射频功率单刀双掷开关电路
技术领域
本发明是一种基于砷化镓(GaAs)赝配高电子迁移率晶体管(PHEMT)的射频功率单刀双掷开关(SPDT)电路。属于微波单片集成电路领域。
背景技术
DC-2000MHz的微波系统,特别是移动通信系统中,功率放大器PA到天线ANT和低噪声放大器LNA到天线间通常需要一个功率开关SW来控制收发切换。在目前的微波通讯系统中,功率开关通常有两种形式,一种是采用分立的硅(si)材料的PIN二极管,采用混合电路的方式完成,其特点是体积大,工作频带窄,控制电路复杂。另一种是采用砷化镓(GaAs)赝配高电子迁移率晶体管(PHEMT)单片开关,PHEMT开关具有体积小,应用频带宽,使用方便的特点,但通过的功率相对较小。随着移动通信系统的不断发展,对系统的性能,频率带宽,集成度,体积,成本的要求越来越高,因此PHEMT开关的应用越来越广泛。目前通信的商用PHEMT开关产品,频率覆盖范围DC-6GHz,功率在2GHz处,P-1功率10W。随着一些新的通讯系统的研制和开发,希望功率开关可以处理大于10W的功率,目前传统的砷化镓(GaAs)PHEMT开关单片性能上无法实现。
发明内容
本发明提出的是一种一种基于砷化镓(GaAs)赝配高电子迁移率晶体管(PHEMT)的射频功率单刀双掷开关(SPDT)电路,其目的旨在克服现有技术所存在的上述缺陷,通过电路结构的设计,增加了功率容量,在2GHz可以通过20w,满足了系统的要求。
本发明创造的技术方案:其结构是采用采用三栅PHEMT,串并拓扑,对称结构设计,并联支路通过电容隔直到地。在输入到第1输出的信号通道上,PHEMT管FET3、FET4串联连接,由控制信号V1控制,PHEMT管FET5、FET6通过隔直电容C1并联到地,由控制端信号V1-控制;在输入到第2输出的信号通道上,PHEMT管FET1、FET2串联连接,由控制端信号V1-控制PHEMT管FET7、FET8通过隔直电容C2并联到地,由控制信号V1控制。当控制信号V1为高电位,控制端信号V1-为低电位时,PHEMT管FET3、FET4的栅源电位近似为零电位,PHEMT管FET3、FET4处于导通状态;而PHEMT管FET5、FET6的栅源电位近似为负电位,PHEMT管FET3、FET4处于截止状态;同样道理,PHEMT管FET1、FET2处于截止状态,PHEMT管FET7、FET8处于导通状态;因此输入到第1输出的信号通道上,微波信号通过,而输入到第2输出的信号通道上,微波信号截止,开关电路完成信号通道的切换;
当控制信号V1为低电位,制端信号V1-为高电位时,同样道理,PHEMT管FET3、FET4处于截止状态,PHEMT管FET5和FET6处于导通状态;同时PHEMT管FET1、FET2处于导通状态,PHEMT管FET7、FET8处于截止状态,因此输入到第1输出的信号通道上,微波信号截止,而输入到第2输出的信号通道上,微波信号通过,开关电路完成信号通道的切换。
本发明采用2个三栅PHEMT管的串联结构,大大提高了击穿电压,增大了功率容量。目前在2GHz本发明的SPDT开关可以通过信号功率达20w。
射频功率单刀双掷开关(SPDT)电路
砷化镓(GaAs)射频功率单刀双掷开关(SPDT)单片电路采用CAD优化设计,保证在微波频带(DC-2000MHz)内,有较小的插损和良好的驻波。本功率SPDT开关的典型参数(2GHz):插入损耗小于0.7dB,隔离度30dB,P-0.1=20W@8v。
在工艺上,采用6英寸的0.5um GaAs PHEMT单片集成电路标准工艺。首先形成PHEMT管源漏的金属化,完成台面隔离,然后湿法腐蚀栅,形成栅极的金属化,接下来进行电容下电极M1金属化,电容介质生长,M2金属的金属化,介质保护。最后是背面通孔及金属化工艺。
本发明的优点:该单片电路一方面满足通讯系统大功率工作条件,保证系统正常工作。另一方面具有体积小,插入损耗小,使用方便的特点。信号通过的功率大,SPDT开关采用2个3栅PHEMT管的串联结构,提高了击穿电压,增大了功率容量。在2GHz可以通过连续波20w。国外的一些产品采用1个4栅PHEMT管的串联结构,其最大通过的连续波10w。开关电路只需一组互补的控制信号(V1、V1-),完成信号通路切换,应用方便。
