CN101936409A - 供气单元和供气装置 - Google Patents

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    • C23C16/45565Shower nozzles

Abstract

提供能够缩小设有多个开闭阀的块的宽度且易于制造的供气单元。供气单元(11)的流路块(20)形成为呈长条状延伸的长方体形状,顶面(20a)搭载有多个呈直列式配置的开闭阀(50)。各开闭阀的各阀室(24)设于流路块的顶面。处理气体流路(22)与阀室(24)的大致中央连通并向背离流路块的顶面的方向延伸且于底面开口。载气流路(21)连接相邻的开闭阀的阀室,且包括侧面流路(25),该侧面流路(25)沿流路块的长度方向交替地设于流路块的两侧面(20c)的一个侧面(20c)与另一个侧面(20c)上。侧面流路(25)由沿流路块的长度方向延伸的槽部和覆盖槽部的槽开口的盖部件构成。

Description

供气单元和供气装置
技术领域
本发明涉及使多种气体切换流通的供气单元。
背景技术
以往,用于半导体制造工序等中的供气单元如专利文献1中所述。参照附图11至14对专利文献1所述的供气单元进行说明。图11是供气单元的平面图,图12是图11中12-12线的截面图,图13是图11中13-13线的截面图。
在上述专利文献1所示的供气单元311中,在载气输入端口321s和载气输出端口321e之间形成有1条载气流路321,各阀块320A~320D形成有连通处理气体输入端口322s和载气流路321的处理气体流路322。
各阀块320A~320D中,通过开闭阀350在块体335内对处理气体流路322和载气流路321执行通断操作。块体335的内部形成有倒“V”字型的块状流路331,与阀室324连通的处理气体流路322通过阀孔325与流路331连通。在基块340中形成有“V”字型的块状流路332并且各块状流路332之间设置有间隔,阀块320A~320D的各块状流路331与基块340的块状流路332进行直列式而构成1条载气流路321。
专利文献1:国际公开第2004/036099号
发明内容
但是,专利文献1中,在与设有开闭阀350的侧面部335a垂直的侧面部335c设有处理气体输入端口322s,因此,需要在阀块320A~320D的侧面确保配设处理气体端口322s所需的空间。在此,可以考虑将处理气体流路322延伸至与上述侧面部335a平行的侧面部335b后使其开口,但是,这种情况下会出现载气流路321和处理气体流路322A(用双点划线表示)发生干扰的问题。因此,很难缩小阀块320A~320D的宽度(图13中左右方向的长度)或者并行排列供气单元311使其高度集成化。
此外,专利文献1中,各阀块320A~320D的块状流路331与基块340的块状流路332分别形成“V”字型并连接。但是,以这种“V”字型加工形成较长的细流路并不容易。
本发明是鉴于以上问题而提出的,主要目的在于提供能够缩小设有多个开闭阀的块的宽度且易于制造的供气单元。
为了解决上述问题,采用以下方式。
本发明第1方面提供一种供气单元,其包括内部设有流路的流路块,所述流路包括主流路和多个分别与所述主流路连通的副流路,对每一所述副流路设有开闭阀,所述开闭阀阻断和连通所对应的所述副流路和所述主流路,其特征在于,所述流路块形成为呈长条状延伸的长方体形状,包括阀搭载面和副流路开口面并且所述阀搭载面和所述副流路开口面是位于相反两侧的面,所述阀搭载面搭载有所述开闭阀,所述副流路的开口设置于所述副流路开口面,所述开闭阀沿所述阀搭载面的长度方向进行直列式排列,所述开闭阀的各阀室设于所述阀搭载面,所述副流路连通所述阀室的大致中央部分并向背离所述阀搭载面的方向延伸,所述副流路在所述副流路开口面形成开口,所述主流路连接相邻的所述开闭阀的所述阀室并包括侧面流路,所述侧面流路设于所述流路块中从宽度方向夹持所述阀搭载面的两侧面的至少一个侧面,所述侧面流路由沿着所述阀搭载面的长度方向延伸的槽部和覆盖所述槽部的槽开口的盖部件构成。
根据上述结构,副流路在所述流路块的与所述阀搭载面相反一侧的副流路开口面形成开口,因此,无需在从宽度方向夹持搭载有开闭阀(阀室)的阀搭载面的两侧面设置处理气体的输入端口。因此,能够缩小设有多个开闭阀的流路块的宽度。
