CN101956175B - 真空连续镀膜系统以及使用该系统装卸掩膜板的方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种真空连续镀膜系统及使用该系统装卸掩膜板的方法,该真空连续镀膜系统包括掩膜板存储设备、真空镀膜机及掩膜板传输设备,掩膜板存储设备内存储若干掩膜板,掩膜板传输设备分别与所述掩膜板存储设备及所述真空镀膜机连通,所述掩膜板存储设备通过所述掩膜板传输设备为所述真空镀膜机提供镀膜用掩膜板并回收完成镀膜后的掩膜板,其中,还包括与所述掩膜板传输设备连通的掩膜板处理设备,掩膜板处理设备对完成镀膜后的掩膜板进行清洗或维修,并将清洗或维修完的掩膜板通过=掩膜板传输设备送入所述掩膜板存储设备存储或真空镀膜机。使用本发明可在真空环境下进行连续装卸掩膜板;另,本发明还公开了一种使用该系统装卸掩膜板的方法。

Description

真空连续镀膜系统以及使用该系统装卸掩膜板的方法
技术领域
本发明涉及一种真空镀膜系统,尤其涉及一种真空连续镀膜系统,以及使用该系统装卸掩膜板的方法。
背景技术
随着经济的不断发展、科技的不断进步和世界能源的日益减少,人们在生产中越来越重视能源的节约及利用效率,使得人与自然和谐发展以满足中国新型的工业化道路要求。
例如,在数码产品的显示产业中,企业为了节约能源、降低生产成本,都加大投资研发力度,不断地追求节能的新产品。其中,OLED显示屏就是数码产品中的一种新产品,OLED即有机发光二极管(Organic Light-EmittingDiode),因为具备轻薄、省电等特性,因此在数码产品的显示屏上得到了广泛应用,并且具有较大的市场潜力,目前世界上对OLED的应用都聚焦在平板显示器上,因为OLED是唯一在应用上能和TFT-LCD相提并论的技术,且是目前所有显示技术中,唯一可制作大尺寸、高亮度、高分辨率软屏的显示技术,可以做成和纸张一样的厚度;但OLED显示屏(有机发光显示屏)与传统的TFT-LCD显示屏(液晶显示屏)并不同,其无需背光灯,采用非常薄的有机材料涂层和玻璃基片,当有电流通过时,这些有机材料就会发光,而且OLED显示屏可以做得更轻更薄,可视角度更大,并且能够显著节省电能;相应地,制造OLED显示屏的所有设备必须要保证OLED显示屏的精度要求。OLED显示屏是基于有机材料的一种电流型半导体发光器件。其典型结构是在ITO玻璃上蒸镀一层几十纳米厚的有机发光材料作发光层,发光层上方有一层低功函数的金属电极。当电极上加有电压时,发光层就产生光辐射。
为了使其能够全彩色显示装置,发光层应被图案化。通常发光层图案化是利用精细金属掩膜(MASK)贴合在导电玻璃基片上,使蒸发源中的有机材料在基板上沉积为所要求的图案,此时,需要一种掩膜板装卸装置将掩膜板从真空镀膜机中输入或输出。然而,现有的掩膜板装卸装置工作时,先将掩膜板从掩膜板存储设备输送到真空镀膜机中,镀膜结束后,再将掩膜板从真空镀膜机输出到掩膜板存储设备,这种装卸方式存在着以下问题:一方面,由于输入到真空镀膜机的掩膜板必须是干净完好的掩膜板,而从真空镀膜机中输出的掩膜板往往需要进行清洁或者维修才能使用不能循环输入到真空镀膜机中,而掩膜板存储设备中的掩膜板数量是有限的,以至于在真空镀膜机工作一段时间后,需等到掩膜板存储设备重新装载新的掩膜板后才可以急需工作,并不能使掩膜板直接完成清洗或者维修然后直接回到真空镀膜机中循环使用。
因此,急需一种可进行连续循环装卸掩膜板的真空连续镀膜系统。
发明内容
本发明的目的是提供一种可进行连续循环装卸掩膜板的真空连续镀膜系统。
本发明的目的在于提供一种使用上述真空连续镀膜系统连续装卸掩膜板的方法。
