CN101962755A - 连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统 - Google Patents
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本发明涉及真空镀膜技术，尤其涉及一种连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统,包括至少二个溅射室，即第一溅射室和第二溅射室；还包括过度室，过度室设置于第一溅射室和第二溅射室之间；第一溅射室与过度室之间具有供被镀物连续通过的第一通道，过度室与第二溅射室之间具有供被镀物连续通过的第二通道；过度室连接真空发生装置，过度室的真空度大于第一溅射室的真空度，过度室的真空度也大于第二溅射室的真空度；过度室还具有进气孔和排气孔，进气孔和排气孔均设置于第一通道与第二通道之间，气体流过进气孔流入排气孔，在第一通道与第二通道之间构成风幕。本发明提供一种连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统，以便实现连续式多室多气氛镀膜。
Description
技术领域
本发明涉及真空镀膜技术，尤其涉及一种连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统。
背景技术
溅射技术是真空镀膜主要方式，现有技术中，涉及多次溅射的，一般采用非连续式分次溅射，中间需要转运和存贮环节。中间环节不仅令制造成成本提高，被镀物还容易在中间环节被氧化或污染，直接影响镀膜品质。采用这种方式的主要是因为现有的真空溅设装备，无法实现连续式作业，不同溅射室的工作气体和真空度有所不同，连续作业会导致工作气体的混同，无法镀膜。
本发明中所称的工作气，指溅射反应气体。
发明内容
本发明的目的在于克服上述现有技术的不足之处而提供一种连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统，以便实现每个镀膜室的气氛需要严格控制的连续式多室镀膜。
本发明的目的可以通过以下技术方案实现：
一种连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统，包括至少二个溅射室，即第一溅射室和第二溅射室；其特征在于：还包括过度室，所述过度室设置于所述第一溅射室和所述第二溅射室之间；所述第一溅射室与所述过度室之间具有供被镀物连续通过的第一通道，所述过度室与所述第二溅射室之间具有供被镀物连续通过的第二通道；所述过度室连接真空发生装置，所述过度室的真空度大于所述第一溅射室的真空度，所述过度室的真空度也大于所述第二溅射室的真空度；所述过度室还具有进气孔和排气孔，所述进气孔和所述排气孔均设置于所述第一通道与所述第二通道之间，气体流过所述进气孔流入所述排气孔，在所述第一通道与所述第二通道之间构成风幕。
连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统，其特征在于：所述第一溅射室还包括保护气输入管和工作气输入管，所述工作气输入管还连接第一单向阀，所述第一单向阀的设置方式为所述工作气只能向所述第一溅射室流入。
连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统，其特征在于：所述第二溅射室还包括保护气输入管和工作气输入管，所述工作气输入管还连接第二单向阀，所述第二单向阀的设置方式为所述工作气只能向所述第二溅射室流入。
连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统，其特征在于：所述保护气为Ar，所述工作气为O2/N2/C2H2,等。
连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统，其特征在于：所述风幕是Ar气风幕。
连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统，其特征在于：所述第一溅射室和所述第二溅射室分别连接真空发生装置。
连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统，其特征在于：还包括被镀物输送装置，所述被镀物输送装置由所述第一溅射室连续经过所述第一通道、所述过度室、所述第二通道，通向所述第二溅射室。
本发明的目的还可以通过以下技术方案实现：
一种连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统，包括至少二个溅射室，即第一溅射室和第二溅射室；其特征在于：还包括过度室，所述过度室设置于所述第一溅射室和所述第二溅射室之间；所述第一溅射室与所述过度室之间具有供被镀物连续通过的第一通道，所述过度室与所述第二溅射室之间具有供被镀物连续通过的第二通道；所述过度室连接真空发生装置，所述过度室的真空度大于所述第一溅射室的真空度，所述过度室的真空度也大于所述第二溅射室的真空度；所述过度室还具有进气孔，进气孔的轴心位于一个平面内。