此外,在所述流路块中,主流路包括设于从宽度方向夹持所述阀搭载面的两侧面中的至少一个侧面并且沿所述阀搭载面的长度方向延伸的侧面流路,因此,能够缩短主流路中除侧面流路以外的部分的长度。这里,侧面流路由沿所述阀搭载面的长度方向延伸的槽部和覆盖所述槽部的槽开口的盖部件构成,因此,即使侧面流路为细长的流路也易于形成。因此,流路块中易于形成主流路,进而易于制造供气单元。此外,能将流路块内部至流路块侧面(表面)的部分用作侧面流路,因此能在流路块内有效地配置流路。从而能够缩小设有多个开闭阀的流路块的宽度。
本发明第2方面在于,在本发明第1方面中,在所述流路块中,所述侧面流路沿所述阀搭载面的长度方向交替地设于从宽度方向夹持所述阀搭载面的两侧面中的一个侧面和另一个侧面上,因此,能够避免关于阀搭载面的长度方向相邻的侧面流路之间的干扰。因此,能够延长主流路中易于形成的侧面流路的长度,并能够进一步缩短除侧面流路以外的部分的长度。
本发明第3方面在于,在本发明第2方面中,在所述流路块中,设于从宽度方向夹持所述阀搭载面的两侧面中的一个侧面和另一个侧面并且关于所述阀搭载面的长度方向相邻的所述侧面流路具有在所述阀搭载面的长度方向上在设有所述阀室的位置处相互重叠的部分,因此,能够通过沿阀搭载面的宽度方向延伸的流路并经由阀室连接这些重叠部分。从而能够缩短连接侧面流路和阀室的流路的长度,即,主流路中除侧面流路以外的部分的长度。
本发明第4方面在于,在本发明第1方面中,所述侧面流路只设于所述流路块中从宽度方向夹持所述阀搭载面的两侧面中的一个侧面,所以形成侧面流路时无需将流路块翻过来加工。从而能够提高制造供气单元的操作性和加工性。
本发明第5方面在于,在本发明第1至第4任一方面中,所述主流路在夹持所述副流路和所述阀室的连通部的位置处分别与同一个所述阀室连接,因此,阀室内流通的载气(吹扫气体)易于通过副流路和阀室的连通部。即,从上游侧的主流路流入阀室的载气易于通过副流路和阀室的连通部向下游侧的主流路进行直线式流通。因此,易于通过载气运送从副流路向阀室流通的处理气体,并且,当处理气体被阻断时,能够通过吹扫气体快速排出阀室内的处理气体。
如上所述,根据本发明的供气单元,无需在从宽度方向夹持设有开闭阀(阀室)的阀搭载面的两侧面设置处理气体的输入端口,所以,如本发明第6方面那样,具备多个由本发明第1至第5任一方面所述的供气单元,所述供气单元并行排列使得从宽度方向夹持所述阀搭载面的两侧面相互抵接,由此,能够缩小各供气单元的宽度,并能省略供气单元之间的间隙。其结果,能使供气装置实现高度集成化。
本发明第7方面在于,在本发明第1至第5任一方面中,在所述流路块中,从宽度方向夹持所述阀搭载面的两侧面中设有所述侧面流路的部分设置有加热器,因此,能使侧面流路和加热器靠近。因此,能够有效地对流通于侧面流路的气体进行加热。
本发明第8方面在于,具备多个由本发明第1至第5任一方面所述的供气单元,所述供气单元并行排列使得从宽度方向夹持所述阀搭载面的两侧面相互抵接,且加热器被夹持在所述相邻的供气单元的所述侧面之间,因此,能够通过1个加热器对相邻的两个供气单元进行加热。此外,即使如本发明第2方面那样,所述侧面流路沿着所述阀搭载面的长度方向交替地设于所述流路块中从宽度方向夹持所述阀搭载面的两侧面中的一个侧面和另一个侧面上的情况下,由于对2个侧面均设置加热器,因此,也能够有效地对流通于侧面流路的气体加热。
附图说明
图1是本发明第1实施方式的供气单元的平面图。
图2是图1中2-2线的截面图。
图3是图1中3-3线的截面图,仅图示了流路块。
图4是图3中4-4线的截面图,仅代表性图示了其中一部分。
图5是本发明第2实施方式的供气单元的平面图。
图6是图5中6-6线的截面图。
图7是图6中7-7线的截面图,仅代表性地图示了1个流路块。
图8是表示供气单元的变形例的截面图。
图9是表示流路块的变形例的截面图。
图10是表示流路块的另一变形例的截面图。
图11是现有的供气单元的平面图。
图12是图11中12-12线的截面图。
图13是图11中13-13线的截面图。
附图标记说明
11供气单元
20流路块
20a作为阀搭载面的顶面
20c侧面
21作为主流路的载气流路
22作为副流路的处理气体流路
24阀室
25侧面流路
50开闭阀
具体实施方式
(第一实施方式)
以下,参照附图对具体体现本发明的第1实施方式进行说明。
如图1所示,供气装置10包括多个相同结构的供气单元11。这些供气单元11相互固定,作为一个整体被一体化。
