02B27/1086—Beam splitting or combining systems operating by diffraction only
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/42—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/42—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect
    • G02B27/4233—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect having a diffractive element [DOE] contributing to a non-imaging application
    • G02B27/4244—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect having a diffractive element [DOE] contributing to a non-imaging application in wavelength selecting devices
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/42—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect
    • G02B27/4261—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect having a diffractive element with major polarization dependent properties
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/12—Generating the spectrum; Monochromators
    • G01J2003/1213—Filters in general, e.g. dichroic, band
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/24—Coupling light guides
    • G02B6/26—Optical coupling means
    • G02B6/27—Optical coupling means with polarisation selective and adjusting means
    • G02B6/2706—Optical coupling means with polarisation selective and adjusting means as bulk elements, i.e. free space arrangements external to a light guide, e.g. polarising beam splitters
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2203/00—Function characteristic
    • G02F2203/26—Pulse shaping; Apparatus or methods therefor

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)

Abstract

本发明的目的在于，提供一种具有高分辨率的光波形整形装置。为达到上述目的的解决办法是，光波形整形装置(10)包括：分波器(1)，该分波器(1)将来自于光源的光按照不同频率分解；聚光部(2)，该聚光部(2)使由上述分波器(1)分解的多个光聚光；偏振片(3)，经过了上述聚光部(2)的光入射到该偏振片(3)中，该偏振片(3)调整入射光的偏振面；空间光调制器(4)，经过了上述偏振片(3)的光入射到该空间光调制器(4)中，该空间光调制器(4)具有相位调制部及强度调制部。