为了实现上有目的,本发明公开了一种真空连续镀膜系统,包括掩膜板存储设备、真空镀膜机、掩膜板传输设备和掩膜板处理设备,所述掩膜板存储设备内存储若干掩膜板,所述掩膜板传输设备分别与所述掩膜板存储设备、真空镀膜机和掩膜板处理设备连通,所述掩膜板存储设备通过所述掩膜板传输设备为所述真空镀膜机提供镀膜用掩膜板并回收完成镀膜后的掩膜板,所述掩膜板处理设备对完成镀膜后的掩膜板进行清洗或维修,并将清洗或维修完的所述掩膜板通过所述掩膜板传输设备送入所述掩膜板存储设备存储或真空镀膜机。
较佳地,所述掩膜板传输设备包括:真空腔室、上轨道、下轨道、夹持机构、处理传输装置和真空装置,所述真空腔室的腔壁上开设有装载通道、处理通道、镀膜通道以及通气孔,所述镀膜通道上安装有与真空镀膜机相连的镀膜闸阀,所述装载通道上安装有与掩膜板存储设备相连的装载闸阀,所述处理通道上安装有与掩膜板处理设备相连的处理闸阀;所述上轨道位于所述真空腔室内且一端与所述掩膜板存储设备的输出轨道相连,另一端与所述真空镀膜机的输入轨道相连;所述下轨道位于所述真空腔室内且一端与所述掩膜板存储设备的输入轨道相连,另一端与所述真空镀膜机的输出轨道相连,所述下轨道位于所述上轨道下方;所述夹持机构用于夹取和释放掩膜板,且所述夹持机构可在所述上轨道和下轨道上移动;所述处理传输装置包括接收机构和滚轮传输机构,所述接收机构包括接收台和升降驱动机构,所述接收台位于所述上轨道和下轨道的下方,所述升降驱动机构驱动所述接收台做升降运动;所述滚轮传输机构位于所述接收台两侧且所述滚轮传输机构的一端与所述处理通道的一端相连,所述处理通道的另一端与所述掩膜板处理设备连通。所述真空装置包括真空抽放气装置和真空检测装置,所述真空抽放气装置包括充气装置、抽气装置,所述充气装置及抽气装置分别与所述通气孔连通,所述真空检测装置内置于所述真空腔室内并与所述充气装置及抽气装置电连接。
较佳地,所述夹持机构包括夹持板、顶轮机构和夹持驱动装置,所述夹持板可在所述上轨道和下轨道上移动且该夹持板上具有若干夹子,所述顶轮机构位于所述夹子的上方,所述夹持驱动装置驱动所述顶轮机构做升降动作,所述顶轮机构触压所述夹子的顶部并控制所述夹子打开或者关闭。所述顶轮机构上具有若干顶轮,且每个顶轮均位于与之相对应的夹子的正上方,打开夹子时,只需控制所述顶轮机构下降,直至顶轮机构上的顶轮机构触压夹子的顶部,使得夹子打开。
具体地,所述夹子包括抓持部、固定座、扭转弹簧和弹簧轴,所述抓持部包括夹子主体、沿所述夹子主体两端向内侧延伸的夹子上部和夹子下部,所述固定座包括左侧部、右侧部、以及连接所述左侧部和右侧部的底座,所述左侧部和右侧部固定在所述夹持板上;所述弹簧轴的两端安装在所述左侧部和右侧部上,所述夹子主体位于所述左侧部和右侧部之间,且所述夹子主体穿过所述弹簧轴并与所述固定座枢接,所述夹子上部与所述底座之间形成弹簧抵触区,所述扭转弹簧穿过所述弹簧轴,且所述扭转弹簧的上支撑点与所述夹子上部抵触,所述扭转弹簧的下支撑点与所述底座抵触。
较佳地,所述滚轮传输机构包括滚轮驱动机构、滚轮机构和挡轮机构,所述滚轮机构位于所述接收台的两侧,且所述滚轮机构的一端与所述处理通道相连,所述挡轮机构位于所述滚轮机构的另一端,所述滚轮驱动机构驱动所述滚轮机构转动。
具体地,所述滚轮机构包括滚轮架、滚轮轴、挡轮和滚轮,所述挡轮和滚轮呈阶梯状安装在所述滚轮轴上,且所述挡轮的直径大于所述滚轮的直径。更具体地,所述滚轮外包覆有橡胶层。滚轮机构输送掩膜板时,掩膜板的下表面与所述滚轮的橡胶层直接接触,不但保证了滚轮与掩膜板之间的传输力,也使得掩膜板在滚轮机构上的传输平稳。
较佳地,所述上轨道和下轨道均包括轨道部和驱动部,所述驱动部驱动夹持机构在所述轨道部上移动。所述上轨道用于将夹持机构从掩膜板存储设备的输出轨道输送到真空镀膜机的输入轨道中,当夹持板位于上轨道的轨道部上时,上轨道的驱动部驱动夹持板从装载通道向镀膜通道方向移动;所述下轨道用于将夹持机构从真空镀膜机的输出轨道输送到掩膜板存储设备的输入轨道中,当夹持板位于下轨道的轨道部上时,下轨道的驱动部驱动夹持板从装载通道向镀膜通道方向移动。