供气单元11包括形成为呈长条状延伸的长方体形状的流路块20、及多个开闭阀50(50A)。流路块20的顶面20a(阀搭载面)搭载有开闭阀50。开闭阀50沿顶面20a的长度方向进行直列式排列。开闭阀50大致呈圆柱状。流路块20的顶面20a的宽度与开闭阀50的呈圆形的顶面的直径基本相等。此外,开闭阀50处于流路块20的顶面20a的宽度范围之内即可,并不限于大致圆柱状的形状,还可采用四方柱状等任意的形状。
在流路块20的顶面20a的宽度方向上(与长度方向垂直相交的方向),多个供气单元11的侧面20c相互抵接。即,多个供气单元11并行排列使得在流路块20中从宽度方向夹持顶面20a的两侧面20c相互抵接。因此,在叠加供气单元11的方向上,即,在流路块20的顶面20a的宽度方向上,各流路块20之间没有形成间隙。
流路块20的顶面20a的长度方向的一端部设有载气(吹扫气体)的输出端口29。设于与该输出端口29相反一侧的端部的开闭阀50A用于改变载气的流通状态,其他的开闭阀50改变各处理气体的流通状态。
下面,同时参照图2、图3,以1个供气单元11的结构为代表对其进行说明。图2是图1中2-2线的截面图,图3是图1中3-3线的截面图,图中省略了闭阀50。
流路块20的内部设有整体上沿流路块20的长度方向(顶面20a的长度方向)延伸的载气流路21(主流路)。载气流路21的下游侧的端部连接有载气的输出端口29。在流路块20中,载气流路21包括分别设于从宽度方向夹持顶面20a的两侧面20c的侧面流路25。侧面流路25沿顶面20a的长度方向交替地设于该两侧面20中的一个侧面20c和另一侧面20c上。即,在流路块20中,侧面流路25沿顶面20a的长度方向设置成锯齿形。
流路块20的内部设有多个分别与载气流路21连通的处理气体流路22(副流路)。处理气体流路22(22A)在流路块20的底面20b(副流路开口面)形成开口。处理气体流路22在底面20b的宽度方向(图3的左右方向)的中央形成开口。即,处理气体流路22的开口部在流路块20的宽度方向上均等地设置。处理气体流路22相对于顶面20a及底面20b垂直地设置。
在流路块20的底面20b,对每一处理气体流路22设有呈长条状延伸的大致长方体状的连接部件40。连接部件40通过螺栓44固定于流路块20。连接部件40的长度方向及宽度方向分别与流路块20的长度方向和宽度方向一致。连接部件40的宽度被设定为与流路块20的宽度相等。
连接部件40设有从其底面贯通顶面的直线形的导入流路42(42A)。导入流路42设于连接部件40的长度方向的中央,并设于连接部件40的宽度方向的中央。并且,各导入流路42与流路块20的各处理气体流路22连接。即,各导入流路42设于各处理气体流路22的延长线上。该导入流路42及处理气体流路22的连接部通过密封垫密封。导入流路42上游侧的端部(连接部件40的底面)设有输入端口42s作为连接部件40的突出部。导入流路42的输入端口42s与供应处理气体的配管连接。此外,与开闭阀50连接的导入流路42A(实际为载气流路)的输入端口42s连接有供应载气(吹扫气体)的配管。
在流路块20中,上述侧面流路25设于远离底面20b的位置处以避免与固定连接部件40的螺栓44发生干扰。换言之,在流路块20中侧面流路25设于阀室24的附近。在流路块20中所有的侧面流路25设置在距底面20b(顶面20a)相等距离的位置上。
在流路块20的顶面20a,沿流路块20的长度方向(顶面20a的长度方向)以预定间隔设有上述开闭阀50的阀室24。并且,上述各处理气体流路22与各阀室24连通。即,对每一处理气体流路22设置有开闭阀50。此外,相邻的开闭阀50的阀室24通过上述载气流路21连接。因此,各处理气体流路22通过各阀室24与载气流路21连接。
阀室24设于流路块20的宽度方向(流路块20的顶面20a的宽度方向)的中央。阀室24形成为大致圆形的凹部。并且,与流路块20的宽度方向的总长度大致一致地设置阀室24,以缩小流路块20的宽度。换言之,流路块20的宽度被设为与阀室24的直径大致相等或稍大。阀室24的中央设有阀座24a,该阀座24a与开闭阀50的阀体51抵接或脱离。阀座24a形成为大致圆环状的突部。
如上所述,侧面流路25沿顶面20a的长度方向交替地设于流路块20的两侧面20c中的一个侧面20c和另一侧面20c上。因此,在上游侧的载气流路21和下游侧的载气流路21连接同一阀室24的部分,能够避免相邻的侧面流路25彼此发生干扰。换言之,在上游侧的侧面流路25和下游侧的侧面流路25仅设于一个侧面20c的情况下,为使这些侧面流路25彼此不产生干扰,需要缩短侧面流路25的长度或使顶面20a到各侧面流路25的距离不同。