Description

光波形整形装置
技术领域
本发明涉及光波形整形装置等。
背景技术
在光信号传输系统中，所传输的光信号因受到ASE噪音和光纤的非线性特性的影响，其波形会发生畸变，从而降低了传输质量。此时，要通过具有调整光信号波形作用的光波形整形装置，对畸变的光信号波形进行恢复。另外，例如在使用飞秒激光器等的观测装置中，对激光波形的整形也是非常重要的，所以也要使用到光波形整形装置。
例如在日本发明专利特开2001-42274号公报中公开了一种光波整形装置，该光波整形装置具有相位调制用的空间光调制器和强度调制用的空间光调制器。然而，在该公报所公开的光波整形装置上，因为使用了2个各自具有玻璃基板的调制器，这必然会导致波束径的增大，所以其具有分辨率低的缺点。
专利文献1：日本发明专利特开2003-90926号公报
专利文献2：日本发明专利特开2002-131710号公报
发明内容
发明所要解决的问题
本发明的目的在于，提供一种具有高分辨率的光波形整形装置。
本发明的目的在于，所提供的高分辨率的光波形整形装置能够对在光强度调制时产生的相位变化进行补偿。
本发明的目的在于，所提供的光波形整形装置，其通带的形状近似于矩形。本发明的目的在于，所提供的光波形整形装置能够生成具有万亿赫兹数量级的超高速光脉冲。
本发明的目的在于，提供一种可实现小型化的可变带宽光波形整形装置。
解决问题的方法
本发明是基于以下的认识而得以实现的，通过使用具有相位调制部及强度调制部的空间光调制器，能够获得具有高分辨率的光波形整形装置，并能够获得包括产生万亿赫兹数量级超高速光脉冲在内的新应用技术。即，在本说明书中公开了如下的发明内容。
光波形整形装置(10)包括：
分波器(1)，该分波器(1)将来自于光源的光按照不同频率分解；
聚光部(2)，该聚光部(2)使由上述分波器(1)分解的多个光聚光；
偏振片(3)，经过了上述聚光部(2)的光入射到该偏振片(3)中，由该偏振片(3)调整入射光的偏振面；
空间光调制器(4)，经过了上述偏振片(3)的光入射到该空间光调制器(4)中，该空间光调制器(4)具有相位调制部及强度调制部。
上述光波形整形装置中，上述分波器(1)包括高色散单元。
上述光波形整形装置中，上述空间光调制器包括强度调制部(22)与相位调制部(24)，
该强度调制部(22)具有呈线形或矩阵形排列的多个液晶元件(21)，
该相位调制部(24)具有与上述强度调制部的液晶元件(21)相对应的多个液晶元件(23)，
上述强度调制部的液晶的取向与上述相位调制部的液晶的取向呈45度角。
上述光波形整形装置中，上述空间光调制器(4)包括：强度调制部(22)，该强度调制部(22)具有呈线形或矩阵形排列的多个液晶元件(21)；相位调制部(24)，该相位调制部(24)具有与上述强度调制部的液晶元件(21)相对应的多个液晶元件(23)，上述强度调制部(22)的液晶元件(21)及上述相位调制部(24)的液晶元件(23)，分别具有液晶物质的同时，还具有隔着该液晶物质设置的电极，所述光波形整形装置包括：检测部(31)，光在通过上述强度调制部(22)进行强度调制的时候，该检测部(31)检测从光波整形装置(10)输出的输出光；控制装置(32)，该控制装置(32)，接收与由上述检测部检测出的不同频率的光的相位偏差相关的信息，对施加在上述相位调制部(24)的各液晶元件(23)的电极上的电压进行控制；电压调整部(33)，按照来自于上述控制装置(32)的控制指令，该电压调整部(33)，调整输向上述相位调制器(24)的各液晶元件(23)的电压，并将该电压输出到上述相位调制器(24)的各液晶元件(23)的电极上。
上述光波形整形装置(10)还具有反射部(5)，经过了上述空间光调制器(4)的光入射到该反射部(5)上。
上述光波形整形装置还包括：
第2聚光透镜(11)，经过了上述空间光调制器(4)的光入射到该第2聚光透镜(11)中；
合波器(12)，经过了上述第2聚光透镜(11)的光入射到该合波器(12)中，该合波器(12)使分离的多个频率的光合波。
所述光波形整形装置包括衍射光栅(1)、聚光透镜(2)、偏振片(3)、空间光调制器(4)及折返用反射器(5)，上述衍射光栅(1)将来自于光源的光按照不同频率分解，上述聚光透镜(2)使由上述衍射光栅(1)分解的多个光聚光，偏振片(3)，经过了上述聚光透镜(2)的光入射到上述偏振片(3)中，由该偏振片(3)调整入射光的偏振面，经过了上述偏振片(3)的光入射到上述空间光调制器(4)中，该空间光调制器(4)具有相位调制部及强度调制部，该相位调制部及强度调制部分别具有，于各自对应的空间位置上存在的多个呈线形或矩阵形排列的液晶元件，上述相位调制部的液晶的取向与由上述偏振片(3)调整后的光的偏振面相平行，上述强度调制部的液晶的取向与上述相位调制部的液晶的取向呈45度角，经过了上述空间光调制器(4)的光入射到上述折返用反射器(5)中。来自于光源的光，首先通过上述衍射光栅(1)按照频率被分解从而在空间上分散，通过上述聚光透镜，使上述按照频率被分解的在空间上分散的光聚光，通过上述偏振片(3)对上述被聚光的光的偏振面进行调整，上述偏振面被调整过的光，通过上述空间光调制器(4)，被分别进行可控的相位调制及强度调制，通过上述折返用反射器(5)，调制后的光被折返回来，经过上述聚光透镜，被聚光，通过上述衍射光栅，使按照频率分解了的光合波。
发明的效果
在本发明的光波形整形装置中，采用单独具有相位调制部及强度调制部的空间光调制器(4)，该相位调制部及强度调制部共用一片玻璃基板，因而，能够防止产生波束径增大的现象，从而能够获得较高的分辨率。
在本发明的光波形整形装置中，将光强度调制时产生的相位变化进行反馈以调整液晶的控制电压，或者是调整空间光调制器中的相位调制部的液晶的取向，使光强度调制时产生的相位变化得到补偿。
采用本发明的光波形整形装置，如通过实际的装置进行确认的那样，通带的形状接近于矩形。
采用本发明的光波形整形装置，可形成相邻通带连续的通带，所以本发明的光波形整形装置能够作为可变带宽光波形整形装置来使用。本发明的光波形整形装置能够生成具有万亿赫兹数量级的超高速光脉冲。
在本发明的光波形整形装置中，若采用反射的形式，能够节省光学元件，而且可使色散的影响相互抵消，因此，能够实现光波形整形装置的高精度且小型化。
附图说明
图1为表示本发明的光波形整形装置的结构例的示意图；