本发明还提供了一种使用上述真空连续镀膜系统进行连续装卸掩膜板的方法,包括以下步骤:(1)开启真空抽放气装置,直至真空腔室内的气压与真空镀膜机的气压相同;(2)打开镀膜闸阀和装载闸阀,将掩膜板存储设备中的掩膜板通过夹持机构输送至真空镀膜机中进行镀膜,关闭镀膜闸阀和装载闸阀;(3)完成镀膜后,开启真空抽放气装置,直至真空腔室内的气压与真空镀膜机的气压相同;(4)打开镀膜闸阀,将完成镀膜的掩膜板通过夹持机构送至接收台正上方,关闭镀膜闸阀;(5)夹持机构释放掩膜板至接收台上,接收台将掩膜板送至滚轮传输机构上;(6)打开处理闸阀,滚轮传输机构将掩膜板输送至掩膜板处理设备内进行处理,关闭处理闸阀;(7)掩膜板处理后,打开处理闸阀,处理后的掩膜板进入滚轮传输机构,并通过滚轮传输机构输送至接收台正上方,关闭处理闸阀;(8)接收台将掩膜板输送至夹持机构处,夹持机构夹持所述掩膜板;及(9)打开装载闸阀,将掩膜板通过夹持机构输送至掩膜板存储设备内进行存储,关闭装载闸阀。
本发明还提供了第二种使用上述真空连续镀膜系统进行连续装卸掩膜板的方法,包括以下步骤:(1)开启真空抽放气装置,直至真空腔室内的气压与真空镀膜机的气压相同;(2)打开镀膜闸阀和装载闸阀,将掩膜板存储设备中的掩膜板通过夹持机构输送至真空镀膜机中进行镀膜,关闭镀膜闸阀和装载闸阀;(3)完成镀膜后,开启真空抽放气装置,直至所述真空腔室内的气压与真空镀膜机的气压相同;(4)打开镀膜闸阀,将完成镀膜的掩膜板通过夹持机构送至接收台正上方,关闭镀膜闸阀;(5)夹持机构释放掩膜板至接收台上,接收台将掩膜板送至滚轮传输机构上;(6)打开处理闸阀,滚轮传输机构将掩膜板输送至掩膜板处理设备内进行处理,关闭处理闸阀;(7)掩膜板处理后,打开处理闸阀,处理后的掩膜板进入滚轮传输机构,并通过滚轮传输机构输送至接收台,关闭处理闸阀;(8)接收台将掩膜板输送至夹持机构处,夹持机构夹持所述掩膜板;(9)开启真空抽放气装置,直至真空腔室内的气压与真空镀膜机的气压相同;及(10)打开镀膜闸阀,掩膜板被夹持机构带入真空镀膜机内进行镀膜,关闭镀膜闸阀。
本发明真空连续镀膜系统包括掩膜板存储设备、真空镀膜机、掩膜板传输设备和掩膜板处理设备,且所述掩膜板传输设备分别与所述掩膜板存储设备、真空镀膜机和掩膜板处理设备连通,所述掩膜板存储设备通过所述掩膜板传输设备为所述真空镀膜机提供镀膜用掩膜板并回收完成镀膜后的掩膜板,所述掩膜板处理设备对完成镀膜后的掩膜板进行清洗或维修,并将清洗或维修完的所述掩膜板通过所述掩膜板传输设备送入所述掩膜板存储设备存储或真空镀膜机。与现有技术相比,本发明的掩膜板传输设备分别与所述掩膜板存储设备、真空镀膜机和掩膜板处理设备连通,镀膜时,完成镀膜的掩膜板可以输送至掩膜板处理设备处理后,再输入掩膜板存储设备存放待用,或者处理后直接通过掩膜板传输设备输送至真空镀膜机使用,使得掩膜板可以在连续高速的镀膜工作中循环使用,提高了掩膜板的装卸速度,保证了镀膜的工作效率。
本发明提供了两种使用上述真空连续镀膜系统进行连续装卸掩膜板的方法,第一种方法是先将镀膜板从掩膜板存储设备输送到真空镀膜机中进行镀膜,镀膜完成后再将真空镀膜机中的掩膜板输送到掩膜板处理设备中进行清洗或维修,最后再将处理(清洗或维修)好的掩膜板从掩膜板处理设备输送到掩膜板存储设备中存储,即掩膜板的装卸路径是:掩膜板存储设备—真空镀膜机—掩膜板处理设备—掩膜板存储设备,按照上述路径不断循环,从而对真空镀膜提供连续的可循环利用的掩膜板。第二种方法是先将镀膜板从掩膜板存储设备输送到真空镀膜机中进行镀膜,镀膜完成后再将真空镀膜机中的掩膜板输送到掩膜板处理设备中进行清洗或维修,最后再将清洗或维修好的掩膜板从掩膜板处理设备输送到真空镀膜机,即掩膜板的装卸路径是:掩膜板存储设备—真空镀膜机—掩膜板处理设备—真空镀膜机,接下来掩膜板沿“真空镀膜机—掩膜板处理设备”这一路径不断循环,从而对真空镀膜提供连续的可循环利用的掩膜板。当然,有时候为了方便,可以将上述两种方法交叉使用,从而更加快速的为真空镀膜提供连续的可循环利用的掩膜板。