阀室24的中央即由阀座24a包围的部分连通有上述处理气体流路22。处理气体流路22向背离流路块20的顶面20a的方向延伸。处理气体流路22形成为直线状,且具有圆形的截面。在各处理气体流路22中,与各阀室24连接的连接部的附近比其他部分细,即,与各阀室24连接的连接部的附近的流路截面积比其他部分的流路截面积小。因此,可通过减小阀座24a的直径来缩小流路块20的宽度。
开闭阀50是电磁驱动式阀,通过对线圈52进行通电控制来往复驱动阀体51。并且,通过使阀体51抵接和脱离设于阀室24的阀座24a,可以阻断和连通上述处理气体流路22和阀室24。此外,开闭阀50不限于电磁驱动式阀,还可采用气动式阀或压电元件驱动式阀等任意形式的阀。
下面,参照图3、图4对载气流路21的结构进行详细说明。图4是图3中4-4线的截面图,仅代表性地对其中一部分进行了图示。
载气流路21由上述侧面流路25和连接流路27构成。与侧面流路25相比,连接流路27非常短。
如上所述,在流路块20中,侧面流路25分别设于从宽度方向夹持顶面20a的两侧面20c、即垂直于顶面20a的侧面20c。侧面流路25由沿着流路块20的长度方向延伸的槽部25a和覆盖槽部25a的槽开口的盖部件25构成。槽部25a是通过切削侧面20c的表面而形成的,其具有预定的宽度及深度。盖部件25b沿槽部25a延伸,通过焊接等方式固定于流路块20以使侧面流路25中流通的气体不会发生泄漏。盖部件25b的表面与流路块20的侧面20c的表面一致。因此,两侧面20c整体上形成为平面。因此,在并行排列多个流路块20使得侧面20c相互抵接的情况下,能够防止这些流路块20之间形成间隙。
对槽部25a进行设置使其不干扰处理气体流路22,并且,阀室24与槽部25a关于流路块20的宽度方向形成有重叠部分。并且,对槽部25a进行设置使得阀室24和槽部25a关于流路块20的长度方向(顶面20a的长度方向)形成有重叠部分。并且,设于流路块20的两侧面20c中的一个侧面20c和另一侧面20c并且关于流路块20的长度方向相邻的侧面流路25在流路块20的长度方向上在设有阀室24的位置处具有彼此重叠的重叠部分25d。因此,能够通过沿流路块20的宽度方向(顶面20a的宽度方向)延伸的连接流路27并经由阀室24将2个重叠部分25d连接。具体地,槽部25a和阀室24通过垂直于顶面20a的连接流路27相互连接。连接流路27具有大致圆形的截面,且被形成为具有一定的直径。
与同一阀室24连接的2个连接流路27、即上游侧的载气流路21及下游侧的载气流路21分别在夹持处理气体流路22和阀室24的连通部的位置处与阀室24连接。换言之,上游侧的连接流路27和阀室24的连通部、处理气体流路22和阀室24的连通部、及下游侧的连接流路27和阀室24的连通部排列在直线上。因此,从处理气体流路22向阀室24流通的处理气体易于通过载气进行输送,该载气从上游侧的连接流路27流到阀室24并从阀室24向下游侧的连接流路27流出。此外,在处理气体被开闭阀50隔断的情况下,从上游侧的连接流路27向阀室24流通的载气在阀座24a的周围流通并从阀室24向下游侧的连接流路27流出。因此,能够防止处理残留于气体阀室24内。
在上述结构的供气单元11中,多个处理气体流路22中的处理气体流路22A被用作载气(吹扫气体)的流路,该处理气体流路22A设于供气单元11的长度方向上与载气的输出端口29相反一侧的端部。并且,通过该处理气体流路22A所对应的开闭阀50A使载气阻断和流通。对其他处理气体流路22供给各处理气体,并通过各自对应的开闭阀50使各处理气体阻断和连通。此外,通过并行排列的供气单元11构成供气装置10,对载气及处理气体的流通状态进行整体控制。此外,还可以构成为:在载气流路21中不流通载气,而将其作为处理气体及吹扫气体的流路。
以上详述的本实施方式具有以下优点。
在流路块20中,处理气体流路22在与顶面20a相反一侧的底面20b形成开口,其中,顶面20a搭载有开闭阀50(阀室24)。因此,无需在垂直于顶面20a的侧面20c设置处理气体的输入端口。因此,能够缩小设有多个开闭阀50的流路块20的宽度。