附图说明:
附图1是本发明在微波通讯系统中的应用示意图。
附图2是本发明的电路结构示意图。
附图3是3栅PHEMT管的平面结构示意图。
附图4是GaAs SPDT功率开关芯片的示意图。
具体实施方式
对照附图1,在通信系统中,发射状态时,基带信号经过编码后,通过功
放放大,再经过开关后通过天线发射出去,此时开关工作状态是IN-OUT1导通,IN-OUT2通道截止。接收状态时,接收信号由天线输入经过开关,再由低噪放放大后进入接收处理单元进行解码等处理,此时开关工作状态是IN-OUT1截止,IN-OUT2通道导通。本发明的开关采用对称设计,因此发射和接收的位置可以互换。
对照附图2,其结构是采用三栅PHEMT,串并拓扑,对称结构设计,并联支路通过电容隔直到地。在输入到第1输出的信号通道上,PHEMT管FET3和PHEMT管FET4串联连接,由控制信号V1控制,PHEMT管FET5和PHEMT管FET6通过隔直电容C1并联到地,由控制端信号V1-控制;在输入到第2输出的信号通道上,PHEMT管FET1和PHEMT管FET2串联连接,由控制端信号V1-控制;PHEMT管FET7和PHEMT管FET8通过隔直电容C2并联到地,由控制信号V1控制。
当控制信号V1为高电位,控制端信号V1-为低电位时,PHEMT管FET3和PHEMT管FET4的栅源电位近似为零电位,PHEMT管FET3和PHEMT管FET4处于导通状态;而PHEMT管FET5和FET6的栅源电位近似为负电位,PHEMT管FET3和PHEMT管FET4处于截止状态;同样道理,PHEMT管FET1和PHEMT管FET2处于截止状态,PHEMT管FET7和PHEMT管FET8处于导通状态;因此输入到第1输出的信号通道上,微波信号通过,而输入到第2输出的信号通道上,微波信号截止,开关电路完成信号通道的切换;当控制信号V1为低电位,制端信号V1-为高电位时,同样道理,PHEMT管FET3和PHEMT管FET4处于截止状态,PHEMT管FET5和PHEMT管FET6处于导通状态;同时PHEMT管FET1和PHEMT管FET2处于导通状态,PHEMT管FET7和PHEMT管FET8处于截止状态,因此输入到第1输出的信号通道上,微波信号截止,而输入到第2输出的信号通道上,微波信号通过,开关电路完成信号通道的切换。
对照附图3,PHEMT管源极1,漏极2,隔离区域3。三栅PHEMT的三个栅极4,5,6。三个栅极的栅长为0.5um。两个栅极之间的距离是栅栅间距,栅极6和源极1的距离是栅源间距,栅极4和漏极2的距离是栅漏间距。隔离区域3的长度定义为栅宽。
对照附图4,是GaAs SPDT功率开关的芯片大小及压点示意图。开关芯片1600um*1025um,厚200um。芯片压点包括:输入端(in),输出端1(out1),输出端2(out2),一对控制信号(V1,V1-),地(GND)。
实施例:
a)GaAs PHEMT管的设计。
确定GaAs PHEMT管的模型参数,包括结电容,击穿电压,饱和电流,导通电阻等参数。根据SPDT开关的性能要求,选择不同的PHEMT管。通常第一至第四PHEMT管FET1,FET2,FET3,FET4栅宽相同,第五至第八PHEMT管FET5,FET6,FET7,FET8栅宽相同,电容C1、C2的容值相等。
b)GaAs功率SPDT开关的设计。
根据图2的电路结构原理,进行微波CAD仿真,选择PHEMT管的栅宽,调节电容的大小,优化开关的微波S参数,以达到设计要求。最后根据电路原理进行版图布局。
c)元件参数设计。
第一至第四号PHEMT管FET1,FET2,FET3,FET4栅宽相同,栅宽4000um。源极宽5um,漏极宽5um,栅长0.5um,栅栅间距1.5um,栅源间距1um,栅漏间距1um。
第五至第八号PHEMT管FET5,FET6,FET7,FET8,栅宽相同,栅宽400um。源极宽5um,漏极宽5um,栅长0.5um,栅栅间距1.5um,栅源间距1um,栅漏间距1um。
电容C1、C2的容值为4pF。
d)按上述要求完成电路拓扑结构。