图2为具有相位调制部和强度调制部的空间光调制器的示意图；
图3为表示强度调制部及相位调制部的液晶的取向的示意图；
图4为说明偏振控制、强度控制及相位控制的示意图；
图5所示为采用棱镜作为折返用反射器的光波形整形装置的例子；
图6所示为光束入射到元件上的情况，图6中(a)所示为短波长的光入射到元件上的情况，图6中(b)所示为长波长的光入射到元件上的情况；
图7所示为，能够进行相位变化补偿的本发明的光波整形装置。图7中(a)为使用现有的驱动器的例子，图7中(b)所示为进行DIO直接控制时的例子；
图8为实施例1中的光波整形装置的示意图；
图9为实施例1中的光学系统的示意图。图9中(a)为俯视图，图9中(b)为侧视图；
图10为为确定光学单元的位置所进行的模拟的概念图；
图11所示为液晶空间光调制器的例子。图11中(a)～(c)表示的是，实际制造的空间光调制器的示意图；
图12为，表示光波形整形装置的光强度调制特性的曲线图。图12中(a)为，使用ASE光源，在对全部波道一并进行调制时，检测到的光强度调制特性，图12中(b)为，对全部波道进行中间调制时，检测到的光强度调制特性，图12中(c)为，对全部波道关闭调制时，检测到的光强度调制特性；
图13为，表示光波整形装置的频率间隔的曲线图。将波长可变LD光源的波长在步进幅度为0.01nm的方式下扫描，用功率计对实现光强度调制的各波长的功率进行测定。对每一个波道进行强度设定，确定频率间隔。图13中(a)所示为对1个波道打开调制的情况，图13中(b)所示为对相接近的2个波道打开调制的情况，图13中(c)所示为对3个波道打开调制的情况，图13中(d)所示为对相远离的2个波道打开调制的情况；
图14为表示光波形整形装置的空间分辨率的曲线图；
图15所示为测定插入损失的装置结构的示意图；
图16所示为光栅部采用棱栅的例子；
图17所示为棱栅的一例的示意图；
图18表示的是，VPH光栅部的光栅周期与光栅部的入射角的关系；
图19所示为另一形状棱栅的例子。
符号说明
1分波器
2聚光部
3偏振片
4空间光调制器
10光波形整形装置
具体实施方式
图1为表示本发明的光波形整形装置的结构例的示意图。如图1所示，本发明的光波整形装置包括：如衍射光栅等的分波器(1)，聚光透镜(2)，偏振片(3)，具有相位调制部和强度调制部的空间光调制器(4)，折返用反射器(5)。另外，图1中的符号6表示的是准直透镜。
分波器(1)是一个将来自于光源的光按照不同频率来分解的元件。作为分波器，可以采用如光栅、棱镜或棱栅等的高色散元件，也可以采用AWG。作为光源，可以采用例如白色光或包含多个不同波长光的复色光，也可以采用波长在1550nm左右的脉冲光。来自于光源的光，可以通过偏振控制器或偏振片等来调整其偏振面，而且可以使其偏振分解为具有互相垂直的偏振面的2种光。
作为聚光部聚光透镜(2)的功能是，将由分波器(1)分解出的多个光信号聚集。聚光透镜可以适当地采用公知的聚光透镜。聚光透镜(2)在空间上的设置位置应该使得，聚光透镜(2)能够将因衍射光栅(1)的作用而在空间上分散的光聚集，并将其导向空间光调制器(4)中的特定元件。
经过了聚光透镜(2)的光入射到偏振片(3)中，该偏振片(3)是一个为了调整入射光偏振面的光学元件。作为偏振片，可以适当地采用公知的偏振片或起偏器，并且，优选干涉膜型的起偏器。采用干涉膜型的起偏器，可以使用具有较大口径的起偏器，提高了便利性。
经过了偏振片(3)的光入射到具有相位调制部和强度调制部的空间光调制器(4)中，该空间光调制器(4)具有多个液晶元件，这些液晶元件呈线形或矩阵形排列分别位于各自所对应的空间位置上。在上述专利文献1中，空间相位调制部与空间强度调制部是分开的。而在本发明中，使相位调制部与强度调制部结合在一起，共同设置在玻璃基板上。如此一来，可以将用于空间光调制器的玻璃基板的数量降低为1片，能够防止波束径变大的问题，从而能够获得较高的分辨率。并且为防止产生不需要的反射，所以，本发明优选，使相位调制部和强度调制部的折射率匹配从而使二者结合在一起的结构。另外，多个线形排列的液晶元件的意思是，在一条直线上排列的多个液晶元件，而多个矩阵形排列的液晶元件的意思是，例如多个液晶元件在上下左右方向上规则且端正的排列。其中，优选的是，具有的多个液晶元件排列在一条直线上。相位调制部的液晶的取向，例如与通过偏振片(3)调整后的偏振面相平行，而强度调制部的液晶的取向与上述相位调制部的液晶的取向有偏角。具体的强度调制部的液晶的取向的偏角为，30度以上60度以下，也可以为40度以上50度以下，最好是取45度。液晶空间相位调制部分可以位于液晶空间强度调制部分的前面(偏振片侧)，不过液晶空间强度调制部分位于前面也可。
图2为，具有相位调制部和强度调制部的空间光调制器的示意图。如图2所示，空间光调制器(4)具有强度调制部(22)和相位调制部(24)，上述强度调制部(22)具有多个形成为线形或矩阵形排列的液晶元件(21)，上述相位调制部(24)具有与强度调制部(22)的液晶元件相对应的多个液晶元件(23)。上述强度调制部(22)的液晶元件(21)及上述相位调制部(24)的液晶元件(23)，分别具有液晶物质，同时还具有隔着上述液晶物质而设置的电极。该电极可以是透明电极，也可以是设置于元件周围的金属电极。具体的结构为，例如，将2片液晶组件结合起来，该液晶组件具有10μm～40μm的单元格中心距，结合后的构件只要是安装在玻璃基板上即可。上述单元格中心距是决定元件宽度的重要因素。另外，如图2所示，可以在相邻的两个液晶元件(21、23)之间设置间隙(液晶元件间隙)。
图3为，表示强度调制部及相位调制部的液晶的取向的示意图。如图3所示，强度调制部的液晶的取向与相位调制部的液晶的取向偏离45度角。为了使用这些液晶元件来构成相位调制部及强度调制部，使通过之前的偏振片产生的偏振面与相位调制部上的液晶的取向相平行，强度调制部的液晶的取向从通过偏振片产生的偏振面偏离45度角即可。另外，强度调制部的偏角除了0度之外取任何值都可以。但是，为了容易地控制强度，取45度为佳。
图4为，说明偏振控制、强度控制及相位控制的示意图。图4中(a)图所示为本发明的强度、相位调制的情况。图4中(b)图所示为仅进行强度调制时光的相位变化。如图4中(b)所示，仅进行强度调制时，通过强度调制器来调整强度的同时，直线偏振光变为圆形偏振光。然后，通过起偏器的作用圆形偏振光变回直线偏振光。通过这样的过程来进行强度调制。然而，如图4中(b)所示，虽然变回了直线偏振光，相位状态却产生了变化。在兼具强度调制与相位调制的系统中，相位调制补偿了因强度调制而产生的相位的变化，所以能够使输出光的相位与输入光的相位一致。