此外,在流路块20中,载气流路21包括侧面流路25,侧面流路25设于从宽度方向夹持顶面20a的两侧面20c的至少一个侧面并且沿流路块20的长度方向(顶面20a的长度方向)延伸。因此,能够缩短载气流路21中除侧面流路25以外的部分即连接流路27的长度。这里,侧面流路25由沿流路块20的长度方向延伸的槽部25a和覆盖槽部25a的开口的盖部件25b构成,因此,即使侧面流路25a是细长的流路也易于形成。因此,易于在流路块20中形成载气流路21,进而能够易于制造供气单元11。并且,能将流路块20的内部至流路块的侧面20c(表面)的部分用作侧面流路25,所以能够在流路块20内有效地设置流路。其结果,能够缩小流路块20的宽度。
在流路块20中,侧面流路25沿流路块20的长度方向交替地设于从宽度方向夹持顶面20a的两侧面20c中的一个侧面20c和另一侧面20c上,因此能够防止关于流路块20的长度方向相邻的侧面流路25之间相互干扰。从而,能够将载气流路21中容易形成的部分即侧面流路25设定为较长的的长度,并将侧面流路25以外的部分即连接流路27设定为较短的长度。
关于流路块20的长度方向相邻的侧面流路25具有在流路块20的长度方向上设有阀室24的位置处彼此叠合的重叠部分25d,因此能够通过沿流路块20的宽度方向(顶面20a的宽度方向)延伸的流路并经由阀室24连接这些重叠部分25d。因此,能够缩短连接侧面流路25和阀室24的连接流路27的长度,即,载气流路21中除侧面流路25以外部分的长度。
上游侧及下游侧的载气流路21在夹持处理气体流路22和阀室24的连通部的位置处分别与同一阀室24相连接,因此,阀室24内流通的载气容易经过处理气体流路22和阀室24的连通部。即,从上游侧的载气流路21流入阀室24的载气易于经由处理气体流路22和阀室24的连通部向下游侧的载气流路21进行直线式流通。因此,易于通过载气输送从处理气体流路22流入阀室24的处理气体,并且,在处理气体被阻隔时,能够迅速排出阀室24内的处理气体。
本实施方式的供气单元11中,无需在与搭载有开闭阀50(阀室24)的顶面20a垂直的侧面20c设置处理气体的输入端口。此外,供气装置10包括多个供气单元11,且供气单元11并行排列使得从宽度方向夹持顶面20a的两侧面20c相互抵接。因此,能够缩小各供气单元11的宽度,并能够省略供气单元11之间的间隙。其结果,能够使供气装置10实现高度集成化。
(第二实施方式)
以下,参照附图对具体体现本发明的第2实施方式进行说明,其中主要说明其与第1实施方式的不同点。第2实施方式中,如图5所示,只在流路块120的两侧面120c中的一个侧面120c设有侧面流路125,这一点与第1实施方式不同。此外,对与第1实施方式相同的部件使用相同的符号标记,并省略其说明。
供气单元111包括形成为呈长条状延伸的长方体形状的流路块120、多个辅助流路块60、及多个开闭阀50(50A)。各开闭阀50通过各辅助流路块60搭载于流路块120的顶面。辅助流路块60及开闭阀50沿流路块120的顶面的长度方向(流路块120的长度方向)进行直列式排列。
辅助流路块60形成为呈长条状延伸的大致长方体形状。辅助流路块60固定于流路块120的顶面。辅助流路块60的长度方向及宽度方向分别与流路块120的长度方向及宽度方向一致。辅助流路块60的宽度被设定为与流路块120的宽度相等。上述开闭阀50分别搭载于各辅助流路块60的顶面120a(阀搭载面)。在流路块120及辅助流路块60被看做流路块整体时,各辅助流路块60的各顶面120a可被看做流路块整体的顶面(阀搭载面)。流路块整体的长度方向及宽度方向分别与流路块120的长度方向和宽度方向一致。
下面,同时参照图6,以1个供气单元111的结构为代表对其进行说明。此外,图6是图5中6-6线的截面图。
流路块120的内部设有整体上在流路块120的长度方向上延伸的载气流路121(主流路)。载气流路121下游侧的端部连接有载气的输出端口29。在流路块120中,载气流路121包括侧面流路125,仅在从宽度方向夹持顶面的两侧面120c、即、与流路块120的顶面(辅助流路块60的顶面120a)垂直的两侧面120c中的一个侧面120c设有上述侧面流路125。侧面流路125沿流路块120的长度方向延伸。
流路块120及辅助流路块60的内部分别设有与载气流路121连通的处理气体流路22及辅助处理气体流路62(副流路)。处理气体流路22及辅助处理气体流路62进行直列式连接,其连接部通过密封垫密封。处理气体流路22的基本结构与第1实施方式的处理气体流路22相同,因此这里省略说明。辅助处理气体流路62从辅助流路块60的底面朝向顶面呈直线状延伸。辅助处理气体流路62设于辅助流路块60的长度方向的中央位置,且设于辅助流路块60的宽度方向的中央位置。各辅助处理气体流路62设于各处理气体流路22的延长线上。