连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统，其特征在于：所述进气孔有两组或多组，每一组进气孔的轴心位于一个平面内，每一组进气孔两侧区域分别连通真空发生装置。
本发明的目的还可以通过以下技术方案实现：
一种连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统，包括至少二个溅射室，即第一溅射室和第二溅射室；其特征在于：还包括过度室，所述过度室设置于所述第一溅射室和所述第二溅射室之间；所述第一溅射室与所述过度室之间具有供被镀物连续通过的第一通道，所述过度室与所述第二溅射室之间具有供被镀物连续通过的第二通道；所述过度室连接真空发生装置，所述过度室的真空度大于所述第一溅射室的真空度，所述过度室的真空度也大于所述第二溅射室的真空度；所述过度室还具有进气孔，所述真空发生装置通过抽气孔连通至过度室，所述进气孔远离所述抽气孔。
本发明的连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统，通过过度室实现第一溅射室与第二溅射室的对接，并且过度室的真空度大于第一溅射室及第二溅射室，确保第一溅射室和第二溅射室内的气体只能向过度室流入，而不能反流，从而阻止了第一溅射室和第二溅射室工作气体的混同；过度室内设置风幕，将过度室分割为二部分，进一步阻止二种工作气体的混同，并能减少工作气的损耗。与现有技术相比，本发明的连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统实现了二个溅射室的在线隔离，具有能够实现对工作气气氛敏感的多层膜产品的连续溅射镀膜的优点。
附图说明
图1是本发明第一个实施例的示意图。
图2是本发明第二个实施例的示意图。
具体实施方式
下面将结合附图对本发明作进一步详述。
参考图1，本发明的第一个实施例是一种连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统，包括二个溅射室，即第一溅射室101和第二溅射室103；还包括过度室102，所述过度室102设置于所述第一溅射室101和所述第二溅射室103之间；所述第一溅射室101与所述过度室102之间具有供被镀物连续通过的第一通道104，所述过度室102与所述第二溅射室103之间具有供被镀物连续通过的第二通道105；所述过度室102连接真空发生装置109，所述过度室102的真空度大于所述第一溅射室101的真空度，所述过度室102的真空度也大于所述第二溅射室103的真空度；所述过度室102还具有进气孔106和排气孔107，所述进气孔106和所述排气孔107均设置于所述第一通道104与所述第二通道105之间，本实施例中，所述进气孔106与所述排气孔107均是长条形孔，当然，作为本实施例的一种变换方案，也可以是多个小圆孔按条形排布；气体流过所述进气孔106流入所述排气孔107，在所述第一通道104与所述第二通道105之间构成风幕108；本实施例中构成所述风幕108的气体是Ar。当然，作为本实施例的另一种变换方案，也可以只设置进气孔而不设置排气孔，依靠抽真空装置排除进气孔输入的气体。本实施例中，所述第一溅射室101还包括工作气输入管111和工作气输入管110，所述工作气输入管110还连接第一单向阀114，所述第一单向阀114的设置方式为所述工作气只能向所述第一溅射室101流入。本实施例中，第一溅射室101的工作气为O2，保护气为Ar 。本实施例中，所述第二溅射室包括工作气输入管113和工作气输入管112，所述工作气气输入管112还连接第二单向阀115，所述第二单向阀115的设置方式为所述工作气只能向所述第二溅射室103流入。本实施例中，第二溅射室103的工作气为N2，所述保护气为Ar 。本实施例中，所述风幕108是Ar气风幕。本实施例中，所述第一溅射室101和所述第二溅射室103分别连接真空发生装置109。本实施例中，还包括被镀物输送装置，所述被镀物输送装置由所述第一溅射室101连续经过所述第一通道104、所述过度室102、所述第二通道105，通向所述第二溅射室103，再次参考图1，空心箭头示出了被镀物的流向。
参考图2，本发明第二个实施例也一种连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统，包括至少二个溅射室，即第一溅射室和第二溅射室；还包括过度室，所述过度室设置于所述第一溅射室和所述第二溅射室之间；所述第一溅射室与所述过度室之间具有供被镀物连续通过的第一通道，所述过度室与所述第二溅射室之间具有供被镀物连续通过的第二通道；所述过度室连接真空发生装置，所述过度室的真空度大于所述第一溅射室的真空度，所述过度室的真空度也大于所述第二溅射室的真空度；所述过度室还具有进气孔290，进气孔的轴心位于一个平面内。所述进气孔有两组，每一组进气孔290的轴心位于一个平面内，每一组进气孔290两侧区域分别连通真空发生装置。当然，在本实施例中，可以在进气孔的平面内设置出气孔，以便形成平面风幕，也可以不设置出气孔，利用真空抽走进气孔输入的保护气，两种方式均能实现本发明。