附图说明
图1是本发明真空连续镀膜系统从真空镀膜机输出掩膜板的示意图。
图2是本发明真空连续镀膜系统向掩膜板处理设备输送掩膜板的示意图。
图3是本发明真空连续镀膜系统处理后的掩膜板输送至掩膜板传输设备的示意图。
图4是本发明真空连续镀膜系统对真空镀膜机输入掩膜板的示意图。
图5是本发明所述夹持板的结构示意图。
图6是本发明所述夹持板的另一结构示意图。
图7是本发明所述夹子的结构示意图。
图8是本发明所述夹子的另一结构示意图。
图9是本发明所述夹子的剖面图。
具体实施方式
为详细说明本发明的技术内容、构造特征、所实现目的及效果,以下结合实施方式并配合附图详予说明。
本发明真空连续镀膜系统,用于真空连续镀膜装卸掩膜板设备的开发,所述真空连续镀膜系统包括掩膜板存储设备、真空镀膜机、掩膜板传输设备100和掩膜板处理设备,所述掩膜板存储设备内存储若干掩膜板70,所述掩膜板传输设备100分别与所述掩膜板存储设备、真空镀膜机和掩膜板处理设备连通,所述掩膜板存储设备通过所述掩膜板传输设备100为所述真空镀膜机提供镀膜用掩膜板70并回收完成镀膜后的掩膜板70,所述掩膜板处理设备对完成镀膜后的掩膜板70进行清洗或维修,并将清洗或维修完的所述掩膜板70通过所述掩膜板传输设备100送入所述掩膜板存储设备存储或真空镀膜机。具体地,所述掩膜板传输设备100包括真空腔室10、上轨道21、下轨道22、夹持机构30以及掩膜板传输机构,参考图1-图9,详细说明真空连续镀膜系统的结构及其工作原理。
参考图1-图4,所述真空腔室10的腔壁上开设有装载通道11、处理通道13、镀膜通道12以及通气孔14,所述镀膜通道12与所述装载通道11位置相对;所述镀膜通道12上安装有与真空镀膜机相连的镀膜闸阀121,所述装载通道11上安装有与掩膜板存储设备相连的装载闸阀111,所述处理通道13上安装有与掩膜板处理设备相连的处理闸阀131。
参考图1-图4,所述掩膜板传输设备100包括真空装置,该真空装置包括真空抽放气装置和真空检测装置143,所述真空抽放气装置包括充气装置142、抽气装置141,所述充气装置142及抽气装置141分别与所述通气孔14连通,所述真空检测装置143内置于所述真空腔室10内并与所述充气装置142及抽气装置141电连接。
参考图2和图3,所述上轨道21位于真空腔室10内且其一端与所述掩膜板存储设备的输出轨道相连通,所述上轨道21的另一端与所述真空镀膜机的输入轨道相连通;所述下轨道22位于所述上轨道21下方且其一端与所述掩膜板存储设备的输入轨道相连通,另一端与所述真空镀膜机的输出轨道相连通。具体地,所述上轨道21和下轨道22均包括轨道部和驱动部,所述夹持机构31在所述轨道部上移动,工作时所述驱动部驱动所述轨道部上的夹持机构30沿所述轨道部移动。从图中可以看出,上轨道21和下轨道22均位于装载通道11与镀膜通道12之间,当夹持机构30从掩膜板存储设备的输出轨道输出时,打开装载闸阀111和镀膜闸阀121,夹持机构30穿过装载通道11进入上轨道21的轨道部,上轨道21的驱动部驱动该轨道部上的夹持机构30向镀膜通道12方向移动,直至夹持机构30穿过镀膜通道12进入真空镀膜机的输入轨道上;当夹持机构30从真空镀膜机的输出轨道输出时,打开镀膜闸阀,夹持机构30穿过镀膜通道12进入下轨道22的轨道部,下轨道22的驱动部驱动该轨道部上的夹持机构30向装载通道11方向移动,直至夹持机构30穿过装载通道11进入掩膜板存储设备的输入轨道上。