辅助流路块60的顶面120a设有上述开闭阀的阀室124。阀室124的基本结构与第1实施方式的阀室24相同,因此这里省略其说明。并且,上述各辅助处理气体流路62连通各阀室124。即,对每一辅助处理气体流路62(处理气体流路22)设有开闭阀50。处理气体流路22通过辅助处理气体流路62连接阀室124。此外,相邻的开闭阀50的阀室124通过上述载气流路121相互连接。因此,各处理气体流路22及辅助处理气体流路62通过各阀室124连接载气流路121。开闭阀50通过阀体51隔断和连通辅助处理气体流路62(处理气体流路22)和阀室124。
如上所述,载气流路121包括只设于流路块120的两侧面120c中的一个侧面120c的侧面流路125。侧面流路125沿流路块120的长度方向延伸。这里,在上游侧的侧面流路125和下游侧的侧面流路125与同一阀室124连接的部分中,将上述侧面流路125彼此隔开设置以避免这些侧面流路125相互干扰。并且,这些侧面流路125通过设于流路块120内部的连接流路127a、127b以及设于辅助流路块60内部的辅助连接流路67连接开闭阀50的阀室124。辅助连接流路67沿着流路块120的长度方向并相对于辅助流路块60的底面斜向进行直线式延伸。即使在此情况下,由于载气流路121包括沿流路块120的长度方向延伸的侧面流路125,因此也能够防止辅助连接流路67的长度增加。连接流路127b和辅助连接流路67的连接部通过密封垫密封。
连接同一阀室124的2个辅助连接流路67、即上游侧的载气流路121及下游侧的载气流路121分别在夹持辅助处理气体流路62和阀室124的连通部的位置与阀室124连接。因此,从辅助处理气体流路62向阀室124流通的处理气体易于通过载气进行输送,其中,该载气从上游侧的辅助连接流路67流入阀室124并从阀室124向下游侧的辅助连接流路67流出。此外,在处理气体被开闭阀50隔断时,能够防止处理气体残留于阀室124内。
下面,同时参照图7对侧面流路125及连接流路127a、127b的结构进行详细说明。图7是图6中7-7线的截面图,以1个流路块120为代表进行说明。
上述载气流路121由侧面流路125、连接流路127a、127b、及辅助连接流路67构成。连接流路127a、127b及辅助连接流路67的长度小于侧面流路125的长度。
除了下述两点之外,侧面流路125的结构与第1实施方式的侧面流路25基本相同,即:侧面流路125只设于流路块120的两侧面120c中的一个侧面120c;侧面流路125比第1实施方式的侧面流路25短。侧面流路125由沿流路块120的长度方向延伸的槽部125a、和覆盖槽部125a的槽开口的板状盖部件125b构成。
在流路块120的长度方向上,在侧面流路125的端部连通有向流路块120的宽度方向延伸的连接流路127a。连接流路127a从其与侧面流路125(槽部125a)之间的连通部直线式地延伸到流路块120的宽度方向的中央。因此,可在形成侧面流路125的槽部125a之后从侧面120c的方向通过钻孔器等形成连接流路127a。
在流路块120的宽度方向的中央,连接流路127a的端部与上述连接流路127b的端部连通。该连接流路127b从其与在流路块120的宽度方向上延伸的连接流路127a之间的连通部向辅助流路块60的方向进行直线式延伸并于流路块120的顶面形成开口。因此,可从流路块120的上面的方向通过钻孔器等形成连接流路127b。连接流路127b设置为垂直于辅助流路块60的顶面120a(流路块120的底面120b)。并且,连接流路127b与设于辅助流路块60的上述辅助连接流路67连接。
即使在上述结构的供气单元111中,也能像第1实施方式的供气单元11同样地对载气及处理气体的流通状态进行控制。
以上详述的本实施方式具有以下优点。下面,只对其不同于第1实施方式的优点进行说明。
侧面流路125只设于流路块120的两侧面120c中的一个侧面120c,因此,在形成侧面流路125时无需将流路块120翻过来加工。因此,能够提高制造供气单元111的操作性和加工性。
本发明不限于上述实施方式,例如还可如下实施。