本发明的第三个实施例也是一种一种连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统，包括至少二个溅射室，即第一溅射室和第二溅射室；还包括过度室，所述过度室设置于所述第一溅射室和所述第二溅射室之间；所述第一溅射室与所述过度室之间具有供被镀物连续通过的第一通道，所述过度室与所述第二溅射室之间具有供被镀物连续通过的第二通道；所述过度室连接真空发生装置，所述过度室的真空度大于所述第一溅射室的真空度，所述过度室的真空度也大于所述第二溅射室的真空度；所述过度室还具有进气孔，所述真空发生装置通过抽气孔连通至过度室，所述进气孔远离所述抽气孔，本实施例中进气孔输入的保护气通过抽气孔由真空发生装置排走，因进气孔远离抽气孔，保护气流过过度室的空间大，可以最大限度在稀释及带走闲杂气体，加强保护效果。
Claims (10)
1.一种连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统，包括至少二个溅射室，即第一溅射室和第二溅射室；其特征在于：
还包括过度室，所述过度室设置于所述第一溅射室和所述第二溅射室之间；
所述第一溅射室与所述过度室之间具有供被镀物连续通过的第一通道，所述过度室与所述第二溅射室之间具有供被镀物连续通过的第二通道；
所述过度室连接真空发生装置，所述过度室的真空度大于所述第一溅射室的真空度，所述过度室的真空度也大于所述第二溅射室的真空度；
所述过度室还具有进气孔和排气孔，所述进气孔和所述排气孔均设置于所述第一通道与所述第二通道之间，气体流过所述进气孔流入所述排气孔，在所述第一通道与所述第二通道之间构成风幕。
2.根据权利要求1所述的连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统，其特征在于：所述第一溅射室还包括保护气输入管和工作气输入管，所述工作气输入管还连接第一单向阀，所述第一单向阀的设置方式为所述工作气只能向所述第一溅射室流入。
3.根据权利要求1所述的连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统，其特征在于：所述第二溅射室还包括保护气输入管和工作气输入管，所述工作气输入管还连接第二单向阀，所述第二单向阀的设置方式为所述工作气只能向所述第二溅射室流入。
4.根据权利要求2或3所述的连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统，其特征在于：所述保护气为Ar，所述工作气为O 2 /N 2 /C 2 H 2 ,等。
5.根据权利要求1所述的连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统，其特征在于：所述风幕是Ar气风幕。
6.根据权利要求1所述的连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统，其特征在于：所述第一溅射室和所述第二溅射室分别连接真空发生装置。
7.根据权利要求1所述的连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统，其特征在于：还包括被镀物输送装置，所述被镀物输送装置由所述第一溅射室连续经过所述第一通道、所述过度室、所述第二通道，通向所述第二溅射室。
8.一种连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统，包括至少二个溅射室，即第一溅射室和第二溅射室；其特征在于：
还包括过度室，所述过度室设置于所述第一溅射室和所述第二溅射室之间；
所述第一溅射室与所述过度室之间具有供被镀物连续通过的第一通道，所述过度室与所述第二溅射室之间具有供被镀物连续通过的第二通道；
所述过度室连接真空发生装置，所述过度室的真空度大于所述第一溅射室的真空度，所述过度室的真空度也大于所述第二溅射室的真空度；
所述过度室还具有进气孔，进气孔的轴心位于一个平面内。
9.根据权利要求8所述的连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统，其特征在于：所述进气孔有两组或多组，每一组进气孔的轴心位于一个平面内，每一组进气孔两侧区域分别连通真空发生装置。
10.一种连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统，包括至少二个溅射室，即第一溅射室和第二溅射室；其特征在于：
还包括过度室，所述过度室设置于所述第一溅射室和所述第二溅射室之间；
所述第一溅射室与所述过度室之间具有供被镀物连续通过的第一通道，所述过度室与所述第二溅射室之间具有供被镀物连续通过的第二通道；
所述过度室连接真空发生装置，所述过度室的真空度大于所述第一溅射室的真空度，所述过度室的真空度也大于所述第二溅射室的真空度；
所述过度室还具有进气孔，所述真空发生装置通过抽气孔连通至过度室，所述进气孔远离所述抽气孔。
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