上述液晶元件中的位于聚光透镜侧的液晶元件上的聚光径较小为佳，这是因为该聚光径越小所得到的通带宽也越小。从这一点来看，聚光径的范围在20μm以上80μm以下，优选30μm以上70μm以下。液晶元件的尺寸为10μm以上40μm以下，优选15μm以上30μm以下，15μm以上25μm以下也可。采用这样小的元件，能够获得例如具有10GHz间隔的通带。另外，波长越长聚光径也越大，所以，例如，一个短波长的光所照射的是2个液晶元件，而一个长波长的光所照射的是3个液晶元件。上述的聚光径是指，由聚光透镜聚集的多个光分别在液晶元件上成像时所形成的光的直径。
经过了具有相位调制部及强度调制部的空间光调制器(4)的光入射到折返用反射器(5)中，该折返用反射器(5)是一个改变光的传输方向的光学元件。该折返用反射器(5)可以适当地采用公知的如镜子、棱镜等的光学元件。通过采用这样的反射形式，能够重复利用这些光学元件，还能够将分散等的影响抵消，所以，能够使光波形整形装置精度较高且体积较小。
图5所示为，采用棱镜作为折返用反射器的光波形整形装置的例子。如图5所示的采用棱镜(26)，能够得到上下或左右方向上的光路。其结果是，2种光可经过对称的光传播路径，从而受到的光传播路径中产生的噪音等的影响也可以相同。
通过衍射光栅(1)的光按照频率在空间上分散。这些在空间上分散的光波通过聚光透镜(2)被聚集，经过偏振片(3)向空间光调制器(4)入射。在空间光调制器(4)中它们被分别进行可控的相位调制及强度调制。在空间光调制器(4)中，被分离的光按照不同的频率入射到不同的元件上。图6所示为，光束入射到元件上的情况。图6中(a)所示为短波长的光入射到元件上的情况，图6中(b)所示为长波长的光入射到元件上的情况。例如，元件的中心距为20μm，短波长的光入射到2个元件上，而长波长的光入射到3个元件上。通过上述的过程，能够将实时地将光按照频率分解，展开在实际空间上。另外，可以根据衍射光栅的波长分散特性来适当地调整某个波束所对应的元件的数目。通过折返用反射器(5)的作用光被反射回来。反射回来的光经过聚光透镜被聚集，通过衍射光栅(1)使按照频率分解的光合波。如此一来，按照频率分解的光在进行强度调制及相位调制后被合波。
上述中对反射式的光波形整形装置进行了说明。但是，本发明的光波形整形装置也可以是透射式的。具体是指，透射式的光波形整形装置包括：衍射光栅，第1聚光透镜，偏振片，具有相位调制部及强度调制部的空间光调制器，第2聚光透镜，合波器。第1聚光透镜与第2聚光透镜可以采用相同的结构。而合波器可以采用与衍射光栅相同的装置。
图7所示为，能够进行相位变化补偿的本发明的光波整形装置。图7中(a)为使用现有的驱动器的例子，图7中(b)所示为进行DIO直接控制时的例子。在图7中的(a)中，如计算机等的控制装置(32)与电压调整部(33)连接，电压调整部(33)具有SLM驱动器1及SLM驱动器2，该SLM驱动器1及SLM驱动器2对向空间相位调制部及空间强度调制部施加的电压进行控制。而如图7中(b)所示的进行DIO直接控制的装置，按照来自于控制装置的指令，直接控制向空间相位调制部及空间强度调制部施加的驱动电压。如图7所示，该光波整形装置包括：空间光调制器(4)，检测部(31)，控制装置(32)，电压调整部(33)。基于检测部检测出的相位的偏差，控制装置输出控制信号以指示电压调整部。电压调整部按照接收到的控制信号，向各个元件的电极输出所需的电压。若采用这样的本发明的光波整形装置，能够使强度调制时产生的相位的偏差得到补偿。
检测部(31)为，在通过强度调制部(22)进行强度调制时，对光波形整形装置的输出光进行检测的装置。该检测部可以适当地采用如光电二极管等公知的检测装置。另外，将检测部(31)设置在光波整形装置的构架内部为佳。而且，检测部可对光强度与光相位二者的控制量进行监测为佳。
控制装置(32)的功能是，接收关于检测部(31)检测出的不同频率的光的相位偏差的信息，从而对施加在上述相位调制部(24)的各液晶元件(23)的电极上的电压进行控制。具体的方式是采用计算机来发挥作为控制装置的功能。控制装置可以与光波整形装置设置成一体，也可以附加在光波整形装置之外。从装置的紧凑性的角度来看，将控制装置设置在光波整形装置的架构内部为佳。本发明优选，检测部对光强度与光相位二者的控制量进行监测时，将检测出的光强度和光相位与设定值相比较，通过闭环控制对光强度和光相位进行控制以使其接近设定值。通过如上述地对光强度和光相位进行控制，能够提高装置的稳定性。
电压调整部(33)，按照控制装置(32)的指令，将要施加在相位调制部(24)的各液晶元件(23)的电极上的电压，向相位调制部(24)的各液晶元件(23)输出。另外，可以不通过反馈进行控制，而是调整起偏器与相位调制部(24)的取向方向，从而能够通过进行相位调制而补偿因强度调制产生的相位变化。即，本发明优选的方式是，起偏器的偏振面与相位调制部(24)的液晶的取向方向，使得，进行相位调制能够补偿因强度调制而产生的相位变化。而且，强度调制部也可以具有与上述相同的结构，从而能够使伴随相位调制产生的强度变化得到补偿。
本发明的光波整形装置可以作为WDM等的光源来使用。而且，本发明的光波整形装置还可以作为EDFA等的光均衡装置来使用。
按照上述，本发明采用的光波整形装置的基本的结构包括：如分波器等的将光分解的光栅部；空间光调制器，该空间光调制器在每个微小的波长带范围上对由光栅部分解的光进行控制。除了上述的衍射光栅或棱镜等之外，光栅部还可以采用棱栅。图16所示为光栅部采用棱栅的例子。在此例中，棱栅为一个将棱镜与光栅组合在一起的色散元件。在图中表示为强度相位全息光栅(VPHG)。来自于光纤的光通过第1准直透镜实现准直，入射到棱栅之中。入射到棱栅之中的光按照波长发生分解。分解后的光通过第2准直透镜实现准直，经过振幅光闸(shutter)及聚光透镜之后输出到光纤中。棱栅本身是公知的装置。例如，日本发明专利第3576538号、特开2004-130806号公报等中记载了作为棱栅的装置。