载气流路121的上游侧及下游侧的端部也可以在流路块120的长度方向的端面形成开口。这种情况下,使处理气体从处理气体流路22A流入,开闭阀50A隔断或连通处理气体。此外,在供气单元11(111)之外另行设置用于改变载气的流通状态的开闭阀即可。
第1实施方式的供气单元11中,沿流路块20的长度方向交替地设于与搭载有开闭阀50的顶面20a垂直的2个侧面20c上的侧面流路25,也可以不包括在流路块20的长度方向上在设有阀室24的位置处相互叠合的重叠部分25d。如图8所示,即使是这种结构,通过在流路块20的宽度方向上适当地延长连接流路227,也能够连接侧面流路25和阀室24。
也可以如图9所示,在侧面流路25只设于流路块20的两侧面20c中的一个侧面20c的结构中,通过连接流路227连接侧面流路25和阀室24而无需通过辅助流路块60。
通过阀室24(124)连接的载气流路21(121)在夹持处理气体流路22(辅助处理气体流路62)和阀室24(124)的连接部的位置处与阀室24(124)连接,但本发明并不限于这种配置。也可采用载气流路21(121)只在1个位置与各阀室24(124)连通的结构。
如图10所示,也可以采用在与流路块20的顶面20a垂直的侧面20c中设有侧面流路25的部分设置加热器70的结构。这里,加热器70设于2个侧面20c的几乎整个面上。根据这种结构,侧面流路25和加热器70靠近,因此能够有效地加热流通于侧面流路25的气体。此外,也可以对应于侧面流路25,在2个侧面20c上沿着流路块20的长度方向交替地设置加热器70,其中,侧面流路25沿着流路块20的长度方向交替地设于流路块20的2个侧面20c上。在第2实施方式的流路块120中,由于侧面流路125只设于一个侧面120c,所以,也可以将加热器只设于该设有侧面流路125的一个侧面120c。此外,如图10所示,可以通过将加热器70形成为沿流路块20的长度方向延伸的薄片状或薄膜状,防止供气单元11的宽度增大。
还可以并行设置多个供气单元11(111)使得流路块20(120)的两侧面20c(120c)相互抵接,且设置加热器使其被夹持在相邻的供气单元11(111)的侧面20c(120c)之间。根据这种结构,可以通过1个加热器来加热相邻的两个供气单元11(111)。并且,即使如第1实施方式的供气单元11那样,侧面流路25沿流路块20的长度方向交替地设于2个侧面20c上,由于对2个侧面20c设置加热器,因而也能够有效地加热流通于侧面流路25的气体。即,即使是侧面流路25设于流路块20的两侧面20c的结构,也能通过与侧面流路25只设于一个侧面20c的结构相同数量的加热器来加热流通于侧面流路25的气体。
图1、图5中,还可以通过连接多个供气单元11(111)的输出端口29来组合多个供气单元11(111)从而对气体的种类和流量进行控制。

Claims (8)

1.供气单元,包括内部设有流路的流路块,所述流路包括主流路和多个分别与所述主流路连通的副流路,对每一所述副流路设有开闭阀,所述开闭阀阻断和连通所对应的所述副流路和所述主流路,其特征在于:
所述流路块形成为呈长条状延伸的长方体状,包括阀搭载面和副流路开口面并且所述阀搭载面和所述副流路开口面是位于相反两侧的面,其中,所述阀搭载面搭载有所述开闭阀,所述副流路的开口设置于所述副流路开口面;
所述开闭阀沿所述阀搭载面的长度方向进行直列式配置,所述开闭阀的各阀室设于所述阀搭载面;
所述副流路连通所述阀室的大致中央部分并且向背离所述阀搭载面的方向延伸,所述副流路的开口形成于所述副流路开口面;
所述主流路连接相邻的所述开闭阀的所述阀室,并包括侧面流路,所述侧面流路设于所述流路块中从宽度方向夹持所述阀搭载面的两侧面中的至少一个侧面上,所述侧面流路由沿着所述阀搭载面的长度方向延伸的槽部和覆盖所述槽部的槽开口的盖部件构成。
2.根据权利要求1所述的供气单元,其特征在于,所述侧面流路沿所述阀搭载面的长度方向交替地设于所述流路块中从宽度方向夹持所述阀搭载面的两侧面的一个侧面和另一侧面上。
3.根据权利要求2所述的供气单元,其特征在于,设于所述流路块中从宽度方向夹持所述阀搭载面的两侧面的一个侧面和另一侧面且关于所述阀搭载面的长度方向相邻的所述侧面流路包括在所述阀搭载面的长度方向上在设有所述阀室的位置处相互重叠的部分。
4.根据权利要求1所述的供气单元,其特征在于,在所述流路块中,所述侧面流路只设于从宽度方向夹持所述阀搭载面的两侧面中的一个侧面。
5.根据权利要求1至4的任一项所述的供气单元,其特征在于,所述主流路分别在夹持所述副流路和所述阀室的连通部的位置与同一个所述阀室连接。