参考图5-图9,描述夹持机构30的结构,所述夹持机构30用于夹取和释放掩膜板70,所述夹持机构可在所述上轨道21和下轨道22上移动。具体地,参考图1、图5和图6,所述夹持机构30包括夹持板31、顶轮机构33和夹持驱动装置(图中未示),所述夹持板31上具有若干夹子32,所述顶轮机构33上具有若干顶轮,上述顶轮与所述夹子32一一对应且位于所述夹子32的正上方,所述夹持驱动装置驱动所述顶轮机构33做升降动作,使所述顶轮机构33触压所述夹子32的顶部并控制夹持板31上的夹子32打开或者关闭,所述夹持板31可在所述上轨道21和下轨道22上移动。
具体地,参考图7-图9,所述夹子32包括抓持部321、固定座322、扭转弹簧323和弹簧轴324,所述抓持部321包括夹子主体3211、沿所述夹子主体3211两端向内侧延伸的夹子上部3212和夹子下部3213,所述固定座322包括左侧部3221、右侧部3222、以及连接所述左侧部3221和右侧部3222的底座3223,所述左侧部3221和右侧部3222固定在所述夹持板31上;所述弹簧轴324的两端与所述左侧部3221和右侧部3222相连,所述夹子主体3211贯穿所述弹簧轴324并与所述固定座322枢接,所述夹子32上部与所述底座3223之间形成弹簧抵触区325,所述夹子32下部与所述底座之间形成抓持区326;所述扭转弹簧323贯穿所述弹簧轴324,且所述扭转弹簧323的上支撑点3231与所述夹子32上部抵触,所述扭转弹簧323的下支撑点3232与所述底座3223抵触。
参考图1-图4,所述处理传输装置包括接收机构和滚轮传输机构60,所述接收机构包括接收台41和升降驱动机构,所述接收台41位于所述上轨道21和下轨道22的下方,所述升降驱动机构驱动所述接收台41做升降运动;所述滚轮传输机构60位于所述接收台41两侧,所述滚轮传输机构60的一端与所述处理通道13相连。其中,接收台41用于将掩膜板70从夹持机构31上输送至滚轮传输机构60上,或者将滚轮传输机构60上的掩膜板70输送至夹持机构31上。滚轮传输机构60用于将从接收台41输送过来的掩膜板70经过处理通道13中输送至掩膜板处理设备中(参考图2),或者将从掩膜板处理设备输入进来的掩膜板70输送至接收台41的正上方(参考图3)。
具体地,参考图2和图3,所述滚轮传输机构60包括滚轮驱动机构、滚轮机构50和挡轮机构61,所述滚轮机构50位于所述接收台41的两侧,所述滚轮驱动机构驱动所述滚轮机构50旋转,所述滚轮机构50的一端与所述处理通道13相连通,所述挡轮机构61位于所述滚轮机构50远离所述处理通道13的一端。更具体地,参考图1和图4,所述滚轮机构50包括滚轮架51、滚轮轴53、挡轮52和滚轮54,所述挡轮52和滚轮54呈阶梯状安装所述滚轮轴53,且所述挡轮52的直径大于所述滚轮54的直径,滚轮驱动机构动作时,滚轮54绕滚轮轴53旋转并带动其上是掩膜板70移动。更具体地,所述滚轮54外包覆有橡胶层。
参考图1和图2,将需要清洗或者维修的掩膜板70从真空镀膜机输出到掩膜板处理设备时,先通过下轨道22将夹持有掩膜板70的夹持机构沿箭头A(见图1)方向输送到接收台41的正上方,升降驱动机构驱动接收台41上升,顶轮机构33的顶轮沿箭头方向(见图6)下压,完成镀膜的掩膜板70被释放,掩膜板70与夹持机构30分离,接收台41下降,直至将掩膜板70释放在滚轮机构50上,滚轮机构50带动所述掩膜板70沿箭头B(见图2)方向穿过处理通道13输送至掩膜板处理设备中;参考图3-图4,将清洗或维修后的掩膜板70从掩膜板处理设备输入到真空镀膜机时,掩膜板70通过处理通道13沿箭头C(见图3)方向进入滚轮机构50的滚轮54上,直至行至挡轮机构61的阻挡轮时,滚轮机构50的滚轮54停止转动,未装掩膜板70的夹持板31沿上轨道21行至接收台41的正上方,顶轮机构33的顶柱下压,夹持板31的夹子32被打开,升降驱动机构驱动接收台41上升,直至将掩膜板70托起到夹持板31的夹子32的位置,顶轮机构33的顶轮上升,夹子32关闭,掩膜板70被夹持机构15夹持并沿箭头D(见图4)方向顺着上轨道21带回到真空镀膜机的输入轨道内。