图17所示为棱栅的一例的示意图。例如图17所示，棱栅包括，折射率为n2的VPH光栅部；VPH光栅部的两侧的折射率为n0的玻璃基板；设置于2个玻璃基板外侧的折射率为n1的第1棱镜部及第2棱镜部。
图18表示的是，VPH光栅部的光栅周期与光栅部的入射角的关系。
图19所示为另一形状棱栅的例子。即，本发明采用的棱栅也可以包括：3个棱镜，及设置在与3个棱镜相连接的位置上的2个强度相位全息光栅。
实施例1
图8为实施例1中的光波整形装置的示意图。图9为实施例1中的光学系统的示意图。图9中(a)为俯视图，图9中(b)为侧视图。图中，PBS表示偏振光束分离器，FR表示法拉第旋转器，SMF表示单模光纤，2-PMF表示2轴保偏光纤。如图9所示，该光学系统包括：2轴保偏光纤，经过偏振分离的光输入到该2轴保偏光纤中；准直透镜，该准直透镜的直径为15cm，焦距为6cm；衍射光栅，该衍射光栅的表面中心处位于距离准直透镜6cm的位置；聚光透镜(f15cm)，该聚光透镜设置于距离衍射光栅的表面中心处15cm的位置；偏振片、液晶空间强度调制部分、液晶空间相位调制部分及折返用反射器。折返用反射器(棱栅)位于距离聚光透镜15cm的位置。液晶元件的控制区域的宽度为17μm，间隙部分的宽度为3μm。即，一个元件的尺寸是20μm。另外，准直透镜到衍射光栅的距离以及准直透镜到聚光透镜的距离，可通过进行如图10所示的模拟来求得。
相位对于光纤的张力或温度等条件的变化会产生敏感性的变动。在此实施例中，因具有如上所述的结构，将2个光路的光纤往复交替，从往返的总体过程来看，产生的相位变化相同。其结果是，尽管光纤等的相位稳定性不太好，然而光波整形装置的相位稳定性却较高。
图11所示为液晶空间光调制器的例子。图11中(a)～(c)表示的是，实际制造的空间光调制器的示意图。图11中(a)所示的结构是，采用的玻璃基板长宽为65mm×48mm厚度为0.5mm。使位于分别具有普通电极和图形电极的玻璃基板间的液晶元件间隙为8μm。整体液晶格设置在玻璃基板中央附近且其尺寸为14mm×14mm。液晶单元格中心距为20μm(具体结构为控制区域17μm，间隙3μm)。液晶的取向，在强度调制时，使取向方向为45度，在相位调制时，使取向方向为0度。强度调制用空间光调制器和相位调制用空间光调制器分别独立制作。
图11中(b)所示的结构是，采用的玻璃基板长宽为65mm×30mm厚度为0.3mm。使位于分别具有普通电极和图形电极的玻璃基板间的液晶元件间隙为8μm。采用的整体液晶格的尺寸为10mm×5mm。在图11中(b)所示的例子上，使液晶空间光调制器靠近玻璃基板的左侧或右侧。像这样地使液晶空间光调制器的位置离开玻璃基板中心的结构，制作起来容易。液晶格的单元格中心距有以下3种制造模式：
(i)液晶单元格中心距：20μm(控制区域：17μm，间隙：3μm)
(ii)液晶单元格中心距：20μm(控制区域：18μm，间隙：2μm)
(iii)液晶单元格中心距：10μm(控制区域：8μm，间隙：2μm)液晶的取向为，在强度调制时，使取向方向为45度，在相位调制时，使取向方向为0度。强度调制用空间光调制器和相位调制用空间光调制器分别独立制作。在将2片液晶单元结合时，为了使液晶格位置关系正确，设置有液晶格位置标识。另外，将控制IC统一配置在玻璃基板的一侧。
图11中(c)所示的结构是，具有图形电极的玻璃基板的正面和背面分别设置，强度调制用液晶空间光调制器与相位调制用液晶空间光调制器。调整好液晶格的位置关系从而制作成上述结构。如图11中(c)所示，该液晶空间光调制器的形状是，上述具有图形电极的玻璃基板，被2片具有普通电极的玻璃基板所夹。使位于分别具有普通电极和图形电极的基板间的液晶元件间隙为8μm。采用的整体液晶格的尺寸为～20mm×～5mm。在图11中(c)所示的例子上，使液晶空间光调制器靠近玻璃基板的左侧或右侧。像这样地使液晶空间光调制器的位置离开玻璃基板中心的结构，制作起来容易。液晶格的单元中心距有以下3种制造模式：
(i)液晶单元格中心距：20μm(控制区域：17μm，间隙：3μm)
(ii)液晶单元格中心距：20μm(控制区域：18μm，间隙：2μm)
(iii)液晶单元格中心距：10μm(控制区域：8μm，间隙：2μm)液晶的取向，在强度调制时，使取向方向为45度，在相位调制时，使取向方向为0度。强度调制用空间光调制器与相位调制用空间光调制器，共用一个具有图形电极的玻璃基板而与其制作成一体。
图12为，表示光波形整形装置的光强度调制特性的曲线图。图12中(a)为，使用ASE光源，在对全部波道一并进行调制时，检测到的光强度调制特性。图12中(b)为，对全部波道进行中间调制时，检测到的光强度调制特性。图12中(c)为，对全部波道关闭调制时，检测到的光强度调制特性。从图12中(a)看出，本发明的光波形整形装置，形成邻接带域的通带相连续的通带。从图12中(b)看出，强度调制的调制量可在调制范围内任意设定。从图12中(c)看出，当关闭调制时，能够抑制输出功率。
图13为，表示光波整形装置的频率间隔的曲线图。将波长可变LD光源的波长在步进幅度为0.01nm的方式下扫描，用功率计对实现光强度调制的各波长的功率进行测定。对每一个波道进行强度设定，确定频率间隔。图13中(a)所示为对1个波道打开调制的情况，图13中(b)所示为对相接近的2个波道打开调制的情况，图13中(c)所示为对3个波道打开调制的情况，图13中(d)所示为对相远离的2个波道打开调制的情况。
图14为，表示光波形整形装置的空间分辨率的曲线图。使用ASE光源，以48个波道为单位对光强度进行调制(每隔48个波道关闭1个波道的调制，其余的波道全部打开调制)，根据调制波长差，对各波长带的PAL-SLM1元件对应的空间分辨率进行测定。其结果为，波长为1535nm时空间分辨率为12.1GHz每个元件，波长为1550nm时空间分辨率为10.7GHz每个元件，波长为1565nm时空间分辨率为9.2GHz每个元件。
图15所示为，测定插入损失的装置结构的示意图。其结果为，波长为1535nm时插入损失是6.5dB，波长为1550nm时插入损失是5.0dB，波长为1565nm时插入损失是7.5dB。
表1表示的是衍射光栅的色散特性。
表1
表2表示的是PAL-SLM入射波束的直径。
表2
Figure G2008800189637D00152
产业上应用的可能性
本发明的光波整形装置可适当地应用于光信息通信等领域。