6.供气装置,其特征在于,包括多个由权利要求1至5的任一项所述的供气单元,且所述供气单元并行设置使得从宽度方向夹持所述阀搭载面的两侧面相互抵接。
7.根据权利要求1至5的任一项所述的供气单元,其特征在于,所述流路块中从宽度方向夹持所述阀搭载面的两侧面中设置有所述侧面流路的部分设有加热器。
8.供气装置,其特征在于,
包括多个由权利要求1至5的任一项所述的供气单元,并且,该多个供气单元并行设置使得从宽度方向夹持所述阀搭载面的两侧面相互抵接;
加热器被夹持在所述相邻的供气单元的所述侧面之间。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110494686A (zh) * 2017-03-28 2019-11-22 株式会社富士金 接头块和使用该接头块的流体控制装置

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI646278B (zh) * 2013-12-05 2019-01-01 Ckd股份有限公司 Piping joint, fluid supply control device, and piping connection structure
JP6404101B2 (ja) * 2013-12-05 2018-10-10 Ckd株式会社 配管継手、流体供給制御装置、及び配管接続構造
JP6751552B2 (ja) * 2015-06-04 2020-09-09 サーパス工業株式会社 流体機器
KR102543187B1 (ko) 2018-11-09 2023-06-15 삼성전자주식회사 밸브 장치

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63110775U (zh) * 1987-01-12 1988-07-16
US6216739B1 (en) * 1999-04-30 2001-04-17 Benkan Corporation Integrated gas control device
US20050284529A1 (en) * 2004-06-25 2005-12-29 Toshiaki Iwabuchi Integrated gas control device

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000035148A (ja) * 1998-07-22 2000-02-02 Hitachi Metals Ltd 集積形流体制御装置
JP4487135B2 (ja) * 2001-03-05 2010-06-23 東京エレクトロン株式会社 流体制御装置
JP2004340199A (ja) * 2003-05-14 2004-12-02 Fujikin Inc 加熱装置付き流体制御装置
JP2008014390A (ja) * 2006-07-05 2008-01-24 Hitachi Metals Ltd 集積形流体制御装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63110775U (zh) * 1987-01-12 1988-07-16
US6216739B1 (en) * 1999-04-30 2001-04-17 Benkan Corporation Integrated gas control device
US20050284529A1 (en) * 2004-06-25 2005-12-29 Toshiaki Iwabuchi Integrated gas control device
JP2006009969A (ja) * 2004-06-25 2006-01-12 Kitz Sct:Kk 集積化ガス制御装置用流路ブロックとその製造方法並びに集積化ガス制御装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110494686A (zh) * 2017-03-28 2019-11-22 株式会社富士金 接头块和使用该接头块的流体控制装置

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