参考图1至图4,详细描述使用本发明所述真空连续镀膜系统进行连续装卸掩膜板的方法,主要分为三大部分:
第一部分,将掩膜板存储设备中的掩膜板70输送至真空镀膜机中进行镀膜,具体包括以下步骤:
(1)开启真空抽放气装置,直至真空检测装置143检测到所述真空腔室10内的气压与相邻的真空镀膜机和掩膜板处理设备的气压相近;(2)打开装载闸阀111和镀膜闸阀121,夹持有掩膜板70的夹持板31从掩膜板存储设备的输出轨道进入本发明的上轨道21,上轨道21的驱动部动作,使得夹持板31沿箭头D(见图4)方向顺着上轨道21的轨道部进入到真空镀膜机的输入轨道,关闭镀膜闸阀121和装载闸阀111,装有掩膜板70的夹持板31从真空镀膜机的输入轨道进入真空镀膜机中进行镀膜工作。
第二部分,将完成镀膜的掩膜板70从真空镀膜机中输出,并输送至掩膜板处理设备中进行清洗或维修等处理,具体包括以下步骤:
(3)完成镀膜后,开启真空抽放气装置,直至所述真空腔室10内的气压与真空镀膜机和掩膜板处理设备内的气压相同;(4)打开镀膜闸阀121,装有掩膜板70的夹持板31沿箭头A方向(见图1)从真空镀膜机的输出轨道输出,并进入本发明的下轨道22,夹持板31在下轨道22上移动,直至夹持板31行至所述接收台41正上方时,下轨道22的驱动部停止运行,关闭镀膜闸阀121;(5)升降驱动机构驱动所述接收台41上升,直至接收台41接触(或接近)所述掩膜板70下表面;顶轮机构33的顶轮沿箭头方向(见图6)下压,夹子32被打开,掩膜板70与夹持机构30分离,完成镀膜的掩膜板70被释放到接收台41上;升降驱动机构驱动所述接收台41下降,直至所述掩膜板70承载于滚轮机构50的滚轮54上;(6)打开处理闸阀131,滚轮驱动机构带动滚轮机构50转动,随着滚轮机构50的转动,位于滚轮机构50上的掩膜板70沿箭头B(见图2)方向穿过处理通道13进入掩膜板处理设备中,进行相应的清洗或维护操作,关闭处理闸阀131。
第三部分,掩膜板70清洗或维修好后,根据实际需要选择将处理后的掩膜板70输入到掩膜板存储设备中存储或者重新输送至真空镀膜机中镀膜,具体如下:
若选择将处理好的掩膜板70从掩膜板处理设备输送至掩膜板存储设备中等待装载使用时,包括以下步骤:
(7)掩膜板70处理完成后,打开处理闸阀131,处理后的掩膜板70沿箭头C(见图3)方向从掩膜板处理设备穿过处理闸阀131进入所述滚轮机构50的滚轮54上,关闭处理闸阀131;(8)滚轮驱动机构驱动滚轮54旋转,直至掩膜板70当行至挡轮机构61的阻挡轮时,滚轮驱动机构停止运行,此时掩膜板70位于接收台41的正上方;(9)顶轮机构33的顶柱下压,夹持板31的夹子32被打开;升降驱动机构驱动接收台41上升,直至将掩膜板70托起到夹持板31的夹子32的位置;顶轮机构33的顶轮上升,夹子32关闭,所述夹持机构30夹持所述掩膜板70;(10)打开装载闸阀111,上轨道21的驱动部运动,直至将夹持机构15上的掩膜板70沿箭头D(见图4)方向顺着上轨道21进入真空镀膜机的输入轨道,关闭装载闸阀111,掩膜板沿上述输入轨道进入掩膜板存储设备中以待装载。
若选择将处理好的掩膜板70从掩膜板处理设备输直接送至真空镀膜机中进行镀膜,包括以下步骤:
(7`)掩膜板处理后,打开处理闸阀131,清洗或维修完成后的掩膜板70沿箭头C(见图3)方向从掩膜板处理设备穿过处理闸阀131进入所述滚轮机构50的滚轮54上,关闭处理闸阀;(8`)滚轮驱动机构驱动滚轮54旋转,直至掩膜板70当行至挡轮机构61的阻挡轮时,滚轮驱动机构停止运行,此时掩膜板70位于接收台41的正上方;(9`)打开装载闸阀111,未装有掩膜板70的夹持板31从沿下轨道进入掩膜板存储设备的输入轨道,再沿掩膜板存储设备的输出轨道穿过装载通道11进入上轨道21,关闭装载闸阀111,夹持板31在上轨道21上沿箭头D(见图4)方向移动,当夹持板31行至接收台41正上方时停止移动;(10`)顶轮机构33的顶柱下压,夹持板31的夹子32被打开,升降驱动机构驱动接收台41上升,直至将掩膜板70托起到夹持板31的夹子32的位置,顶轮机构33的顶轮上升,夹子32关闭,所述夹持机构30夹持所述掩膜板70;(11`)开启真空抽放气装置,直至所述真空腔室10内的气压与真空镀膜机的气压相同,打开镀膜闸阀121,上轨道21的驱动部运动,直至将夹持机构15上的掩膜板70沿箭头D(见图4)方向顺着上轨道21带回到真空镀膜机的输入轨道内,关闭镀膜闸阀121,掩膜板70沿真空镀膜机的输入轨道进入真空镀膜机内完成镀膜。其中,步骤(9`)可在完成步骤(7`)和步骤(8`)的同时完成。
其中,上轨道21和下轨道22的运行方向和位置关系均可以调换,真空镀膜机,掩膜板存储设备和掩膜板处理设备的安装位置也可以调换。另,文中涉及的各种驱动机构或者驱动部即可由电机组成,也可由气缸、油缸等动力源组成。
其中,本发明是通过镀膜控制系统控制的,该镀膜控制系统与本发明真空连续镀膜系统电连接,通过镀膜控制系统可以控制真空连续镀膜系统中各部件的动作,这个镀膜控制系统可以根据本发明的操作方法由本领域技术人员自行完成。
以上所揭露的仅为本发明的优选实施例而已,当然不能以此来限定本发明之权利范围,因此依本发明申请专利范围所作的等同变化,仍属本发明所涵盖的范围。

Claims (8)

1.一种真空连续镀膜系统,包括掩膜板存储设备、真空镀膜机及掩膜板传输设备,所述掩膜板存储设备内存储若干掩膜板,所述掩膜板传输设备分别与所述掩膜板存储设备及所述真空镀膜机连通,所述掩膜板存储设备通过所述掩膜板传输设备为所述真空镀膜机提供镀膜用掩膜板并回收完成镀膜后的掩膜板,其特征在于:还包括与所述掩膜板传输设备连通的掩膜板处理设备,所述掩膜板处理设备对完成镀膜后的掩膜板进行清洗或维修,并将清洗或维修完的掩膜板通过所述掩膜板传输设备送入所述掩膜板存储设备存储或真空镀膜机,所述掩膜板传输设备包括:
真空腔室,所述真空腔室的腔壁上开设有装载通道、处理通道、镀膜通道以及通气孔,所述镀膜通道上安装有与真空镀膜机相连的镀膜闸阀,所述装载通道上安装有与掩膜板存储设备相连的装载闸阀,所述处理通道上安装有与掩膜板处理设备相连的处理闸阀;
上轨道,所述上轨道位于所述真空腔室内且一端与所述掩膜板存储设备的输出轨道相连,另一端与所述真空镀膜机的输入轨道相连;
下轨道,所述下轨道位于所述真空腔室内且一端与所述掩膜板存储设备的输入轨道相连,另一端与所述真空镀膜机的输出轨道相连,所述下轨道位于所述上轨道下方;
夹持机构,所述夹持机构用于夹取和释放掩膜板,且所述夹持机构可在所述上轨道和下轨道上移动;
处理传输装置,所述处理传输装置包括接收机构和滚轮传输机构,所述接收机构包括接收台和升降驱动机构,所述接收台位于所述上轨道和下轨道的下方,所述升降驱动机构驱动所述接收台做升降运动;所述滚轮传输机构位于所述接收台两侧且所述滚轮传输机构的一端与所述处理通道的一端相连,所述处理通道的另一端与所述掩膜板处理设备连通;
真空装置,所述真空装置包括真空抽放气装置和真空检测装置,所述真空抽放气装置包括充气装置、抽气装置,所述充气装置及抽气装置分别与所述通气孔连通,所述真空检测装置内置于所述真空腔室内并与所述充气装置及抽气装置电连接。
2.如权利要求1所述的真空连续镀膜系统,其特征在于:所述夹持机构包括夹持板、顶轮机构和夹持驱动装置,所述夹持板可在所述上轨道和下轨道上移动,所述夹持板上具有若干夹子,所述顶轮机构位于所述夹子的上方,所述夹持驱动装置驱动所述顶轮机构做升降动作,所述顶轮机构触压所述夹子的顶部并控制所述夹子打开或者关闭。