Claims (18)

1.一种光波形整形装置(10)，其特征在于，
所述光波形整形装置(10)包括：
分波器(1)，该分波器(1)将来自于光源的光按照不同频率进行分解；
聚光部(2)，该聚光部(2)使由上述分波器(1)分解的多路光聚光；
偏振片(3)，经过了上述聚光部(2)的光入射到该偏振片(3)中，由该偏振片(3)调整入射光的偏振面；
空间光调制器(4)，经过了上述偏振片(3)的光入射到该空间光调制器(4)中，该空间光调制器(4)具有相位调制部(24)及强度调制部(22)，
上述相位调制部(24)与上述强度调制部(22)均具有多个液晶元件，且共用1片玻璃基板，隔着该玻璃基板相邻设置，
上述光波形整形装置，
还具有，
检测部(31)，
与电压调整部(33)，
上述检测部(31)和上述电压调整部(33)都与控制装置(32)相连接，
上述检测部(31)，
检测出，由上述强度调制部(22)进行强度调制而产生的相位的偏差，
上述控制装置(32)，
对施加向上述相位调制部(24)的驱动电压直接进行控制的同时，也对施加向上述强度调制部(22)的驱动电压直接进行控制，
上述电压调整部(33)，
将电压输出到上述相位调制部(24)上，
上述控制装置(32)，根据由上述检测部(31)检测出的不同频率的光的相位的偏差，输出控制信号以指示上述电压调整部(33)，
上述电压调整部(33)，根据从上述控制装置(32)接收到的控制信号，向上述相位调制部(24)的液晶元件的电极输出所需的电压，
从而，使由强度调制产生的相位的偏差得到补偿。
2.根据权利要求1所述的光波形整形装置，其特征在于，上述分波器(1)包括高色散单元。
3.根据权利要求1所述的光波形整形装置，其特征在于，
上述强度调制部(22)具有呈线形或矩阵形排列的多个液晶元件(21)，
上述相位调制部(24)具有与上述强度调制部的液晶元件(21)分别相对应的多个液晶元件(23)，
上述强度调制部的液晶的取向与上述相位调制部的液晶的取向呈45度角。
4.根据权利要求1所述的光波形整形装置，其特征在于，
上述强度调制部(22)具有呈线形或矩阵形排列的多个液晶元件(21)；
上述相位调制部(24)具有与上述强度调制部的液晶元件(21)相对应的多个液晶元件(23)，
上述强度调制部(22)的液晶元件(21)及上述相位调制部(24)的液晶元件(23)，分别具有液晶物质的同时，还具有隔着该液晶物质设置的电极，
上述检测部(31)，在通过上述强度调制部(22)进行强度调制的时候，检测从光波形整形装置(10)输出的输出光；
上述控制装置(32)，接收与由上述检测部检测出的各频率的光的相位偏差相关的信息，对施加在上述相位调制部(24)的各液晶元件(23)的电极上的电压进行控制；
上述电压调整部(33)，按照来自于上述控制装置(32)的控制指令，调整输向上述相位调制器(24)的各液晶元件(23)的电压，并将该电压输出到上述相位调制器(24)的各液晶元件(23)的电极上。
5.根据权利要求1所述的光波形整形装置(10)，其特征在于，该光波形整形装置(10)还具有反射部(5)，经过了上述空间光调制器(4)的光入射到该反射部(5)上。
6.根据权利要求1所述的光波形整形装置，其特征在于，该光波形整形装置还包括：
第2聚光透镜(11)，经过了上述空间光调制器(4)的光入射到该第2聚光透镜(11)中；
合波器(12)，经过了上述第2聚光透镜(11)的光入射到该合波器(12)中，该合波器(12)使分离的多个频率的光合波。
7.根据权利要求1所述的光波形整形装置(10)，其特征在于，上述偏振片(3)为干涉膜型的起偏器。
8.根据权利要求1所述的光波形整形装置，其特征在于，
上述空间光调制器(4)的上述液晶元件设置在上述玻璃基板的表面上、且位于离开上述玻璃基板中心而靠近左右任意一侧的位置。
9.一种光波形整形装置(10)，其特征在于，
所述光波形整形装置包括衍射光栅(1)、聚光透镜(2)、偏振片(3)、空间光调制器(4)及折返用反射器(5)，
上述衍射光栅(1)将来自于光源的光按照不同频率进行分解，
上述聚光透镜(2)使由上述衍射光栅(1)分解的多路光聚光，
偏振片(3)，经过了上述聚光透镜(2)的光入射到上述偏振片(3)中，由该偏振片(3)调整入射光的偏振面，
经过了上述偏振片(3)的光入射到上述空间光调制器(4)中，该空间光调制器(4)具有相位调制部及强度调制部，该相位调制部及强度调制部分别具有，于各自对应的空间位置上存在的多个呈线形或矩阵形排列的液晶元件，上述相位调制部的液晶的取向与由上述偏振片(3)调整后的光偏振面相平行，上述强度调制部的液晶的取向与上述相位调制部的液晶的取向呈45度角，
经过了上述空间光调制器(4)的光入射到上述折返用反射器(5)中，
上述相位调制部与上述强度调制部，共用1片玻璃基板，隔着该玻璃基板相邻设置，
来自于光源的光，通过上述衍射光栅(1)按照频率被分解从而在空间上分散，
通过上述聚光透镜，使上述按照频率被分解的在空间上分散的光聚光，
通过上述偏振片(3)对上述被聚光的光的偏振面进行调整，
上述偏振面被调整过的光，通过上述空间光调制器(4)，被分别进行可控的相位调制及强度调制，
通过上述折返用反射器(5)，光被折返回来，
经过上述聚光透镜，被聚光，
通过上述衍射光栅，使按照频率分解了的光合波，
在上述光波形整形装置中，
还包括，
检测部(31)，
与电压调整部(33)，
上述检测部(31)和电压调整部(33)都与控制装置(32)相连接，
上述检测部(31)，
检测出，通过上述强度调制部(22)进行强度调制时产生的相位的偏差，
上述控制装置(32)，
对施加向上述相位调制部(24)的驱动电压直接进行控制的同时，也对施加向上述强度调制部(22)的驱动电压直接进行控制，
上述电压调整部(33)，
将电压输出到上述相位调制部(24)上，
上述控制装置(32)，根据由上述检测部(31)检测出的不同频率的光的相位的偏差，输出控制信号以指示上述电压调整部(33)，
上述电压调整部(33)，按照从上述控制装置(32)接收到的控制信号，向上述相位调制部(24)的液晶元件的电极输出所需的电压，
从而，使由强度调制产生的相位的偏差得到补偿。
10.一种光波形整形装置(10)，其特征在于，
该光波形整形装置(10)用于将传输对象即光信号传输，其包括：
分波器(1)，该分波器(1)将来自于光源的光按照不同频率分解；
聚光部(2)，该聚光部(2)使由上述分波器(1)分解的多个光聚光；
偏振片(3)，经过了上述聚光部(2)的光入射到该偏振片(3)中，由该偏振片(3)调整入射光的偏振面；
空间光调制器(4)，经过了上述偏振片(3)的光入射到该空间光调制器(4)中，该空间光调制器(4)具有相位调制部及强度调制部，
上述相位调制部与上述强度调制部均具有液晶元件，且共用1片玻璃基板，隔着该玻璃基板相邻设置。
11.根据权利要求10所述的光波形整形装置，其特征在于，上述分波器(1)包含高色散单元。
12.根据权利要求10所述的光波形整形装置，其特征在于，
上述空间光调制器包括强度调制部(22)与相位调制部(24)，
该强度调制部(22)具有呈线形或矩阵形排列的多个液晶元件(21)，
该相位调制部(24)具有与上述强度调制部的液晶元件(21)相对应的多个液晶元件(23)，
上述强度调制部的液晶的取向与上述相位调制部的液晶的取向呈45度角。
13.根据权利要求10所述的光波形整形装置，其特征在于，
上述空间光调制器(4)包括：
强度调制部(22)，该强度调制部(22)具有呈线形或矩阵形排列的多个液晶元件(21)；
相位调制部(24)，该相位调制部(24)具有与上述强度调制部的液晶元件(21)相对应的多个液晶元件(23)，
上述强度调制部(22)的液晶元件(21)及上述相位调制部(24)的液晶元件(23)，分别具有液晶物质的同时，还具有隔着该液晶物质设置的电极，
所述光波形整形装置包括：
检测部(31)，在通过上述强度调制部(22)进行强度调制的时候，该检测部(31)检测从光波形整形装置(10)输出的输出光；
控制装置(32)，该控制装置(32)，接收与由上述检测部检测出的不同频率的光的相位偏差相关的信息，对施加在上述相位调制部(24)的各液晶元件(23)的电极上的电压进行控制；
电压调整部(33)，按照来自于上述控制装置(32)的控制指令，该电压调整部(33)，调整输向上述相位调制器(24)的各液晶元件(23)的电压，并将该电压输出以施加在上述相位调制器(24)的各液晶元件(23)的电极上。
14.根据权利要求10所述的光波形整形装置(10)，其特征在于，
所述光波形整形装置(10)还包括反射部(5)，经过了上述空间光调制器(4)的光入射到该反射部(5)上。
15.根据权利要求10所述的光波形整形装置，其特征在于，
该光波形整形装置还包括：
第2聚光透镜(11)，经过了上述空间光调制器(4)的光入射到该第2聚光透镜(11)中；
合波器(12)，经过了上述第2聚光透镜(11)的光入射到该合波器(12)中，该合波器(12)使分离的多个频率的光合波。
16.根据权利要求10所述的光波形整形装置(10)，其特征在于，上述偏振片(3)为干涉膜型的起偏器。
17.根据权利要求10所述的光波形整形装置(10)，其特征在于，
上述空间光调制器(4)的上述液晶元件设置在上述玻璃基板的表面上、且位于离开上述玻璃基板中心而靠近左右任意一侧的位置。
18.一种光波形整形装置(10)，其特征在于，
该光波形整形装置(10)用于将传输对象即光信号传输，其包括：
衍射光栅(1)、聚光透镜(2)、偏振片(3)、空间光调制器(4)及折返用反射器(5)，
上述衍射光栅(1)将来自于光源的光按照不同频率分解，
上述聚光透镜(2)使由上述衍射光栅(1)分解的多个光聚光，
偏振片(3)，经过了上述聚光透镜(2)的光入射到上述偏振片(3)中，由该偏振片(3)调整入射光的偏振面，
经过了上述偏振片(3)的光入射到上述空间光调制器(4)中，该空间光调制器(4)具有相位调制部及强度调制部，该相位调制部及强度调制部分别具有，于各自对应的空间位置上存在的多个呈线形或矩阵形排列的液晶元件，上述相位调制部的液晶的取向与由上述偏振片(3)调整后的光的偏振面相平行，上述强度调制部的液晶的取向与上述相位调制部的液晶的取向呈45度角，
经过了上述空间光调制器(4)的光入射到上述折返用反射器(5)中，
上述相位调制部与上述强度调制部，共用1片玻璃基板，隔着该玻璃基板相邻设置，
来自于光源的光，通过上述衍射光栅(1)按照频率被分解从而在空间上分散，
通过上述聚光透镜，使上述按照频率被分解的在空间上分散的光聚光，
通过上述偏振片(3)对上述被聚光的光的偏振面进行调整，
上述偏振面被调整过的光，通过上述空间光调制器(4)，被分别进行可控的相位调制及强度调制，
通过上述折返用反射器(5)，光被折返回来，
经过上述聚光透镜，被聚光，
通过上述衍射光栅，使按照频率分解了的光合波。
CN2008800189637A 2007-06-15 2008-06-13 光波形整形装置 Expired - Fee Related CN101981490B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007159592A JP5125245B2 (ja) 2007-06-15 2007-06-15 光波形整形装置
JP159592/2007 2007-06-15
PCT/JP2008/001539 WO2008155894A1 (ja) 2007-06-15 2008-06-13 光波形整形装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101981490A CN101981490A (zh) 2011-02-23
CN101981490B true CN101981490B (zh) 2013-03-20