3.如权利要求2所述的真空连续镀膜系统,其特征在于:所述夹子包括抓持部、固定座、扭转弹簧和弹簧轴,所述抓持部包括夹子主体、沿所述夹子主体两端向内侧延伸的夹子上部和夹子下部,所述固定座包括左侧部、右侧部、以及连接所述左侧部和右侧部的底座,所述左侧部和右侧部固定在所述夹持板上;所述弹簧轴的两端安装在所述左侧部和右侧部上,所述夹子主体位于所述左侧部和右侧部之间,且所述夹子主体穿过所述弹簧轴并与所述固定座枢接,所述夹子上部与所述底座之间形成弹簧抵触区,所述扭转弹簧穿过所述弹簧轴,且所述扭转弹簧的上支撑点与所述夹子上部抵触,所述扭转弹簧的下支撑点与所述底座抵触。
4.如权利要求1所述的真空连续镀膜系统,其特征在于:所述滚轮传输机构包括滚轮驱动机构、滚轮机构和挡轮机构,所述滚轮机构位于所述接收台的两侧,且所述滚轮机构的一端与所述处理通道相连,所述挡轮机构位于所述滚轮机构的另一端,所述滚轮驱动机构驱动所述滚轮机构转动。
5.如权利要求4所述的真空连续镀膜系统,其特征在于:所述滚轮机构包括滚轮架、滚轮轴、挡轮和滚轮,所述挡轮和滚轮呈阶梯状安装在所述滚轮轴上,且所述挡轮的直径大于所述滚轮的直径。
6.如权利要求1所述的真空连续镀膜系统,其特征在于:所述上轨道和下轨道均包括轨道部和驱动部,所述驱动部驱动夹持机构在所述轨道部上移动。
7.一种使用如权利要求1所述的真空连续镀膜系统进行连续装卸掩膜板的方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)开启真空抽放气装置,直至真空腔室内的气压与真空镀膜机的气压相同;
(2)打开镀膜闸阀和装载闸阀,将掩膜板存储设备中的掩膜板通过夹持机构输送至真空镀膜机中进行镀膜,关闭镀膜闸阀和装载闸阀;
(3)完成镀膜后,开启真空抽放气装置,直至真空腔室内的气压与真空镀膜机的气压相同;
(4)打开镀膜闸阀,将完成镀膜的掩膜板通过夹持机构送至接收台正上方,关闭镀膜闸阀;
(5)夹持机构将掩膜板释放至接收台上,接收台将掩膜板送至滚轮传输机构上;
(6)打开处理闸阀,滚轮传输机构将掩膜板输送至掩膜板处理设备内进行处理,关闭处理闸阀;
(7)掩膜板处理后,打开处理闸阀,处理后的掩膜板进入滚轮传输机构,并通过滚轮传输机构输送至接收台正上方,关闭处理闸阀;
(8)接收台将掩膜板输送至夹持机构处,夹持机构夹持所述掩膜板;
(9)打开装载闸阀,将掩膜板通过夹持机构输送至掩膜板存储设备内进行存储,关闭装载闸阀。
8.一种使用如权利要求1所述的真空连续镀膜系统进行连续装卸掩膜板的方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)开启真空抽放气装置,直至真空腔室内的气压与真空镀膜机的气压相同;
(2)打开镀膜闸阀和装载闸阀,将掩膜板存储设备中的掩膜板通过夹持机构输送至真空镀膜机中进行镀膜,关闭镀膜闸阀和装载闸阀;
(3)完成镀膜后,开启真空抽放气装置,直至真空腔室内的气压与真空镀膜机的气压相同;
(4)打开镀膜闸阀,将完成镀膜的掩膜板通过夹持机构送至接收台正上方,关闭镀膜闸阀;
(5)夹持机构将掩膜板释放至接收台上,接收台将掩膜板送至滚轮传输机构上;
(6)打开处理闸阀,滚轮传输机构将掩膜板输送至掩膜板处理设备内进行处理,关闭处理闸阀;
(7)掩膜板处理后,打开处理闸阀,处理后的掩膜板进入滚轮传输机构,并通过滚轮传输机构输送至接收台,关闭处理闸阀;
(8)接收台将掩膜板输送至夹持机构处,夹持机构夹持所述掩膜板;
(9)开启真空抽放气装置,直至真空腔室内的气压与真空镀膜机的气压相同;
(10)打开镀膜闸阀,掩膜板被夹持机构带入真空镀膜机内进行镀膜,关闭镀膜闸阀。
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