Family

ID=40156058

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2008800189637A Expired - Fee Related CN101981490B (zh) 2007-06-15 2008-06-13 光波形整形装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US8199265B2 (zh)
EP (1) EP2159625B1 (zh)
JP (1) JP5125245B2 (zh)
CN (1) CN101981490B (zh)
WO (1) WO2008155894A1 (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108957765A (zh) * 2018-08-27 2018-12-07 华中科技大学 一种改变激光聚焦光斑空间方向的方法及装置

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8238030B2 (en) * 2010-03-22 2012-08-07 Agilent Technologies, Inc. Fiber-coupled collimator for generating multiple collimated optical beams having different wavelengths
JP5583515B2 (ja) * 2010-08-11 2014-09-03 オリンパス株式会社 レーザ顕微鏡用照明装置およびレーザ顕微鏡
WO2012070646A1 (ja) * 2010-11-26 2012-05-31 株式会社グローバルファイバオプティックス 旋光度測定装置、旋光度測定システムに用い得る旋光度測定方法、旋光度測定光学系、旋光度測定用の検体セル
JP5838532B2 (ja) 2011-06-15 2016-01-06 国立研究開発法人情報通信研究機構 波長選択偏波制御器
US9442295B2 (en) * 2012-04-20 2016-09-13 Hamamatsu Photonics K.K. Beam-shaping device
CN103560769B (zh) * 2013-11-04 2016-05-11 中国电子科技集团公司第四十一研究所 一种任意波形发生器及任意波形产生方法
DE102015110449A1 (de) 2015-06-29 2016-12-29 Carl Zeiss Ag Vorrichtung und Verfahren zur Lichtmodulation
US9791627B1 (en) * 2016-04-08 2017-10-17 Dicon Fiberoptics, Inc. Integrated optical components with wavelength tuning and power isolation functions
TWI644523B (zh) * 2016-10-06 2018-12-11 國立中山大學 利用光波塑形之訊號處理方法及其裝置
CN112817157A (zh) * 2020-12-28 2021-05-18 西南技术物理研究所 一种新型平顶光束发生装置
CN115708123A (zh) * 2021-08-18 2023-02-21 深圳光峰科技股份有限公司 图像显示方法、装置、电子设备及存储介质

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1521537A (zh) * 2003-02-12 2004-08-18 奥普托古纳公司 用于光束空间调制的装置及相应的应用
US6826209B1 (en) * 1999-12-14 2004-11-30 Japan Science And Technology Corporation Ultrabroad-band variable-wavelength wavelength-multiplexed pulse waveform shaping device
CN1661416A (zh) * 2004-02-27 2005-08-31 华东师范大学 一种脉冲整形装置
CN1871545A (zh) * 2003-10-23 2006-11-29 皇家飞利浦电子股份有限公司 偏振独立相位调制器

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02308225A (ja) * 1989-05-24 1990-12-21 Ricoh Co Ltd 液晶表示素子
JP3141440B2 (ja) * 1990-09-21 2001-03-05 セイコーエプソン株式会社 光学装置
US5719650A (en) * 1995-05-12 1998-02-17 Massachusetts Institute Of Technology High-fidelity spatial light modulator
JPH1152348A (ja) 1997-07-31 1999-02-26 Ricoh Co Ltd 液晶表示素子
JP2960392B2 (ja) 1997-10-29 1999-10-06 ウシオ電機株式会社 液晶表示素子の配向膜光配向用偏光光照射装置
JPH11174433A (ja) 1997-12-09 1999-07-02 Casio Comput Co Ltd カラー液晶表示装置
JPH11212081A (ja) 1998-01-27 1999-08-06 Tatsuo Uchida 複屈折色を用いた反射型カラー液晶ディスプレイ
JP3460960B2 (ja) * 1998-12-22 2003-10-27 理化学研究所 広帯域空間光位相変調器
US6275623B1 (en) * 1999-07-12 2001-08-14 Corning Incorporated Dynamically configurable spectral filter
JP4409670B2 (ja) * 1999-08-02 2010-02-03 浜松ホトニクス株式会社 光波形整形装置
US20080089698A1 (en) * 2006-05-19 2008-04-17 Zhi Jiang Optical arbitrary waveform generation and processing using spectral line-by-line pulse shaping
JP5228205B2 (ja) * 2007-06-15 2013-07-03 独立行政法人情報通信研究機構 光波形整形装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6826209B1 (en) * 1999-12-14 2004-11-30 Japan Science And Technology Corporation Ultrabroad-band variable-wavelength wavelength-multiplexed pulse waveform shaping device
CN1521537A (zh) * 2003-02-12 2004-08-18 奥普托古纳公司 用于光束空间调制的装置及相应的应用
CN1871545A (zh) * 2003-10-23 2006-11-29 皇家飞利浦电子股份有限公司 偏振独立相位调制器
CN1661416A (zh) * 2004-02-27 2005-08-31 华东师范大学 一种脉冲整形装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108957765A (zh) * 2018-08-27 2018-12-07 华中科技大学 一种改变激光聚焦光斑空间方向的方法及装置
CN108957765B (zh) * 2018-08-27 2020-05-19 华中科技大学 一种改变激光聚焦光斑空间方向的方法及装置

Also Published As

Publication number Publication date
US8199265B2 (en) 2012-06-12
EP2159625A1 (en) 2010-03-03
CN101981490A (zh) 2011-02-23
US20100157179A1 (en) 2010-06-24
EP2159625B1 (en) 2019-02-27
JP5125245B2 (ja) 2013-01-23
EP2159625A4 (en) 2012-07-25
WO2008155894A1 (ja) 2008-12-24
JP2008310190A (ja) 2008-12-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101981490B (zh) 光波形整形装置
CN101681030B (zh) 光波形整形装置
US11243352B2 (en) Polarization independent processing in integrated photonics
US6915040B2 (en) Devices and applications based on tunable wave-guiding bragg gratings with nonlinear group delays
US6453095B2 (en) Tuning of optical dispersion by using a tunable fiber bragg grating
Breer et al. Low-crosstalk WDM by Bragg diffraction from thermally fixed reflection holograms in lithium niobate
US8254732B2 (en) Phase modulator and optical modulation device
EP2239620B1 (en) Optical pulse generator
WO2009084545A1 (ja) 光変調器
US5889900A (en) Integrated optic tunable filters and their methods of fabrication and use
CN105467585A (zh) 光调制器以及图像显示装置
RU2200970C2 (ru) Электрически перестраиваемый оптический фильтр
US6584260B2 (en) Electro-optical device and a wavelength selection method utilizing the same
CN104181640A (zh) 一种基于液晶变焦透镜的光交换模块
CN103608717A (zh) 波长区分型偏振控制器
EP1410100B1 (en) Fiber optical gain equalizer
CA2690852C (en) Optical waveform shaping device
Gao Wavelength-domain RF photonic signal processing
SU1728832A1 (ru) Устройство дл передачи пол ризованного оптического излучени
Petrov et al. A dynamic wavelength Bragg-filter with an on-line controllable transfer function
Yaqoob Grating-based real-time smart optics for biomedicine and communications
Krautschik Nonlinear polarization switching and logic operation with rocking filter fibers
Poh Opto-VLSI processing for reconfigurable optical devices

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20130320

Termination date: 20210613

CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee